Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Аммер, С. А. Нитевидные кристаллы (получение, механизмы и кинетика роста) учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
17
Добавлен:
21.10.2023
Размер:
9.61 Mб
Скачать

 

 

-1 0 -

 

 

серебра на

аргентите

в присутствии

C O q

при нагревании до

3<ХМОО°С, НК металлов при восстановлении

их солей, нитей

меди при нагревании

сернистой меди до 1000°0 в водороде,

в атмосфере

С0$

на воздухе или

в водяном паре, при

електроосшдешм и т .д .

Возросшие потребности науки и техники в кристаллах с особенными свойствами побудили исследователей в последние

лет вести интенсивный поиск новых и совершенствовать

имевшиеся методы выращивания кристаллов в тем числе и ните­ видных ,

Вывашивание НК из газовой фазы

Получение твердых конденсатов из газовой фазы нашло в

настоящее время широкое промышленное применение, а материалы гавофазнего осаждения играют все большую роль в современной

технике, Теория этого процесса достаточно

хорошо разработана

[|ё ,8 б - 9 0 ] , технология его такие часто

оказывается неслож­

ной.

Нитевидная форма кристаллов является частной формой кристаллических конденсатов и реализуетоя при определенной температуре, давлении, пересыщении пара и некоторых других факторах, определяющих специфические геометрические особен­ ности осадка. Рост кристаллов идет, как правило, при тем­ пературах более низких, чем их точки плавлении; кристаллы формируются по существу из отдельных атомов (молекул) или их асооцяацяй и это дает возможность подучать материалы о плот­ ностью, близкой к теоретической. Такие материалы обладают

- I I -

более совершенной поверхностной и объемной структурой, сле­ довательно, и некоторые свойства их должны быть иныии, чей

у материалов, получаемых другими методами.

При использовании методов осаждения можно также опреде­ ленным образом регулировать стехиометрический состав соеди­ нений, производить дистилляцию материала и т .п . Именно по этим причинам выращиванию НК из газовой фазы часто отдают предпочтение, С их помощью уже в настоящее время получают НК высокопрочных.„материалов, материалов для полупроводнико-

вых, люминесцентных, радиационночувствительных и некоторых других приборов. Недостатком является то, что кристаллы, по­ лучаемые из газовой фазы, имеют сравнительно небольшие разме­ ры (хотя в отдельных случаях,- в век миниатюризации приборов,-

вто может быть и их достоинством).

Различают два основных метода выращивания НК из газовой

фазы:

1)путем испарения исходного материала с последующей конденсацией его пересыщенных паров (физическое осаждение) и

2)посредством химических реакций (химическое осаждение).

Выращивание НК при физическом переносе и осаждении

При физическом осаждении конденсат имеет тот же состав,

что и его пар. В этом случае атомы (молекулы) распространя­ ются от источника до соударения со стенками оосуда или под­ ложкой. Адсорбируясь на них, они могут затем мигрировать по их поверхности. Если за среднее время жизни в адсорбирован­ ном состоянии атомы (молекулы) или их ассоциации встречают

- 12

активные участки роста на поверхности, то они встраиваются

в кристаллическую решетку. Таким образом, физическое осажде­ ние из газовой фазы есть нечто иное, как массоперенос лишь физическими средствами. Физический массоперенос дает наилуч­ шие результаты и в смысле получения кристаллов выоокой чис­ тоты и однородности.

Осаждением из газовой фазы наиболее легкомхорошо полу­

чаются кристаллы различных (органических и неорганических)

материалов, обладающих прежде всего высоким давлением собст­ венных паров при не очень высокой температуре (таблица I ) .

Выращивание кристаллов может производиться как в зак­ рытой системе (вакуумированной или газозаполнеиной), так и

В проточной системе (обычно с использованием инертного газа-

носителя).

Рост НН в вакуумированиях системах

На рис.1 показаны примеры аппаратурного исполнения

различных экспериментальных установок для получения НК из

газовой

фазы.

 

 

Впервые НК методом физического осаждения были выращены

Фольмером и Эстерманом [9 2 ]

. Они, а затем и

Сирс [ 93-95]

получали

усы и пластинки ртути, используя установку, схема

которой

показана на рисЛ а.

Ртуть нагревалась

в резервуаре

Р и конденсировалась на поверхности стеклянного выступа

Колбы К,

температура которого поддерживалась

постоянной

-6Э°С. С этой целью выступ охлаждался жидким азотом. Темпе­ ратура зоны испарения изменялась от -14 до -50°С. Колба

- 13

Таблица I.

Давление пара в тройной точке для некоторых веществ по данным Дзшиана [9 1 ) .

Материал

;

Давление

пара

1

р

uu рт.от.

