Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Кремниевые планарные транзисторы

..pdf
Скачиваний:
21
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
17.57 Mб
Скачать

ку дифференциальное сопротивление гдР.п

[формула (5.13)] убывает

с током / э , и обратно пропорциональна

емкости эмиттерного р-п

перехода. В качестве иллюстрации рассмотрим следующий числовой

пример. Для

маломощных

ВЧ

транзисторов обычно

Сд

та 10

пФ

и

/ э % 10 мА.

Поэтому

из

(5.14)

при

Іэ =

1 мА

и

Іэ

= 10

мА,

Ф г

= 0,026 В получаем,

что /

=

610

и 6100

МГц

соответственно.

В случае СВЧ мощного

транзистора Сэ та 100 пф

и Iв<

1000

мА.

При Сд = 100 п Ф и / э =

100 мА fy

=

6100 МГц.

 

 

 

 

 

Зависимость коэффициента переноса от частоты. Другим важ­

ным параметром, зависящим от частоты и обусловливающим спад коэффициентов усиления а(со) и ß(co), является коэффициент перено­ са носителей через базу ß„(co). Рассмотрим частотную зависимость

коэффициента ßn(co) на примере п-р-п

планарного

транзистора.

При

подаче

переменного

сигнала

на эмиттерный р-п

переход

AUgp.n(t)

 

=

U g p . n

m

exp (j(ùt)

в базе

р-типа происходит измене­

ние полного заряда электронов dQn(t)/dt

вследствие трех процессов:

1) втекания электронов из эмиттера, т. е, электронной состав­

ляющей тока эмиттера AIng(t)

=

I n g m

е

х

Р (/©О;

 

 

 

 

 

2) вытекания электронов из базы в коллектор, т. е. электрон­

ной составляющей тока коллектора AInK(t)

=

I

n K

m

X е х Р 0е 0 /);

3) рекомбинации

 

электронов

и дырок в базе — Qn(t)/tn>

где т п

время жизни электронов в базе.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Следовательно,

имеем следующее

уравнение:

 

 

 

 

 

 

 

dQn {t)ldt = Ingmexp(j<ùt)—InKm1

 

 

 

Qn

(l) |/т„.

 

(5.16)

Скорость

изменения электронного заряда в

базе

можно

пере­

писать

в

следующем

виде:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dQn

(t)/dt = (dQn/dUg6)(dUg6/dt)

= С э Д И ф dUrt/dt,

 

 

(5.17)

где С Э

д и

ф =

dQJdU

 

э б — диффузионная

 

емкость

эмиттера,

кото­

рая в отличие

от

барьерной

емкости

[см. равенство

(5.11)] ха­

рактеризует изменение заряда неосновных носителей — электро­

нов—в

базе р-типа

под влиянием переменного эмиттерного напря­

жения.

 

 

 

С учетом равенства (5.17) уравнение (5.16) перепишется в сле­

дующем

виде:

 

 

 

/ 0 т exp (/со/) = Сэ Д И ф dUtf/dt

+ Qn (t)/rn,

где,

очевидно,

/б т ехр(/со/) = /„ э т

exp (/со*) — / п к т е х р (/со/)

•— сумма составляющих базового тока, идущих на зарядку диффу­

зионной

емкости

С Э Д И ф и на

рекомбинацию

с электронами

Qn/rn

в квазинейтральной базе. С ростом частоты

со переменного

сигнала

растет

емкостная

составляющая базового

тока

Сэ m^dU

g6!dt

=

= /соСэдиф^эб m е х Р (/to/),

а

поэтому убывает

электронный

ток

коллектора при со —>- оо

 

 

 

 

 

 

 

 

А . к т е х р (/со/) = I

n g

m exp (/со/) — І

exp (/со/).

 

 

130

Следовательно, и

коэффициент переноса стремится к нулю:

ßn

0й ) = Inv.m/1-път |

—>• 0.

Заметим, что уравнение (5.16) — основное уравнение в методе заряда, используемом для анализа переходных процессов в тран­

зисторах (см. § 7.2). Для

расчета зависимости ß n

= ßn(co)

выразим

электронный заряд в базе

Qn

через электронный ток коллектора Іпк.

