книги из ГПНТБ / Кремниевые планарные транзисторы
..pdfналичие такого перекрытия увеличивает емкость коллектора и сни жает предельную частоту усиления транзистора /V.
Технологически метод расширенного базового контакта очень легко осуществим, так как он не требует введения каких-либо новых операций. Для реализации этого метода достаточно лишь изменить конфигурацию соответствующего фотошаблона, используемого при создании металлизированных контактных областей транзистора.
Эффективность метода зависит от многих факторов, основными из которых являются: параметры (толщина и заряд) окисной пленки, тип металла, применяемого для расширенного базового контакта, удельное сопротивление области коллектора транзистора и другие. В типовых условиях при алюминиевой металлизации, удельном со противлении кремния порядка нескольких Ом-см и содержащей фос- форно-силикатное стекло окисной пленке толщиной менее 1 мкм, эффективность расширенного базового контакта сравнима с эффек тивностью охранного кольца.
Сравнительно недавно Као и Уолли [153] был предложен еще один эффективный метод повышения пробивных напряжений пле нарных структур. Метод предполагает создание по периферии планарной структуры кольцевых делителей напряжения (для определен ности мы будем называть его методом делительных колец). Схема ра боты делительного кольца, взятая из [153], изображена на рис. 8.26.
При некотором обратном напряжении смещения, близком к на пряжению пробоя центральной части структуры, граница объемного заряда смыкается с внутренним контуром делительного кольца. Дальнейшее увеличение обратного напряжения к пробою не приво дит, так как р-п переход, образованный делительным кольцом, дает
I |
I |
I |
|
I |
1 |
1 |
1 |
— 1 • |
|
О |
S |
10 |
15 |
20 |
25 |
|
хк0,мкм |
|
|
Рис. 8.25. |
Зависимость |
пробивного |
напряжения |
коллекторного |
р-п перехода |
||||
с расширенным базовым |
контактом |
( |
) и без расширенного |
базового кон |
|||||
такта ( |
) |
от глубины |
залегания |
перехода |
хк0. |
|
|
230
Рис. 8.26. Схема работы делительного кольца:
а — распределение объемного |
з а р я д а ; |
б — х о д |
|
концентрации |
ионизированных |
примесей; |
в — х о д |
напряженности |
поля. |
|
|
Делительное кольцо ->- 4,
Основной,
переход
4P
свой обедненный слой, который смы кается с обедненным слоем основного р-п перехода. При этом, если плос кий участок основного р-п перехода имеет достаточный запас по пробивно му напряжению, пробой структуры с делительным кольцом наступит
тгггдг^
Л, Л.
В)
лишь при удвоении напряжения, поданного в момент включения кольца. Снабдив р-п переход несколькими делительными кольца ми, можно получить структуру с пробоем в плоской части основ ного р-п перехода, т. е. транзистор с достаточным числом делитель ных колец может иметь такое же пробивное напряжение, как и аналогичный меза-транзистор.
Экспериментальное изучение структур с делительным кольцом подтверждает описанный выше механизм увеличения пробивных на пряжений. На рис. 8.27 показана зависимость напряжения пробоя планарных структур с одним делительным кольцом от глубины диф фузии основного р-п перехода и от расстояния до кольца.
При малых глубинах диффузии пробивное напряжение цен тральной части структуры меньше напряжения смыкания с коль цом и ход графика Uav = (7п р (хк0) совпадает с ходом аналогичной кривой для обычной планарной структуры (см. рис. 8.7). Напряже нию смыкания соответствует глубина, при которой наблюдается резкий рост пробивного напряжения. Затем наблюдается дальней шее снижение пробивного
напряжения вследствие сужения обедненной об ласти между р-п переходом и кольцом при постоянном значении расстояния меж ду краем маски централь ного р-п перехода и внут ренним контуром кольца, а минимум обусловлен, ве роятно, моментом смыка ния р-областей кольца и центральной части струк-
Ау=35мкм
500
Лу = 0
400
300
J3=150M-CM
200
25 мкм
|
|
100 |
|
|
|
|
Рис. 8.27. |
Зависимость пробив |
|
|
|
|
|
ного напряжения коллекторно |
|
|
|
|
|
|
го р-п перехода с делительным |
•5 |
10 |
15 |
20 |
хк0,мкм |
|
кольцом |
от глубины залегания |
перехода.
