Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Кремниевые планарные транзисторы

..pdf
Скачиваний:
21
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
17.57 Mб
Скачать

хода. Емкостный ток 1 С (7.24) направлен навстречу основному коллекторному току /,1 К (/). Электронный ток коллектора, очевид­

но,

равен

 

 

/„* (0 = /к (0 + Ск (UK р.п) (dUK р . п (t)/dt),

(7.37)

где

Ік (/) — результирующий ток коллектора.

 

 

Подставляя (7.36) и (7.37) в уравнение (7.35), получаем

 

dt

J w " w

d t

 

 

_ C . <

^ j £

!

^ _

- ! M > L

 

 

(7.38,

 

 

 

 

 

 

 

dt

 

xn

 

 

 

 

Очевидно, что Ia(t)

IK(t)

•= I 6 ( t ) .

Базовый ток / б

(7.26) за

время / 2 изменяется

в

пределах

 

 

 

 

 

 

 

Uзбі — -^ьб

j

f Л <

^ э б і — £ э б — Us р-п

 

 

где

І7э р . п

« 0,6

В — прямое смещение на эмиттерном р - п

перехо­

де,

при котором

/ к

(/2) == Ік

(I/a

п) =

0,1/,,п

(для насыщенного

ключа) или 0 , 1 / к т о

(для ненасыщенного ключа). Поскольку в реаль­

ных схемах

обычно

£ / э б 1 — £ э

б >

U'3 р.п, то

базовый

ток

/ б (/)

за время t2,

как и за время tlt

можно считать почти постоянным и

равным (7.28).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Следовательно,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IAt)-IAt)-hi-

 

 

 

(7.39)

 

Электронный заряд в базе Qn (t) можно выразить через электрон­

ный ток коллектора

Іпк

(t) и время

пролета.носителей через базу

/ п р

(5.18) и (5.39),

если

воспользоваться

равенством (5.21)

 

 

 

 

 

 

I Q „ ( 0 l = ' п р / » к ( 0 -

 

*

( 7 - 4 ° )

 

С учетом (7.39) и (7.40) уравнение (7.38) принимает следующий

вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dlnuit)

|

/ „ к « ) =

/ б і

Сэ(ЦэР-п)

dUBp.„(t)

 

 

 

 

dt

 

%п

/ П р

/пр

^/

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Д/к Р - л(0

 

 

{ 1 М )

 

 

 

 

 

tnp

 

 

dt

 

 

 

 

190

 

Для определения составляющей времени задержки t2 проинте­

грируем правую и левую части (7.41) по времени

в пределах от

tx

до

tx +

t2

с учетом

условий:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

при

t =

ti,

/ п

к = 0,

иэр-п

= 0,

и к р . п

= ~-Екэ;

 

 

 

 

при

t =

t1

+ t 2 ,

 

ІПК

= 0,1І1іт,

U3p.n

 

=

U3p-n,

 

 

 

 

 

 

 

 

UK p-n

{Em

U3 p-n

 

0,1 I K M

RH).

 

 

 

В результате получим, например, для насыщенного ключа

 

 

 

0 . 1 / m +

 

^

Л

= -

- -

т ^ -

г

-

 

СЖР-П)

 

 

 

 

 

J

 

~п

 

 

/П р

 

*пр

J

 

 

 

X

 

 

 

 

 

п

 

 

 

 

*пр

 

*пр

о

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

X

dUs

p-n

 

^

 

 

 

 

 

 

 

 

к (^к p-n)

dUH p-n-

(7.42)

 

 

 

 

П Р

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С учетом

(7.32)

легко

проверить,

что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

-'s p-n

 

 

 

 

p-n Сэ

 

(0)

-

Фкэ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(Ua

p-n)

dU3

p.n

— X

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

( 1

- 1/ft)

 

 

 

 

 

 

 

 

X 1 — ^ - U s p - n \ X - l ' k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

фкэ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Очевидно,

что

ІКц^-а~Екь

и

 

всегда

 

Я К Э > 5 В ,

поэтому

EKg^>UâP-n—0,1/кн/?н

 

 

и

емкость

коллекторного

р-п

перехода

за время і2

можно

считать

почти постоянной. Следовательно.

 

 

 

 

~(Е«а-иэ

 

р-п-о.и^

 

RH)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ск

(UK р-п) dU к р-п —

 

 

 

 

 

 

 

 

=

CJEK3)[UsP-n

+

 

 

 

0MKHRn].