Для этого введем

новый

параметр tnp

:

время

пролета

неоснов­

ных носителей — в данном случае электронов — через базу:

 

 

 

к

 

 

 

 

 

 

 

 

f - 7 V

 

 

 

(5.18)

где v(x) — полная

скорость движения

носителей

(с учетом

диффу­

зии и дрейфа). Величина ѵ(х) находится из уравнения

 

Іп (х) = qVn (х)Е

(х)п

(*) + qDn (x)(dn

(x)fdx) =

qv {x) n(x). (5.19)

Отсюда получаем, что

 

 

 

 

 

 

V (x) = Щ = ѴП

(*) Е (x)

 

 

+Dn{x)(-±-)x

 

qn(x)

' • "

< '

-

» s

, K n { x

)

 

x { ^ ) = V d i x } + D A x ) ( i L ) l n n w -

 

(5-2°)

Сдругой стороны, формулу (5.18), очевидно, можно переписать

вследующем виде:

t

n p

f

qSBn (x, t) dx

_ CqSg

n (x,

t) dx _

\ Qn (ï) |

(5.21)

)

qS9n{x,t)v{x)

J

In(x,t)

 

Inn(t)

'

поскольку для не слишком высоких частот электронный ток от эмит­ тера к коллектору можно считать в первом приближении не завися­ щим от координаты 1п(х^) = 0,95 — 0,99 Іп{х'э). Из равенства (5.21) находим электронный заряд в базе

 

 

 

< Ш = ' П к ( ' ) ' „ р .

 

 

(5-22)

Подставляя

(5.22)

в

(5.16),

получаем ; W n p І п к т =

Іпдт

Iпит

— — lnvm-

Отсюда

находим

коэффициент

переноса

 

 

Тп

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ß n H - - ^ L = , a1

-

ß r

R '

 

( 5 - 2 3 )

 

 

 

 

'пат

" T j W n p

Рпо

 

 

где ß n 0

= (1 +

^ п р / т п ) - 1

та 1 — tuvlxn

— низкочастотный

коэффи­

циент

переноса электронов

через базу.

Равенство

(5.23) можно пе-

5*

131

реписать в другом виде, если ввести граничную частоту сор коэффи­ циента переноса:

 

^

« Р

( 5 - 2 4 )

 

 

Рпо'пр

'пр

 

поскольку в

реальных приборах

ß n 0 > 0,97 — 0,99. С учетом

(5.24) из (5.23) находим

 

 

 

Модуль

коэффициента

переноса

n (to)|, очевидно,

изменяется

с частотой по закону

 

 

 

 

B (e>)| = - 7 = P " B

(5.26)

Из формулы (5.26) легко находится смысл граничной частоты cog".

 

l ß n K ) l = ßno/"K2 = 0

, 7 0 7 ß n 0 ,

т. е. на этой

частоте коэффициент переноса убывает в У~2 раз по

сравнению с

низкочастотным значением

ß n 0 . Из равенства (5.25)

можно также определить сдвиг фаз ср между электронными токами

эмиттера и коллектора на частотах

СО

<

coß.

 

В

самом деле, из (5.25) следует, что

 

 

/ п к т

= / п э т Ш

+ ( « / « р ) 2 ] " 1 -

/

(C0/(uß)[l + (Cû/Cûp)2]"1}.

Тогда

 

 

 

 

 

 

 

 

 

tg ф =

Im ( / „ „ J / R e пкт)

= — to/cop.

 

На частоте

to = coß

 

 

 

 

 

 

Re ( / n B m ) =

I Im пкт)

 

 

I - Іпэт ß n 0 - 0,5 «

0 , 5 / n s m .

Теперь рассмотрим частотную зависимость коэффициента уси­

ления

по току в схеме с общим эмиттером В(со). По определению,

 

В И = LUhm

- ßn И

Yn

(Cû)/[1—ß„ (Cû) Y n (»)].

(5.27)

Предположим для простоты, что коэффициент инжекции уп(со) почти не зависит от частоты в рассматриваемом диапазоне частот со,

где заметно изменяется коэффициент переноса

ßn (co), т. е. положим

уп(а>) = уп0,

где

уп0

— низкочастотное

значение

коэффициента

инжекции.

Очевидно,

что это допущение

будет справедливо

при

достаточно

больших

постоянных токах

/ э ,

когда

согласно

фор­

мулам (5.14) и (5.24)

C Û y >

coß.