231
Рис. 8.28. Конструкция пленарного транзистора с делительным кольцом.
n
туры. Из рис. 8.27 видно, что, выбрав оптимальное соотношение между глубиной залегания р-п перехода хп0 и расстоянием по маске Ау, можно почти удвоить напряжение пробоя.
Конструкция транзистора с делительным кольцом (рис. 8.28) выгодно отличается от рассмотренных выше конструкций малым влиянием кольца на параметры прибора. В самом деле, присутствие делительного кольца может лишь увеличить емкость коллекторного р-п перехода. Однако поскольку смыкание р-п перехода с кольцом происходит при значительных смещениях, когда емкость коллекто ра становится малой, то влияние кольца незначительно. Измерение емкости р-п перехода коллектора при увеличивающемся смещении не обнаруживает заметного скачка: кривая СК = СК ((7к б ) остается монотонной вплоть до напряжений пробоя структуры.
Технологическая схема изготовления транзистора с делитель ными кольцами не отличается от типовой, так как кольцевые области создаются одновременно с базовой областью транзистора. Однако определенную трудность представляет обеспечение полной безде фектности областей структуры, в которых при обратном смещении возникает объемный заряд. Поэтому с точки зрения повышения выхода годных структур нужно стремиться использовать минималь ное число колец (обычно от одного до трех).
Рассмотрим теперь метод противоканальных колец. Как уже отмечалось в § 8.2, на поверхности базы п-р-п и коллектора р-п-р планарного транзистора весьма вероятно возникновение инверсион
ных слоев — каналов — из-за |
наличия |
положительного |
заряда |
|||||||
в окисной пленке. Поверхностная концентрация |
в базовой области |
|||||||||
п-р-п транзистора велика (NsaTaJ.018—1019см_3) |
|
и |
канал |
об |
||||||
разуется |
редко, а |
в области коллектора р-п-р |
транзистора (NaR |
та |
||||||
та 101 5 —101 6 см- 3 ) |
канал образуется всегда. |
Для борьбы |
с этим |
|||||||
явлением |
применяют |
метод противоканального |
кольца, |
который |
||||||
состоит в |
следующем. |
Перед |
проведением диффузии |
эмиттерной |
||||||
примеси |
в коллекторе |
р-п-р |
транзистора |
вскрывают |
замкнутую |
Рис. 8.29. Конструкция
.планарного р-п-р транзи стора с противоканальным кольцом:
/ — противоканалыюе коль цо; 2 канал.
232
Рис. |
8.30. |
Конструкция |
Si02 / |
AlI |
Z І |
планарного р-п-р транзи |
|
|
|
||
стора |
с противоканаль- |
|
|
|
|
ным |
кольцом , и эквипо |
|
|
|
|
тенциальным |
металли |
|
|
V |
|
ческим электродом: |
|
|
I — противоканальное коль цо; 2 — эквипотенциальный электрод .
область, окружающую р-п переход. Во время диффузии эмиттера одновременно сильно легируется область противоканального коль ца, отсекающего n-канал (рис. 8.29). Для компенсации заряда окисной пленки противоканальное кольцо часто соединяют с эквипотен циальным металлическим электродом, расположенным над коллек торным р-п переходом для улучшения стабильности характеристик р-п-р транзистора (рис. 8.30). Таковы основные методы, применяе мые для увеличения пробивных напряжений планарных транзи сторов.