 

1

Ын/и*

Сг '

I

 

 

 

8500000

63,5

Ид

 

295000

2 , 2

Z п

 

21000

0 ,1 6

0с(

 

13000

0 ,1 0

т,

 

m oo

8 ,4 Д 0 ~ а

За

 

5000

3,7 ДО-2

/V/

 

590

4 ,4 .1 0 _3

Лд

 

240

1,8. Ю"3

V

 

87

6 ,5 .1 0 “^

Си

 

42

ЗДДО - '4

Я

 

21

I .6 - I 0 - J

Ли

 

0,8

6,0*10-6

1C

 

0,13

9 , е д о - 7

вакуумировалась до давления КГ^мм рт.ст . Давление паров ртути в колбе регулировалось изменением температуры в преде­

лах от 25 до -50°С. Наблюдения за ростом кристаллов велись

в микроскоп. Максимальная длина кристаллов достигала 2,5 мм

при толщине

0,02 мкм. Время осевого роста составляло 30 мин. ,

после чего

кристаллы начинали утолщаться. Важным результатом

опытов было обнаружение того,, что НК зарождаются и растут

при меньших

пересыщениях, чем пластинки и 1фисталлы других

форм. Это впоследствии было подтверждено много раз и другими авторами.

Осаждением из паров в условиях вакуума получают НК мно­

гих металлов,

полупроводников, окислов

и других

соединений

(таблица 2).

Мелмед и Гомер [ 96j , а впоследствии

и другие

использовали для этой цели установку, представленную на

рио.16,

позволяющую

изучать рост и свойства кристаллов

в

электронном проекторе. Вольфрамовая петля-нагреватель А

диаметром I см обвивается спиралью из исходного

материала

и помешается на расстоянии 1-3 мм от катода-подложки К,

 

Усы вырастали

на подложке в вакууме за

5-10 мин.,

длина

Их

 

 

 

о

 

 

оси

роста

не превышала 15 мкм, толщина 50-200 А (таблица 2),

были параллельны направлениям с малыми.индексами

(в ГЦК - 1фн-

сталлах

преобладало

направление {_Л О ] ,

в ОЦК -

[ 100j ).

Полученные в высоком вакууме усы имели атомно гладкие по­

верхности и обладали высокой упругостью.

 

 

 

Более подробно условия роста усов и их свойства иссле­

дованы в работах Морелока [97,115,132]

. Рост производился

в трубе из пирекса I

(рис.1в) в вакууме

Ю^мм

рт.ст . из

Рио.1 Аппараты Для внрадивания НК при

фкзичеокои осаидений из газовой фазы Пояснения в тексте)

-16 -

Таблица 2.

УСЛОВИЯ РОСТА УСОВ ПРИ ФИЗИЧЕСКОМ ОСАВДНИИ В ВАКУУМЕ

[температура; °С [Вакуум

 

 

Материал ;й(зпаре- !подлот-

!

^

 

длина

!

ния

! ки

!

ip0CTa (

I

I

 

i

j

j

UKU

Цд

, -50

- 63,5

N< 1050-1270 -700-900

Си

> 900

-600-700

Sq

I 1200

-660-750

Я

: 1620

750-1000

п

-1250

760

Ли

-И 00

650-630

Со

>900 -750-800

fig

>800 -600-650

Сг

1050

 

Сг

900

<o

к

1200

M

Ш

fsfi

1050

*0

Ли

1050

И

 

к875

Си

 

830

s

 

 

s

i

Си

 

930

m v

Си

 

950

I

f

i

о

§

S q

1080

3

и

 

<3

я

Sq |Ю 60

ft ft

и

и

я

я

So

]II30

ё

в

So

11060

9

9

t -t

»■

t*

О

Pi

з

9

ч

о

2.5

&

м

я

О

1

1Г> g

t 16 час 70

50 час ■ -

16 час 100

48 час

-

16 час 300

120 час 150

70 час

-

16 час 200

50 час 300

16 час

-

16 час 200

I час 15

50 час 200

Матери- ^итера- |'ал |турн. родложлоточник

i ки

 

i

в

 

 

I

 

 

 

[93-95]

 

 

 

[96 J

 

 

 

[96 j

Й

 

[96]

О

 

 

*4

 

[96]

о

 

 

д

 

**

 

о

4

[96]

g

 

 

 

[96 |

 

 

 

 

 

 

[96]

Мо

 

 

[97]

Но

 

л

[97]

Мо

 

[97]

 

 

Мо

 

 

[97]

 

 

Ли

[ЭТ]

 

 

Ли

[97]

я

 

Си

[97]

§

 

Си

 

в

 

[97]

а

 

Си

[97]

с

 

 

 

ы

[97]

 

 

to

[97]'

 

 

No

[97]

 

 

Fq ,

[97]

17

Продолжение таблицы 2.