 

 

 

 

 

Подставляя в формулу (5.27) выражение (5.25), после простых

преобразований

находим,

что

В(а>) =

а 0 / ( 1 — а 0

+ / • ö/cuß) =

BJ{\ + ( / •

C D / C Û p ) S 0 ] ,

гдеа„

=

ß N 0 T „ 0 и В0 =

а0 /(1

а0 ) — низко­

частотные значения коэффициентов усиления по току в схеме с об­ щей базой и общим эмиттером соответственно. Введем понятие гра-

132

ничной частоты коэффициента усиления по току в схеме с общим эмиттером

 

 

u>B = ö ß / B 0 .

 

(5.28)

Тогда зависимость коэффициента В = В(ы) может быть

записана

в следующем виде:

 

 

 

 

 

ß(cu) = ß 0 /( l + /-cö/coß ).

 

(5.29)

Из выражения (5.29) найдем модуль коэффициента усиления

 

| В ( ( О ) |

= Д О / К 1 +

((Й/<ЙВ)».

 

(5.30)

При со =

сод получаем,

что | В((ав)

\ = BJY~2,

т. е. на гранич­

ной частоте ® в модуль коэффициента

усиления

| ß((oß ) |

убывает

в ]/1Г раз по сравнению с низкочастотным значением В0.

 

При ^

(3 — 4) coß формула (5.30) упрощается:

 

 

|ß (со) I ю = В0 ©в = of,

 

(5.31)

где

 

 

 

 

 

 

 

а>т = В0ав

 

 

(5.32)

— предельная частота усиления по току в схеме с общим эмиттером, если пренебречь влиянием барьерных емкостей эмиттерного и кол­ лекторного р-п переходов. В зарубежной литературе ©f назы­ вается также произведением усиления на полосу частот или частот­ ной отсечки [78]. Как видно из равенства (5.31), при ю = «f модуль коэффициента усиления по току | В(ат) | равен 1. Если в равенство (5.32) подставить выражение (5.28) для граничной частоты u)ß, то тогда получим cof = (Oß, т. е. в рассмотренном приближенном подходе предельная частота cof коэффициента усиления В((д) сов­ падает с граничной частотой коэффициента переноса (öß.

Существует более строгий подход для расчета явной зависи­

мости ß n =

ß„ (m), основанный на решении нестационарного урав­

нения

непрерывности

для

электронов в

квазинейтральной

базе

[xl <

X <

хк ):

 

 

 

 

 

 

* L ^ A

= - L f / А ( х , 0 -

(5.33)

 

 

at

q

ox

t n

 

где

/„ (X, t) = <7ЦЛ (x) E (X) n (X, t) + qDn

(x) dn (x, t)/dx.

(5.34)

 

Решение (5.33) с учетом (5.34) даже в простейшем случае эк­ споненциального распределения примесей в базе, когда поле Е постоянно и определяется соотношением (3.76), и постоянной по­ движности цп(х) = \іпСѵ, имеет весьма громоздкий вид (см., на­ пример, монографию [47]). В этом случае, как показано в [46], для дрейфовых триодов граничная частота коэффициента переноса сор всегда больше предельной частоты a»f [формула (5.24)] в 1,4—1,6 ра-

133

за. Для кремниевых планарных транзисторов подвижность и коэф­ фициент диффузии электронов в базе возрастают в 2—3 раза при дви­ жении от эмиттерного р-п перехода к коллекторному. Кроме того, в базе таких приборов существует участок тормозящего поля наря­ ду с участком ускоряющего поля, как показано в § 3.1. С учетом этих обстоятельств найти решение уравнения (5.33) в аналитическом виде невозможно. Поэтому к настоящему времени достаточно точные формулы, связывающие частоты coß и wf, для реальных планарных транзисторов отсутствуют.

Однако для инженерных расчетов с хорошей точностью можно

использовать формулу для частотной зависимости

коэффициента

переноса (5.25), заменив coß на

cof =

1//п р :

 

ß n H =

ß„o/(l +

/-cu/cof).