 

 

 

 

Кроме

того,

в (7.42) можно пренебречь

членом

ti+t,

 

^

по

 

С

 

сравнению

с

/ б 1 ?2 п р .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

,J

т„

 

 

 

В самом деле, их отношение равно

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Т2 i^W_ dt/dntJt^Z

°

'

'

W n

P

»

0,025 «

1

 

 

 

 

J

 

Tn

 

 

 

 

 

J6lT n

 

 

 

 

 

 

 

для

типичных значений / к

и / / б і ^ 5 0 ,

т„ >

20

не,

^П Р А?0,1

не

 

191

В результате из уравнения (7.42) находим вторую составляющую t2 времени задержки:

 

 

 

 

1 — (фкэ — У'э р-п)

1 Ilk

І2

=

/бі

 

Фкэ

X

 

 

X С э (0) + Ск

кэ) [Üa

р.п + 0,1 / к н RH] .

(7.43)

Для ненасыщенного ключа в формуле (7.43) необходимо заме­

нить

/ К н

на І к т . Первый

член в

(7.43), 0,1(/ К н // б і)

^пр> учитывает

время накопления неосновных носителей, электронов, в базе. В ре­ альных приборах это время гораздо меньше времен зарядки барьер­ ных емкостей эмиттерного и коллекторного р-п переходов, определяе­

мых

вторым и третьим членами в (7.43).

 

В

маломощных переключающих транзисторах

/ К Н / / Ѳ 1 ^ 5 0 ,

* п р « 0 , 1 не, С э ( 0 ) « 5 - 1 0 п Ф , С К ( £ К Э ) < 1 + 0 , 5 С Э

и Іб1% 1 мА.

Следовательно, составляющая t3, обусловленная временем накоп­

ления

носителей

в базе,

равна

0,1 ( / K

H / / 6 i ) / n p

< 0,5

не.

Полагая

Ф к э =

0,8В,

Ф к

э - ( 7 з Р - „ =

0,2В,

k = 0,5

г/эѴя +

О . І / к н Я н » 1,5В,

находим вторую

составляющую

времени

t3:

 

 

 

 

 

 

 

7 ^ С Э ( 0 )

Фкэ

 

 

фкэ— р-п

1 -

Ilk

 

 

 

 

Т

 

 

 

 

Фкэ

 

 

 

 

 

 

 

 

'бі

 

 

1

l/k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/б)

Ск

кз)

[£/,' р.п

+

0,1 / к н

RB] «

8 - 1 6

не.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В

мощных

переключающих

транзисторах

/ к

н / / б і ~

10,

С 3 ( 0 ) >

> 1 0 0 п Ф ,

Скка)

 

Сэ(0)

и

при

тех

же

значениях

величин

Фкэ. Ф к э — и

э Р - п ,

k,

UsP-n

+ 0,lIKURn,

 

* п р и / б 1

« 1 0 0

мА получаем

 

 

 

 

 

0 , 1 ( / в н / ^ б і ) ' п р « 0 , 1

не,

 

 

 

 

 

 

 

С (0)

ф

к э

^

 

Фкэ— Us р-/г

1 - 1

 

 

 

 

 

/ б 1

э

Ѵ ;

1 -

1/ft

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ б!

С к ( £ к э ) [ ^ р . „

+

0,1/ І Ш # Н ] >

0,8

не.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Сложив

выражения (7.346)

и (7.43) и

пренебрегая

 

малым чле­

ном

0,1 (/ц Н // б 1 ) гп р ,

находим

полное

время задержки

ta.

 

 

 

 

 

 

— і с 8 ( 0 )

 

 

 

 

'Фкэ +

Я э б у - ' / *

 

 

 

 

 

 

 

ф к

э

 

 

Фкэ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ о і

 

 

(1 —

 

 

 

 

 

 

 

 

Фкэ— Us р-п I—Ilk'

С к

к э ) и'ар.п+омѵяяп+

 

 

 

 

 

 

фкэ

 

 

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

>^к (£кэ +

£эб)

 

 

 

 

 

 

 

(7.44а)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

J

 

 

 

 

 

 

 

Ск'(^кэ)