Заметим, что пробивное напряжение планарного транзистора можно повысить и другими путями. Например, в областях, где будет располагаться периферия коллекторного р-п перехода, можно ло кально осадить высокоомную эпитаксиальную пленку; можно соз дать транзистор на подложке с переменным удельным сопротивле нием, резко увеличивающимся в приповерхностном слое; можно снизить положительный заряд окисла, применяя термообработку в электрических полях, и т. д. Однако при современном уровне тех нологии наиболее эффективны рассмотренные нами первые три основных приема повышения напряжения пробоя.
Примером конструкции высоковольтного планарного транзи стора может служить изображенная на рис. 8.31 структура, сочетаю щая в себе методы охранного кольца и расширенного базового кон такта. Периферия коллекторного перехода этой структуры снабже на охранным кольцом, уменьшающим влияние искривления на про бой, а обедняющий электрод, соединенный с базой, повышает напря жение пробоя за счет компенсации нежелательных поверхностных эффектов.
Такая структура используется в высоковольтных транзисторах КТ604—КТ605. Глубина залегания плоской части коллекторного р-п перехода лгк0 « 4 мкм, глубина охранного кольца * к 0 = 10 мкм, а рп = 15 Ом-см.
Al SiOz
ного транзистора с ох- |
п |
|
ранным кольцом и |
рас- |
|
ширенным базовым |
кон |
|
тактом. |
|
|
233
Применение этих двух методов повышения пробивного напряже ния позволило увеличить почти в 3 раза величину (7 к б 0 = 350—380 В по сравнению со значением (7к б 0 = 120—140 В для аналогичных структур без охранного кольца и расширенной металлизации.
Очевидно, подобным же образом можно сочетать и другие мето ды повышения пробивного напряжения, выбирая наиболее выгод ные условия действия каждого из них, что дает возможность получить максимум пробивного напряжения при минимальном ухудшении частотно-переключательных характеристик транзистора.
Дополнение к гл. 8
Расчет t7Kg с проводим следующим образом. Из [52] можно записать два уравнения для определения границ коллекторного р-п перехода хк (с квази нейтральной базой) и хк (с квазинейтральным коллекторном слоем) в зависи мости от обратного смещения UKp_n на нем:
|
|
|
|
|
|
|
j p ( x ) d x = 0, |
|
|
|
(Д. 1) |
||
|
|
|
|
|
|
J |
хр(х)а~х=£е0((рш4-\икр_п\), |
|
|
|
(Д . 2 ) |
||
|
|
|
|
|
|
х к |
|
|
|
|
|
|
|
где |
р(х)—плотность |
объемного |
заряда, |
равная |
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
p(x) = q[Nd(x)-Na(x)^NdK]. |
|
|
|
( Д . За) |
|||
Координата |
х |
отсчитывается от металлургического |
перехода коллектор—база, |
||||||||||
т . е. от точки |
хт |
(см. рис. 3,1,6): х = х—хк0. |
Следовательно, |
|
хк=Хк—хк0, |
||||||||
хк.~ |
хк |
хко- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Величина |
р (х), |
очевидно, |
положительна |
при х > 0 и |
отрицательна |
|||||||
при |
1с < |
0. |
Уравнение |
(Д. 1) выражает |
условие |
равенства нулю |
полного |
||||||
объемного |
заряда |
в коллекторном р-п переходе, |
а (Д.2) связывает |
контакт |
|||||||||
ную разность потенциалов <рк к и внешнее обратное напряжение, |
приложенное |