(5.35)

Для нахождения выражения для предельной частоты cof (в пре­ небрежении влиянием барьерных емкостей эмиттерного и коллек­ торного р-п переходов) необходимо вычислить время пролета / п р (5.18). Из равенства (5.21) следует, что

 

к

 

-ß—

f п (х) dx,

(5.36)

/пк

I J

 

где п(х) — стационарная концентрация инжектированных электтронов в базе в точке х; / п к — плотность постоянного коллектор­ ного тока. Таким образом, задача определения времени пролета неосновных носителей электронов через базу сводится к вычисле­ нию количества электронов, инжектированных в базу, приходящих-

хк

ся на единицу площади эмиттера ^ п(х) dx. Этот интеграл был

хъ

вычислен при расчете рекомбинационной составляющей базового тока / б а с использованием линейной аппроксимации (3.32) для рас­ пределения концентрации инжектированных электронов (см. § 3.3). Как следует из равенств (3.34) и (3.37а),

 

к

 

n(xl)0,6W6.

 

J

n(x)dx = n (х"э) ]~-

1

(5.37)

 

п{х'а)

 

Плотность

коллекторного тока / п к

находим по формуле

(3.23), по­

скольку

 

 

 

 

/пк = ßn / п Э = (0.97 — 0,99) / п э « / п э .

134

Так

как

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

п1 е х Р (иэ

р-пІѴт) =

пр (х"э) ехр

 

р-п

X

 

 

 

 

 

 

 

X

Na

 

(x")-Nd{x"3)

=-n{xl)

I -

Nd (х'9)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Na (Х'э)

 

Na {Х'а)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

то формула (3.23) принимает следующий вид:

 

 

 

 

 

 

!пк

'

 

 

qDn{x"3)n{xl)[\~Nd

(xl)INa

 

(лф]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ЭО

 

 

 

 

N,

 

 

 

 

 

 

 

Л І — —-- ехр -

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(Xgo) X

 

 

 

 

 

 

(

 

L a

 

 

 

 

 

'L„

 

Na

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 е Е 0 ( Ф к к + | У к р . „ | )

 

(5.38)

 

 

 

 

 

 

X

1 +

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

qN d

K La

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Подставляя

(5.37) и (5.38) в выражение

(5.36),

получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пр

Dn (x'L)

 

 

 

 

(5.39)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

множитель H определяется

формулой (3.39) и мало

отличается

от 1. Поэтому можно приближенно положить H = 1. Предельная

частота соf

 

=

1// п р

с учетом (5.39) равна

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

<ùï = Dn(xl)/LaW0.

 

 

 

 

(5.40)

 

Согласно (5.40) частота cof обратно

пропорциональна толщине

квазинейтральной базы W6,

определяемой по формуле

(3.40),

пря­

мо

пропорциональна

напряженности

электрического поля в

базе

в области

(xm

<

x <

 

Х к )

Е = q>T/La

[см. формулу

(3.76)]

и ко­

эффициенту диффузии электронов в базе Dn(x£)

у границы х"а с змит-

терным р-п

 

переходом. Поскольку в п-р-п планарных транзисторах

концентрация

примесей

у

эмиттерного

р-п

 

перехода

Na{xl)

«

m

(3 — 10) 101 '

с м - 3 , a

y

коллекторного р-п

перехода

Nа{хЦ)

&

та 1016 с м - 3

при обычных напряжениях

на

коллекторе

| UKV.n

\ %

% 20 В , то

 

согласно

рис. 3.3, а коэффициент диффузии

электронов

Dn

ц>Тп

у эмиттерного

перехода

в 2,5—4 раза

меньше, чем у

коллекторного р-п перехода. Для сравнения заметим, что предель­

ная частота бездрейфового

транзистора cofб е 8 Д р согласно [46] равна

 

 

 

<»Гбездр = 2 0 п / № б -

(5.41)

В бездрейфовых транзисторах концентрация примесей в базе

постоянна

и

коэффициент

диффузии электронов Dn также

постоя­

нен (Dn(x's)

=

D „ ( X K ) ) .

И З сравнения (5.40) и (5 . 41) видно, что в без­

дрейфовых триодах частота

a»f сильнее зависит от толщины

квази-

нейтральной базы (wfб

е з д р

l/Wl), чем в дрейфовых планарных

транзисторах

cofд р ~

\IW6.

 

135

Разделив (5.40) на (5.41), находим, что

 

 

 

 

(of др/cof б е з др = (D„ (xZ)l2Dn)(W6/La).