192

Как видно из (7.44а), время задержки определяется только сум­ мой времен зарядки барьерных емкостей обоих р-п переходов. Для уменьшения времени t3 необходимо при конструировании переклю­ чающих транзисторов, как и обычных усилительных транзисторов, выбирать минимальные площади р-п переходов и тем самым умень­ шать значения емкостей С э и С к . В переключающих схемах величи­ ной 4 можно управлять, изменяя величину отпирающего импульса

базового тока

/ б 1 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Для инженерных расчетов величины t3 в_(7.44а) можно поло­

жить

 

Фкэ =

0,85

В,

ф к

о

 

и'э р

. п

= 0,20

В,

 

Ѵя

р

. п

=

0,6

В,

k = 0,5; при

этом

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ф к э — р - п

 

і -

і Ik

 

 

20

 

 

 

0,5.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Фкэ

/

 

 

I j/ / oUT.85

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Тогда (7.44а) перепишем

в следующем

виде:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С8 (0)1,7

 

/ Q j 5 +

£

 

«

_

0 5

 

+

 

 

 

 

 

 

 

 

hi

У

 

 

0,85

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+

С к

кд)

0,6+

о , і / к н / ? н

 

Сц ( ^ К Э + ^Эб)

ß

 

 

 

(7.446)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

эб

 

 

Для

ненасыщенного

ключа

/ к н

в

(7.446)

необходимо

заменить

на

Ікт.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Теперь вычислим время нарастания гф ,

 

 

в

течение

которого

коллекторный

ток

увеличивается

от 0,1 Ікт

 

до 0,9/ к т .

Напряже­

ние на эмиттерном р-п

переходе

возрастает

незначительно

от

UsР-п

до и;р.п

= U'a р-п + 2,3 фг = Ѵ9

р-п + 0,6В (Г = 300 К), посколь­

ку / к

~

ехр (сЛ> р-л/фг). Можно считать, что в момент

t = t3

процесс

заряда

барьерной

емкости

эмиттерного р-п

перехода

закончился.

В этом случае членом [Cg(U3p.n)]/tnp-dU3p.„(t)Jdt

 

 

 

 

в (7.41)

можно

пренебречь. Тогда (7.41) принимает следующий вид:

 

 

 

 

 

 

dJnu(t)

,

Іпк(і)

 

 

 

I бі

 

Ск(икр-п)

 

 

 

 

àUKp.n(t)

(7.45)

 

 

 

dt

 

 

 

 

 

пр

 

 

t.пр

 

 

 

 

dt

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Проинтегрируем

правую

и левую части (7.45) по t

в пределах

от

ta до 4 +

іф:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,8/,

 

 

I

U« (t)

dt =

'hi

і

іф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

^

 

 

*

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

^пр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- ( £ к э +У

э р - Л - 0 . 9 /

к т RH)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

'э р-л

 

 

 

CR(UKp-n)dUKP.n.

 

 

 

(7.46)

 

 

 

 

'пр

 

 

.

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- Кэ+^э Ѵ гс - сі/™ RH)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

7 З а к .

190

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

193

Интегралом в левой части последнего уравнения можно

пре­

небречь

по сравнению

с членсм

/ б і / ф / / п р .

Действительно,

при

типичных

значениях

/ к

т / / б і ^ 5 0 ,

tuv = 10 _

1 0 с,

т п

> 2 0 не.

 

<8 +<Ф

 

 

 

 

 

 

 

 

dt

I il1 .?* « °'5 / i"»f "P_ <

0,12

<

1.

 

Интеграл в правой части (7.46) вычисляется с использованием (7.33). В результате из (7.46) находим

іф =

j 0 , 8 / K m tDp

 

+

2С„ ( £ к э - 0 , 1 / к т

Ян ) ( £ к э

- 0,1 / к т

# н ) X

 

 

 

X

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(7.47а)

В (7.47а) мы

полагали

 

приближенно

с р к к — с / э Р . « ~ 0 ,

поскольку

Ф К К « 0 , 6 В и с / з Р - „ « 0 , 6 В .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Для

насыщенных

 

ключей

/ К

Т

= / К Н ,

/ К Н # Н = Я К Э

и

(7.47а)

упрощается:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

іф=~~

{0,8Ікт

tnv

+

С к (0,9£к а ) • 1,2 £ к э } -

 

 

(7.476)

Оценим вклад в

величину

/ ф

(7.476)

времени

накопления

не­

основных носителей,

электронов,

в базе ( 0 , 8 / к т / / б і )

^пр и

 

времени

заряда барьерной емкости коллекторного р-п перехода Ск

(0,9ЕКд)

х

Х І , 2 £ к э / / б 1 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Для

маломощных

переключающих

транзисторов

/ к н / / б і <

50,

/ б і « 1

мА, Е к э «

10

В,

С к ( 0 , 9 £ к 9

) « 5 — 1 0

пф,

( с

р А Ы 0 - ' » с.