к коллекторному р-п переходу, с объемным зарядом в нем. Поскольку со
гласно |
(3.2) и |
(3.3) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Nd(x) |
= Na |
(хэа) ехр I — * |
* э ° |
}=NdKexp |
w |
( — |
— ] |
— |
|||
|
|
|
|
|
L d |
|
|
L a |
|
Ld } |
L d |
|
|
~ |
|
/ |
x—x80 |
\ |
( |
|
x |
\ |
|
|
tfo(x) = |
W o ( x 8 0 ) e x p |
y——~L |
J = i V d K e x p |
I — — J, |
|
|||||
p (x) перепишется |
в следующем |
виде: |
|
|
|
|
|
|
|||
P W = A K |
I ехр |
|
L a L d J L d J |
exp I - |
f |
(Д . 36) |
|||||
|
|
|
|
6 0 1 |
r |
V |
L a |
|
|
234
Подставляя (Д.З, б) в (Д.1) и (Д.2) и проводя интегрирование, находим
Ld ехр |
w6 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
L d |
(La+хк) |
|
ехр W6o |
|
|
ехр |
|
Хк |
+ L a ( — х'к — |
La)x |
||||
|
L n |
|
|
' L d |
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
Xexp |
, |
|
~XYL \ |
1 , ~ „ 2 |
~ , 2 , |
|
8 g n (Фкк + 1 ^ Р - " 1) |
(Д-5) |
||||
|
|
|
— - — |
+ — (хк — *к ) = |
|
— |
||||||||
|
|
|
|
|
L a |
J |
2 |
|
|
|
|
qNdK |
|
|
При |
выводе |
уравнений |
(Д.4) и |
(Д . 5) мы |
пренебрегли |
членами |
||||||||
- 1 - |
Х |
к ^ ехр ( — ±а\ |
по |
сравнению |
с |
ехр ( — ^ - ) и ехр ( — £ И |
||||||||
е |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
соответственно, |
|
поскольку |
при | |
р-п | ~ |
^ к б с—Л ж |
^ б о - |
н а л и ч и и |
|||||||
явления |
смыкания |
р-п |
переходов |
(прокола |
базы) |
полагаем — x'K=Wfo — |
—(x''-х).
ѵэ эо
Величину лГ^— x£ = x£-f Wgo — (х"к— хд()) находим из (Д . 4):
|
X |
Id |
ехр |
) |
— — — |
После |
подстановки |
выражения |
(Д.6) |
в (Д.5) получаем |
|
уравнение |
для определения £/к б с: |
|
|
Ld ехр
XLÎ\l - 7 ^ ехр
І а
э эо |
WQO \ |
1 |
|
|
L a |
ехр I — — |
+ — ехр |
\ L a J |
|
L a |
I |
z |
-(х" — х |
) |
|
\ э |
эaоo |
/ |
ее 0
1
ехр
V L d L a
(фкк+І ^кб с qN,du
(Д-6)
следующее
( Д - 7 )
Очевидно, что первый член в левой части (Д.7) значительно меньше второго, так как
|
|
ехр { |
W6n \ |
Мд(хэ0) ~ ЮО > 1 |
|
|
L a |
|
|
и, кроме того, |
срк к |
< UKQс , |
ибо ф к |
к ж 0,5 В, а У к бс > Ю В . |
Пренебрегая малыми членами в (Д.7), окончательно получаем следую |
||||
щую формулу |
для |
с7к бс: |
|
|
q
^кб r, = —
2ее0
^a(x30)Wl0exP[~2(xl-xJ/La}
Г. ~.—77-, . .,, ,„ X NdK[\nNa(x30)lNdK]*
X |
L d |
|
x'—x эо |
(Д-8) |
— |
ехр |
|
||
|
|
|
La
Глава девятая
О С О Б Е Н Н О С Т И СВЧ ТРАНЗИСТОРОВ
9.1. Основные направления в конструировании СВЧ транзисторов
Среди современных кремниевых планарных транзисторов важ ное место занимают приборы, предназначенные для работы в диа пазоне частот от нескольких сотен мегагерц до нескольких гигагерц при больших уровнях мощности. Существует также целый класс маломощных транзисторов сантиметрового диапазона для исполь зования в схемах, где требуются высокое усиление и малые шумы. Если при разработке малошумящих СВЧ транзисторов главной задачей является получение максимального значения предельной частоты fr и малой величины распределенного базового сопротив ления Г б , то при разработке мощных СВЧ транзисторов первостепен ную важность приобретает вопрос обеспечения равномерного токораспределения и отвода тепла.