 

 

(5.42)

Из равенства (5.42) следует, что различие в

частотах

дѵ

и (х)т бездр

уменьшается с уменьшением толщины

квазинейтральнои

базы W6.

При

типичных значениях Na(xB0)/NdK

=

3 • 102 -4-

-4- Ю - 10я,

L a =

0,175 -4- 0,145 № б 0 , NdK = (0,5—20)

10й

см~3

толщина квазинейтральной

базы согласно формуле (3.40) при рабо­

чих напряжениях UKP.n

« 5 — 20 В равна W6

œ 0,5

W60

та

Ä;(2,1 —3,4)La . Следовательно,

(of др/wf б е з д р та (1—1,70)

Dn(x$/Dn.

Кроме того, в бездрейфовых транзисторах концентрация приме­

сей в

базе

Na « 1016

см - 3 , тогда

согласно рис. 3.3,a,

Dn

=

= (ртп

«

30 см2 /с. В

дрейфовых

планарных

 

транзисторах

Na(xl)

=

(3—10)101 7

см-3 и Dn{xl)

= 114-7 см2 /с.

Таким об­

разом,

 

окончательно

имеем,

что

©гдр 1®т бездр

= (0,3 -4- 0,4)

(1 -4- 1,7) =

0,30 -4- 0,68, т. е.

из-за

уменьшения

подвижности и

коэффициента диффузии электронов вследствие сильного примес­ ного рассеяния у эмиттерного р-п перехода предельная частота o f в планарных п-р-п транзисторах оказывается меньше предельной

частоты бездрейфового транзистора

с той же толщиной квазинейт­

ральной базы.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рассчитаем по формуле (5.40) частоту oof для некоторых

серий­

ных п-р-п

планарных транзисторов. У СВЧ транзистора

 

КТ904

W60 =

0,7

мкм,

Na(x30)

=

 

1-1018 см-3 ,

NdK

= Ы О 1 5

см~3 ,

Dn{x"3)

= 7 см2

(при Nа(х'э)

ж

1 • 101 8

см - 3 ) . Следовательно,

L a =

W60/ln (Na(xa0)/NdK)

=

0,14

W00

=

0,1 мкм. При напря­

жении на коллекторе | UKP.n

\ =

10 В из формулы (3.40) находим

толщину

квазинейтральной

 

базы:

W6 = 3,3 L a = 0,33

мкм.

Тогда из (3.40) получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/г = — =

 

 

 

 

= 3300МГц = З.ЗГГц.

 

 

 

 

2л,

6 , 3 - 0 , Ы 0 - 4 - 0 , 3 3 - 1 0 - 4

 

 

 

 

 

У

высокочастотного

переключающего

транзистора

КТ603

W60 =

1 мкм;

Ыаэ0)

«

5 • 1017 см"3 ,

NdK

= 1 • 10" см~3 ,

Dn{xl)

= 9 см2 /с,

L a =

0,16

W60

= 0,16 мкм. Аналогичным об­

разом

из

(3.40) при | £ / к р . „ |

=

10 В

находим

W§ = 2,9

 

L a =

0,465 мкм.

Врезультате предельная частота / f для транзистора КТ603

равна

 

fr =

 

= 1900МГц = 1,9ГГц.

 

6 , 3 - 0 , 1 6 - 1 0 - 4 - 0 , 4 6 5 - Ю - 4

Для

сравнения

заметим,

что экспериментально измеренные значе­

ния

предельных

частот fT

при | UKP.n\ = 10 В для транзисторов

КТ904 при / к > 100 мА и КТ603 при / „ > 20 мА

составляют

0,7 — 1,0 ГГц и 900 — 400 МГц соответственно, т. е.

значительно

136

меньше рассчитанных значений / f без учета влияния барьерных емкостей эмиттерного и коллекторного р-п переходов.