Следовательно,

0,8/ І Ш / п р // б 1

<

4

не,

/бі1 С к (0,9 £"к э ) -1,2 Я к э

=

= 60—120 не.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Для

мощных

переключающих

транзисторов

 

/ к н /^бі ^

20,

/ б 1 < 1 0 0 м А ,

£ к

э > 2 0

 

В,

С К (0,9Я К Ч ) >

100

пф,

^ « 1 - Ю - 1 0

с.

Поэтому

0 , 8 / к н / п р / / б 1 <

1,5 нс,

/ё, 1

Ск(0,9Ет)-

1,2ЯК 9 >24

не.

 

Таким образом,

в

обоих типах

переключающих

транзисторов

с точностью до 5—10%

 

можно пренебречь вкладом времени накопле­

ния неосновных носителей в базе в величину / ф . В результате форму­ ла (7.476) примет окончательный вид, пригодный для инженерных расчетов:

іф=^-Ск(0,9Ека)-1,2Евя.

(7.47B)

hi

 

Из (7.476) видно, что для уменьшения времени нарастания / ф необ­ ходимо в первую очередь увеличивать амплитуду отпирающего им,-

194

пульса базового тока / б 1

. Произведение С к (0,9 £ к 0 ) • 1,2£,; э

доволь­

но слабо зависит от напряжения коллекторной батареи

Екэ:

С К (0,9Я К Э ) - 1,2 £ К Э

=

e e 0 S B l , 2 £ K 8 _ _

_ у Е ^

 

 

Л /

2ее 0 (фкк + О.ЭЯца)

 

 

при Я к э > ф к к « 0 , б В .

 

 

 

 

Следует заметить, что до сих пор мы полагали

емкость между

выводами коллектора и базы равной барьерной емкости коллектор­ ного р-п перехода С к (£/,< р . п ) . Однако в планарных транзисторах иногда базовую контактную площадку, расположенную на поверх­ ности пленки Si02 , выносят за пределы площадки пассивной базы, т. е. на высокоомный коллекторный слой. В этом случае возникает

дополнительная емкость коллектора С,.nn~esio^SH

nJX,

где SK

пл

площадь контактной площадки над коллекторным слоем, X —

толщина

слоя

окисла

(обычно

X

= 0,5—1,0 мкм). е 3 ю 2 =

3,85.

В течение времени

/ ф

напряжение

на емкости

С к п л

изменяется

от

значения

£ к э

U3 „.„ — 0,1/к т /?н

до

EKg—U'3p.n

— 0,9IKmRlv

Следовательно, в формуле (7.476) для времени нараста­

ния

появится дополнительный член С к п л 0,81

KmRn.

 

 

 

Итак, в общем случае для насыщенного ключа

 

 

 

 

*Ф =

/бі' {Ск п л

0,8/к н Rn

+ Ск (0,9ЯК Э ) -1,2 Ет}.

 

(7.48)

Для ненасыщенного

ключа дополнительный

член

С к п л

0,81

KmRH,

учитывающий время зарядки емкости контактной базовой площадки

С к п л , необходимо

ввести

в формулу

(7.47а).

в фигурные скобки

В выражение

(7.44а) для времени задержки

необходимо добавить член

С к п л д б

+ U'3 р .„ + 0,1/к т /?н ), по­

скольку за время /3 напряжение между выводами коллектор—база

изменяется в

пределах

от — ( £ к э +

£ э 6 )

до — ( £ к э 0 э

р . п

0,1 IKmRu).

Однако этот новый член обычно значительно меньше

1-го

в формуле

(7.44)

ввиду того, что

 

 

 

 

 

 

 

 

В с ;

SX

 

Sg

 

 

 

 

Ск пл

es і 0 2 SK Ш ]

5р.„

• = 1 5 — - » 1

 

 

 

 

о к

п л

 

при типичных

значениях SgœSKnJl,

X > 0,5мкм, Хзр.п х 0,1 мкм,

eS i

=

12, eS i o2

=

3,85.