Область применения мощных СВЧ транзисторов в специаль ной радиоаппаратуре весьма широка: они используются в предоконечных и выходных каскадах усилителей мощности передающих устройств, предназначенных для различных средств связи, в сис темах телевизионного приема на общую антенну, в авиационной аппаратуре, в космической телеметрии, в фазированных антенных решетках и для многих других специальных целей. Малосигналь ные транзисторы дециметрового диапазона с малым коэффициентом шума с успехом используются вместо преобразователей с барьером Шоттки и туннельных диодов, а также вместо сложных варакторных параметрических усилителей. Кроме того, они часто приме няются для широкополосного и узкополосного усиления.
Втабл. 9.1 представлены основные параметры современных зарубежных СВЧ транзисторов (по литературным данным на конец 1971 г.).
В[154] приводятся данные о том, что коэффициент шума тран
зистора V578 на частоте 4 ГГц составляет 5—6,5 дБ, а на частоте 1 ГГц — всего 2 дБ. Наиболее высокое значение предельной час тоты fr, достигнутое в СВЧ транзисторах, составляет в настоящее время 12,6 ГГц [155] при толщине квазинейтральной базы 1200 Â; барьерные емкости коллекторного и эмиттерного переходов равны соответственно 0,08 и 0,045 пФ.
Успехи в области разработки СВЧ транзисторов стали в о з можны в результате широкого и детального исследования электри-
236
Тиип
И з г о т о в и т е л ь
т р а н з и с т о р а
|
|
Т а б л и ц а |
9.1 |
|
рабочая частота,Мгц |
Основные |
х а р а к т е р и с т и к и |
напряжение питания,В |
Емкость коллектора, пФ |
выходная мощность,Вт |
д.,п.к. % |
|||
|
к о э ф ф и |
|
|
|
|
циент |
|
|
|
|
усиления |
|
|
|
|
по |
мощно |
|
|
сти, д Б
ЗТЕ445 |
І Т Т , США |
400 |
20 |
6,5 |
50 |
48 |
•— |
С—25—28 |
СТС, США |
400 |
25 |
7 |
65 |
28 |
|
J02001 |
TRW, США |
400 |
40 |
5 |
50 |
24 |
— |
ХВ5028 |
СТС, США |
400 |
50 |
12 |
•— |
28 |
— |
2N5178 |
TRW, США |
500 |
50 |
5 |
60 |
28 |
60 |
2N5595 |
TRW, США |
1000 |
10 |
6 |
60 |
28 |
8 |
MSC1010*> |
MSC, США |
1000 |
10 |
8,2 |
60 |
28 |
— |
2N5596 |
TRW, США |
1000 |
20 |
5 |
55 |
28 |
16 |
MSC2010*> |
MSC, США |
1000 |
20 |
10 |
60 |
28 |
— |
ТА7205 |
RCA, США |
1200 |
11 |
11,5 |
60 |
28 |
—. |
2N5483 |
TRW, США |
2000 |
5 |
4 |
33 |
28 |
8 |
2N5921 |
RCA, США |
2000 |
5 |
7 |
35 |
28 |
— |
РТ8610*> |
TRW, США |
2000 |
10 |
7 |
30 |
28 |
— |
V575 |
NEC, Япония |
2300 |
2,5 |
10 |
— |
18 |
5 |
РТ6635 |
TRW, США |
3000 |
2 |
5 |
33 |
28 |
— |
MSC3005*) |
MSC, США |
3000 |
5 |
5 |
30 |
28 |
— |
V578 |
NEC, Япония |
4000 |
— |
8 |
— |
— |
— |
MS0146 |
Texas Instr., США |
4000 |
0,6 |
— |
30 |
28 |
— |
MSC4005*) |
MSC, США |
4000 |
5 |
4 |
30 |
28 |
6 |
*' Дл я использования в схемах с общей базой.