Влияние емкости коллекторного р-п перехода на частотную за­ висимость коэффициентов усиления а(со) и В(а). До сих пор мы не

учитывали возможного влияния инерционности коллекторной це­ почки, содержащей емкость коллекторного р-п перехода Ск и со­ противления растекания высокоомного коллекторного слоя RK. Наличие емкости С к приводит к возникновению емкостных токов в коллекторном слое и в области базы. Под действием переменного

напряжения AUа б (t)]= і!эбтехр

(/со/)^из эмиттерного р-п перехода

в область активной базы

(—IJ2 < | у ^

+ /э /2 на рис. 4.1) ин­

жектируется переменный

ток электронов

А/ э (0 = IЭт е х

Р ( М О -

До границы коллекторного р-п перехода с активной базой

доходит

ток Yre(ö))ßn(co) I э т ехр (j(at).

Проходя через высокоомный

коллек­

торный слой, этот ток создает переменное падение напряжения на

нем: А с / к с л ( 0 =

UKcnm

ехр (jat).

Поскольку

\Um\

=

\ UKP.n

\

+

+ | £ / к с л | ,

то переменное напряжение, возникающее на

коллектор­

ном р-п переходе AUKp.n(t)

= UKP.nm

ехр (joui), будет всегда в про-

тивофазе

с напряжением AUKcn(t),

 

т.

е.

0 к с л т

ехр

(jat)

 

=

=

— t/к p-nm. ехр (j(àt).

Это означает,

что

в

тот

полупериод

сигнала,

когда

напряжение

на

высокоомном

слое

£ / к с л

+

+

с / к с л 7 П е х р (j(ùt) увеличивается, напряжение на участке коллек­

торного р-п перехода под активной базой (—IJ2

^

у

 

IJ2)

убы­

вает по абсолютной величине.

Следовательно, в этот полупериод коллекторный р-п переход несколько сужается и из коллекторного вывода вытекают электро­ ны, чтобы экранировать часть положительно заряженных доноров на границе р-п перехода и n-слоя. Аналогично из базового контакта втекают дырки, чтобы экранировать часть отрицательно заряжен­

ных акцепторов на границе х« квазинейтральной базы и

коллек­

торного р-п перехода.

 

 

 

 

 

Ток электронов АІС (t) = le

m ехр (jeaf),

заряжающий емкость

С К а активной части

коллектора,

направлен

противоположно

току

электронов а(со) / э т

е х р (/со/), выходящих

в

коллектор.

Поэтому

результирующий ток коллектора

І к т =

а ( ю ) / э т Іс

т

убы­

вает с ростом частоты переменного сигнала из-за увеличения емко­ стного тока /с т .

Вычислим зависимость амплитуды результирующего коллек­ торного тока от частоты І к т = Ікт((о), считая, что в цепи коллек­ тора отсутствует сопротивление нагрузки (/?„ = 0), т. е. цепь кол­ лектор — база короткозамкнута по переменному току. Если же имеется конечное сопротивление нагрузки (RH Ф 0), необходимо учитывать ответвление части коллекторного тока через п+-слой, затем через п-слой и емкость пассивной части коллекторного р-п перехода (за пределами эмиттеров) в базовый вывод. Эти физиче­ ские процессы можно отображать с помощью физической высоко­ частотной Т-образной эквивалентной схемы, показанной на рис.

137

Рис. 5.2. Высокочастот­ ная Т-образная эквива­ лентная схема транзис­ тора.

5.2. Как известно [46, 79], эквивалентные схемы транзистора поз­ воляют определить электрические свойства последнего как элемента схемы, так как они дают возможность найти соотношения между токами и напряжениями на входе и выходе.

На рис. 5.2 генератор тока 7(tö)ß(cö)/3 m отображает долю пере­ менного тока эмиттера, доходящего до коллекторного р-п перехода;

С К а

— емкость активной части коллекторного р-п перехода и R K

сопротивление

растекания

высокоомного слоя под этой частью

р-п

перехода;

С к п , RKn

емкость пассивной

части коллекторного

р-п

перехода и сопротивление высокоомного

слоя под ней. Нако­

нец, ré поперечное распределенное сопротивление базового слоя

под эмиттером и в пассивной

базе.

 

 

 

 

 

 

 

 

В сплавных

бездрейфовых

транзисторах

коллекторный слой

всегда

легирован

на

2—3

порядка

сильнее,

чем

базовый

слой,

поэтому R i , та 0, а гб

Ф 0.

В кремниевых п-р-п планарных

тран­

зисторах NdK%3

• 101 5 см~3 , а концентрация примесей в базе вблизи

эмиттера равна Na{xl)

N d{xl)

та (3 • 1017 — 1018) см - 3 ,

т. е.