 

 

 

 

 

 

Заметим, что полученные нами формулы (7.44а) и (7.47а) для

времен t3 и / ф

являются

более строгими в отличие от формул,

при­

веденных в работе [105], так как мы не проводили нигде усреднения емкостей С э и С к в диапазоне соответствующих напряжений. Кро­ ме того, показано, что накопление неосновных носителей в базе ре­ альных кремниевых транзисторов оказывает незначительное влия­ ние на переходные процессы при включении.

При / > ія + іф процессы накопления заряда неосновных но­ сителей в базе не заканчиваются. Ток коллектора продолжает воз-

7*

195

растать от 0,9/ K m до 1,0/K m . За время накопления tn

максимальное

значение Ікт

 

зависит от величины сопротивления нагрузки и напря­

жения коллекторной батареи

Екд:

 

 

 

 

 

 

в

а)

Ікт — ^ с т Іъъ

е с л и

ß C T I ö l RH < Екэ

и

транзистор

остается

активном

режиме

(ненасыщенный

ключ);

 

 

 

 

 

б )

/ « m

=

/кн = £ , кэ/^н' е с л

и

^ с т ^ б і

>

£ К З

и

Т р а Н З И С Т О р В Х О Д И Т

в

режим

насыщения

(насыщенный

ключ).

 

 

 

 

 

 

В

случае

насыщенного

 

ключа,

когда

степень

насыщения ѵ —

=

ВСТІъг.11кш>

1, в течение

времени ta будет происходить

накоп­

ление неосновных носителей, электронов, в базе р-типа и накопление дырок в высокоомном коллекторном слое. Поэтому для расчета вре­ мени tB нельзя воспользоваться методом заряда в том виде, в котором он был дан выше [см. уравнение (7.41)]. Однако для работы импульс­ ных схем параметр tH не имеет большого значения.

Теперь перейдем к рассмотрению спада импульса коллектор­ ного тока или фронта выключения в результате подачи импульса

базового тока

отрицательной полярности

/ 5 2 < О [см. рис. 7.6].

В случае насыщенного ключа в течение некоторого времени

= tv

коллекторный

р-п переход находится под прямым смещением

(С/к

р - п

>

0),

поскольку

концентрация

избыточных носителей,

дырок,

в коллекторном слое я-типа (для п-р-п транзистора) не успе­

вает мгновенно рассосаться до равновесного значения рп.

Поэтому

коллекторный ток остается в течение tv

примерно равным значению

/кн

=

EKa/RH.

 

Эмиттерный

ток теперь будет меньше коллекторного:

I

ь =

К

+

/бг < /к» поскольку / б 2 <

0.

 

 

Если запирающий базовый ток невелик (|/бг | < ^ки ), то име­ ет место так называемое коллекторное рассасывание накопленного заряда, когда эмиттерный ток сохраняет то же направление, что при включении транзистора. Заряд электронов, накопленный в ак­ тивной и пассивной базах р-типа, исчезает вследствие рекомбина­ ции с дырками и вытекания в коллектор. Заряд же дырок, накоплен­ ный в высокоомном коллекторном слое, рассасывается из-за реком­ бинации с электронами в этом слое и из-за вытекания в базу.

При достаточно больших значениях базового тока ( | /бг | >

н )

эмиттерный ток I э = / б 2 + / К н < 0 меняет направление. В

этом

случае имеет место эмиттерное рассасывание, когда неосновные но­ сители, электроны, в базе р-типа вытекают через эмиттерный и кол­ лекторный р-п переходы. Концентрация электронов в базе на грани­

це с эммитерным р-п

переходом п (х"э) может упасть до нуля,

т. е.

эмиттерный р-п переход становится обратно смещенным (U а р - п

< 0 ) ,

а коллекторный р-п

переход еще остается под прямым

смещением

(UK

р-л >

0). Это означает, что транзистор входит

в

инверсный

активный

режим.

 

 

 

 

 

До настоящего времени для кремниевых планарных транзисто­

ров

не разработаны

достаточно точные методы для

определения

времени

рассасывания tp насыщенного ключа.