ческих и тепловых процессов, происходящих в структуре высоко частотных (в том числе и эпитаксиально-планарных) транзисторов, а также благодаря резкому качественному скачку в технологии, который привел к значительному усовершенствованию таких про цессов, как диффузия, эпитаксиальное выращивание, фотолито графия и создание омических контактов.
Основные проблемы, которые приходится решать при конструи ровании мощных транзисторов СВЧ диапазона, вытекают из тре бований, предъявляемых к параметрам этих транзисторов и опре деляющихся особенностями их применения в конкретных схемах. Несомненно, наиболее обширной областью применения является использование таких транзисторов в различных высокочастотных усилителях мощности. В связи с этими важнейшими характеристи ками, определяющими класс мощных СВЧ транзисторов, являются рабочая частота, максимальная выходная мощность, коэффициент усиления по мощности и коэффициент полезного действия.
Существует еще целый ряд параметров, специфичных для этого класса планарных кремниевых транзисторов, однако все они в той или иной степени определяют четыре вышеназванные характеристи ки. Таким образом, основные направления в конструировании СВЧ
237
мощных транзисторов обусловлены необходимостью одновременного сочетания требуемых высокочастотных свойств и энергетических показателей.
Все трудности, которые связаны с получением больших мощ ностей на высоких частотах, вытекают из противоречивости тех требований, которые предъявляются к размерам транзисторной структуры. Например, для повышения частотного предела необ ходимо уменьшать емкость коллекторного перехода, т. е. факти чески его площадь. Однако требование увеличения полезной мощ ности неизбежно влечет за собой увеличение размеров транзистор ной структуры.
Компромиссное решение было найдено с учетом |
того факта |
(см. гл. 4), что при высоких уровнях рабочего тока |
происходит |
оттеснение его к периферийной части эмиттера. Топология транзис тора разрабатывается таким образом, чтобы обеспечить макси мальное отношение периметра эмиттера к его площади; тем самым удается значительно увеличить активную область транзисторной структуры и обеспечить достаточно большой рабочий ток без уве личения общих размеров всей структуры. Идея создания транзисто
ров с высоким отношением периметра |
эмиттера к его площади |
была предложена Флетчером в 1954 г. |
[59]. |
Первым важным практическим результатом этой идеи явилась разработка гребенчатой (interdigitated) конфигурации транзистор ной структуры, в которой эмиттерная область имеет в плане вид «гребенки», а контакты эмиттера и базы располагаются рядом, регулярно чередуясь (см., например, [156]). Гребенчатая (или полосковая) конфигурация является основной для большинства мощ ных СВЧ транзисторов; фотография одного из них представлена на рис. 9.1.
Следующим крупным шагом в разработке транзисторных струк тур с высоким отношением активной части площади перехода к об щей площади было создание многоэмиттерных (overlay) транзисто ров [157—159], в которых вместо одного непрерывного эмиттера или набора вытянутых параллельных полосок имеется большое ко личество отдельных маленьких эмиттерных областей, объединенных слоем общей металлизации (рис. 9.2). Таким путем удается в преде лах той же самой площади коллекторного перехода получить гораз до больший периметр эмиттера. Кроме этого, многоэмиттерная конфигурация предполагает наличие в базовой области транзистор ной структуры сильнолегированной р+-сетки, являющейся пас сивной частью и соединенной с активной высокоомной областью базы. Наличие низкоомной р+-сетки позволяет значительно умень шить пассивную составляющую базового сопротивления и переход ное контактное сопротивление между кремнием и алюминием, т. е. в конечном счете снизить действительную часть входного им педанса прибора. Наконец, .третьим существенным отличием от гребенчатой конфигурации является то, что эмиттерная металлиза ция, объединяющая все отдельные эмиттерные элементы, проходит
23§