почти на два порядка

больше,

и полуширина

эмиттера

 

lj2^ln0,

где

/ п 0

— толщина

высокоомного

слоя. Поэтому

в

рассматривае­

мых

приборах обычно г<5 <

R K

, причем при больших

постоянных

токах эмиттера,

когда

значителен

эффект вытеснения эмиттерного

тока

(см. § 4.1) Гб убывает,

a R K увеличивается

и справедливость

неравенства гб

<

R u усиливается.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Итак,

с помощью

эквивалентной схемы

на рис. 5.2

рассчитаем

зависи­

мость / к

л 1 = / в ш

(со) для короткого

замыкания

по переменному

току

между

клеммами коллектор—база. В

этом случае

можно

не учитывать влияние

цепочки

RKn

С к п

-

 

замыкания

между

клеммами

коллектор—база

 

С

учетом

короткого

можно записать

следующее равенство:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

' к т

( ^ э т

І«т)гб

= Іс

m(j(ùCKa)-

 

 

(5.43)

С другой

стороны,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ к т - Ф ^ с а т = / э т

V («) ß(ö>).

 

 

(5.44)

138

Из

уравнения

(5.44)

находим

амплитуду

тока / с

 

и подставляем

в уравне­

ние

(5.43). В

 

результате

получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Л<т =

Л)тѴ (М) ß(ö>)

V (0) ß (©) +

/(ОС„а Лб

 

(5.45)

 

 

 

 

 

1 - f / т С к а ( / ? „ + л б )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Введем

 

граничную

частоту коллекторной

цепи

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(5. 46)

Тогда

равенство

(5.45)

можно

 

записать в более простом

виде:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ к т = / Э т Y ( ö ) ß (<а)Х

 

 

 

 

 

 

 

X

 

 

 

 

к '

\ ( r 6

+

tfK)7(cö)ß(cö)

 

( 1 + / - Ö ) / © K ) .

(5.47а)

 

 

 

 

 

 

 

ш

 

 

 

 

 

 

 

Поскольку

обычно

ш к

<

Шр,

ш ѵ ,

гб/^к <

0,5,

то

гб/(Як а

+ гб) <

< 0,3

и при со <

сок

формулу

(5.47)

можно упростить:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ к т =

W ß

(И) V ((О) ( 1 +

/-СО/Шк)-1 .

 

 

(5.476)

 

 

Используя выражение (5.13) для коэффициента инжекции у

(со) и вы­

ражение

(5.35) для

коэффициента

переноса

ß (со),

окончательно

получаем

 

 

 

Ікт ((о) =

/ Э т

 

 

 

 

а 0

 

 

 

 

 

(5.48)

 

 

 

 

/ - 0/со ѵ ) ( 1 + /-Oö/cof) ( 1 +

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

( 1 +

/• CÛ/CÛK )

 

 

 

С

помощью

выражения

 

(5.48)

находим

теперь

коэффициент

усиления

по току в схеме с общей базой с учетом всех факторов:

 

 

 

 

 

 

а ( ю )=

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(5.49)

 

 

 

 

 

 

' э т

 

(1 -«Н-со/соѵ ) (1 -Ф J-<Ù/(ÙT) ( 1 -Ф / - û>/œK)

 

Коэффициент

усиления в схеме с общим

эмиттером

ß(co)

равен

 

 

 

Я(а» =

 

а

(со)

 

 

 

 

 

 

 

а 0

 

 

 

 

 

 

 

1— а (со)

 

( 1 — ссо) — ш2 [ l / c o v c û f + l / û ) Y c o K - ^ l / c o K û ) f ] -

+/(0 [1/C0Y +1/Cûf + 1/С0к —CÛ2 /CÛK Cûf CDV1 .

Найдем теперь | В (со) | для случая достаточно высоких частот, когда

со2 [1/<вѵ

1/соѵ ю к + 1 / с о к

tof] »

1 - а 0

~ 0 , 0 1

- ^0,02,

 

со2

 

1

1

1

+

 

Lcov r

coY coK

COKCûf

 

_ 1 _ _ 1 _

 

со2

2 1 - 1

(5.50)

 

cov Û)f

K

Y

aT K

 

 

 

 

. 139