 

 

 

 

Метод эквивалентных схем, предложенный Моллом в работе

[101], дает довольно точные выражения для величины

/ р лишьвслу -

196

чае сплавных транзисторов, в которых в режиме насыщения

заряд

накапливается главным образом в объеме активной базы.

 

Несколько более строгим является расчет tv с помощью решения

уравнения непрерывности для области

базы В. В. Штагера

[106],

Т. М. Агаханяна

[107] и Р. Нанавати

] 1081, но и здесь рассматри­

ваются процессы

исчезновения заряда

подвижных носителей

лишь

в объеме активной базы. В методе заряда, рассмотренном выше при расчете переходных процессов включения, также ограничиваются определением закона изменения заряда в объеме активной базы, пренебрегая накопленным зарядом в коллекторном слое [104]. Одна­ ко в кремниевых планарных транзисторах, как и в германиевых дрейфовых транзисторах, толщина базы Woo более чем на порядок меньше толщины высокоомного коллекторного слоя Іп0 = хп — хк0, а площадь эмиттерного р-п перехода всегда гораздо меньше площади коллекторного р-п перехода (5 Э ^(0,1 — 0,3 ) 5 к ) . Следователь­ но, накопленный заряд в коллекторе QK может быть в 10—100 раз больше накопленного заряда в активной базе. Таким образом, для расчета переходных процессов при запирании насыщенного ключа надо решать трехмерные уравнения непрерывности для неоснов­ ных носителей в базе и в коллекторе, что представляет чрезвычайно сложную математическую задачу.

Наиболее точные формулы для расчета tp были получены в ра­ боте H . М. Ройзина и М. И. Марковича [109]. Они впервые решили уравнение непрерывности для полного избыточного заряда во всех трех областях: в активной и пассивной базах и в теле высокоомного коллектора. При этом распределение неосновных носителей в высокоомном коллекторном слое считалось одномерным, т. е. зави­ сящим только от координаты х (ось перпендикулярна плоскости эмиттерного р-п перехода). Распределение поля Е (х, у) и потен­ циала ф (х, у) в коллекторе находилось методом конформных отоб­ ражений, что справедливо для малого уровня инжекции неосно­ вных носителей в последнем (р (х, у)Шак < 1 для п-р-п транзи­ стора).

Распределение концентрации неосновных носителей на гра­ нице коллекторного р-п перехода и квазинейтральной базы пола­ галось равным р (хк) = рп ехр (UK р - п Apr). При таких допуще­ ниях в [109] получены следующие формулы для / р :

а) при / > L K (толстый высокоомный слой)

tv = xJl + - X )

ML*

- Щ ^ .

(7.49)

б) при / <^ L u (тонкий высокоомный слой)

\

3 | № б / ( £ № б / + О к Т б )

l + o -

197

Где

V — ß C T / 6 1

/ / K

l I степень

насыщения

транзистора;

о =

— ^ с т | / б 2 І

^ к

н — степень

рассасывания;

т б

— время жизни не­

основных носителей

в базе (электронов в случае п-р-п

транзисто­

ра);

L K

и

DK

— диффузионная

длина

и

коэффициент

диффу­

зии

неосновных

носителей

в

коллекторе;

W% — толщина

пассивной

базы;

/ -- хп—х'к

— толщина

высокоомного

коллек­

торного

слоя.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Несмотря на то, что (7.49) и (7.50) являются к настоящему

времени

наиболее точными для дрейфовых транзисторов

по сравне­

нию

с формулами,

полученными

другими

методами

[105],

сле­

дует всегда помнить об ограниченной их применимости для многих практических случаев. В самом деле, в режиме сильного насыще­ ния, как уже отмечалось, коллекторный р-п переход исчезает вслед­ ствие заливания подвижными носителями, а в коллекторном слое даже в течение части времени рассасывания будет иметь место

большой

уровень

инжекции

(р (x, #)/./Vd K > 1). Граничное, условие

р (хк) =

рп ехр ( U K Р-п/ц>т)

(для п-р-п

транзистора) становится

несправедливым,

как несправедлив и

расчет распределения поля

Е (х, у) методом конформных отображений. Однако из формул (7.49) и (7.50) тем не менее можно сделать качественные выводы, полезные при конструировании переключающих транзисторов. Время рассасывания можно значительно уменьшить, если пони­

зить время жизни

неосновных

носителей в базе т б , диффузионную

длину

неосновных

носителей в коллекторе L K и увеличить

степень

рассасывания с,

т. е.

величину

импульса базового

тока

| УG a |.

В

обычных п-р-п

транзисторах,

предназначенных

для

работы

в усилительных схемах, т б «

Ю -

6 , т к

> Ю - 6 с, L K =

L p

% 30 мкм.

В переключающих транзисторах КТ603, легированных золотом,

времена т б ,

т к

гораздо меньше

б , т к

<

Ю - 7 с),

Ь р

<

10 мкм,

/ п 0

=

15 мкм, т. е. ln0

>

L p .

В этом случае необходимо

пользовать­

ся

приближенной формулой

(7.49).

В

течение

времени tp

с

момента подачи

запирающего

импульса

базового

тока

/ б 2 <

0

транзистор

выходит

из

насыщения,

так как / к (tp)

= 0,9/К н

и

UK

р-п <

0.

При

t > t p

начинается

постепенный

переход

транзистора из активного режима в режим отсечки в случае нор­

мального

коллекторного рассасывания ( / К я >

\ І б г \ и І э = / к н

+

+ / б 2 >

0). Теперь имеет место рассасывание

накопленного

за­

ряда неосновных носителей лишь в объеме активной базы. Поэтому для определения времени спада tc, соответствующего убыванию коллекторного тока от 0,9/К и до 0,1/к „, можно воспользоваться

методом заряда, в частности, уравнением

(7.41),

где / б 1

заменяем

на / б 2 < 0 и пренебрегаем

процессом разряда

барьерной

емкости

эмиттерного р-п перехода,

поскольку

 

 

 

 

U3

„.„ (/с

-(-

іР) ~ Ѵэ р-п (tp) è

0,06

В,

 

 

\UKp-n(tc

+

tp)\

— \UKp-n(tp)\

« £ к

э «

10В.

 

198

Интегрируя

правую и левую части уравнения (7.41) по / в пре­

делах от tp до / р

-(-- / с ,

получаем

 

 

 

 

( р+'с

hz tc

 

 

0,8/и п

/пк (t) dt--

 

 

 

 

l n p

 

 

 

С к (£Vк p-n) dUк p-n-

(7.51)

-(ЕКэ-иэр-п-°-"кт*к)

Интегралом в левой части уравнения (7.51) по сравнению с

членом

I / б

2 1 tc/tnv

 

при типичных

значениях

ІктІ

\ / б 2 1 < 50, тл >

> Ю - 8

с,

/ п р =

Ю - 1

0 с можно

пренебречь,

как

и в "уравнении

(7.46). Интеграл

в

правой части

уравнения

 

вычисляем

с исполь­

зованием (7.33). В

результате

находим

 

 

 

 

 

 

 

 

ІЛиІ

|°>8 Л<пАр + С К

( ^ к э — О ' ^ к т ^н) X

 

 

 

X

2 ( Е к э - 0 , 1 / к т Я н )

1

 

 

 

- 0 , 9 / к т

RH

(7.52а)

 

 

 

кэ

0,1/кт /?н

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При выводе (7.52а) мы полагали,

что

с р к к — (/э*р _ п ж

0.

 

Из

сравнения

(7.47а) и (7.52а)

видно,

что время

нарастания

іф и время

спада

/ с

совпадают,

 

если

амплитуды импульсов

от­

пирающего

базового

тока / б 1

и запирающего

базового

тока | / б г |

равны.

В

случае

насыщенного

ключа

IKmRH

I1(HRH

= Екэ

и

формула

(7.52а)

упрощается:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/62 IС к ( 0 , 9 £ к э ) 1 , 2 £ к

 

(7.526)

Членом 0 , 8 / К н / П р / | / б г I в

(7.526) мы пренебрегли

ввиду

ма­

лости [см. ЕЫВОД формулы (7.47в)]. Как видно из (7.526), время спа­ да обратно пропорционально величине запирающего импульса

базового тока ] Уе 2

j и прямо пропорционально

емкости

коллектор­

ного р-п перехода

С„ (0,9Еив). При наличии

базовой

контактной

площадки на поверхности окисла над коллекторным высокоом-

ным

слоем

в формулу (7.526) необходимо подставить член

г

Г) 8 /

/?