~ ~ т

1

8

! ' j

iV 4

1

3

L___£ __

S /

1000-1250

1000-1250

 

 

 

800чае

~100

I n

!

 

418

415

1

 

 

 

1

2ИНН -v %оо

7

п

!

 

375

350-375 1

 

 

 

;

 

-

!03

 

 

 

 

j

~

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

c d :

|

 

330

250-321

 

 

 

 

!

_

-

10Э

Cd!

!

 

Tucn.

48-400

!1<Г5 - И Г »

-

 

-

10

1

55-60

55

; 5. Ю-7

-

- з л о 3

ю с е

740-776

740-776

1

 

 

|~2;5час

 

-

L , $

Нагрев в вяектр.микроскопе

5-Х0сзк

 

30

 

 

 

 

 

 

I

 

 

 

ЛОсвк

 

-1 0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

H q O

 

2000

-1000

10" I

 

-

 

13

к

 

 

 

940

850-940

 

 

 

 

 

-

 

100

Tq

 

 

250

90-200

!

 

 

 

 

 

-

и

м

 

 

2200

1550-1700

10‘-9

i

 

 

-

 

 

 

 

 

P b S

 

800

 

 

10 -5

20мкн

 

400

M V S

 

-

220-600

 

10'-5

1

 

 

150

S i

 

~

1900

<1900

 

10

-10

1

 

 

10

 

 

 

 

 

 

 

&

<

?o

 

1150

- 1 0 0 0

 

 

 

 

|~10чао

-1 0 0

Zb

 

 

-

17

 

10'-6

1 2-5час - 2 0 0

b &

 

1365-1600

770-950

 

-

 

 

1

-

 

10*

 

 

 

1320-1460

1050-1200*

-

 

 

)

 

 

10*

O n

 

 

 

i

 

 

b

 

 

1800-1900

 

 

-

 

 

 

 

 

20*

(

Ф

80

12

1

-

 

 

 

 

зло*

 

 

 

 

 

 

)

10--6

 

 

 

 

0 i

 

400

300-350

 

 

 

5 :1 0 *

S 4

 

700-750

350-530 |

Ю"

3

 

-

2?Ю *

 

 

 

 

C a P

1200

2000

 

10' 6

 

-

зло*

b4e

1950

1850

 

-

 

 

5-8чао

 

10*

C-Q S

930

750-910

 

10“5

ХООчао

 

10*

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

Ч

"1.. ■' ■

 

 

 

 

 

 

_____ i_

 

 

 

 

{

7

1

1

 

$/'

[99,100Л

 

-

 

[ i o i ]

кварц ! [102]

кварц [102]

W ! [юз]

Щ и л и Ю

[104]

ю с е

[105]

U

F

[Ю6]

МдО

[106]

 

 

[107]

кварц

[94,05]

P

i

108,109]

 

-

[но]

n

s

[ ш ]

M o , С

112,113]

Si

[114]

! M o

[215]

к ; * * ч « М

!M o 117,118]

M o 118,119]

-[120]

кварц [EJ]

оталь [122]

кварц [123]

кварц 124,125]

граф »

[126]

 

 

кварц

[127]

 

 

Г• - ч

’’

сг

-

р.

V .

. , ‘

;

.. - :

.

•>

ЧИТА/IbHOi О ЗАЛА

 

 

 

 

-

ie

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Продолжение

таблицы 2.

 

I

!

2

!

3

 

4

!

5

 

 

6

7

8

Zn0

 

820

 

600

 

I0"5

-

10

час

5*Ю3

кварц

[130]

CdflS,

 

680

 

600

!

-

-

10

час

г - ю 4

кварц

[130]

Z/i5Jf$g

 

1050

 

600

 

-

~

10

час

СО

v-i

кварц

[130]

 

 

 

о

Cd6№&

780

 

600

 

Ю“5

~

ю

час

3-I04

кварц

[130]

Си

в

эмиссион.макроскопе10"

~

10

сек

 

10

W

[128,129]

In ds

 

Тисп.

 

450

 

I0-5

-

30

мин

 

150

стекло

[131] ■

 

 

 

 

с пок­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

'

рытием

 

 

i

 

1

 

|

 

1-----

 

_____

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

паров соответствующих металлов: C

r .

N, ,

Fq ,

Со ,

 

С и и

Й ц .

Испаряемый металл

(в форме цилиндра 2) поме­

щался в ростовую камеру 3, в которой создавался радиальный

температурный градиент.

Осаждение

велось на подложку 4 из

одноименных металлов

том числе

и на

крупные НК) или

на

молибденовые экраны. Положение подложек в ростовой камере могло «вменяться при помощи магнитного привода 5. Ростовая камера и Материал подложки предварительно в течение 30 мин обевгаКивалиоь при высокой температуре. Условия роста и резуль­ таты экспериментов приведены в таблице 2. Самые крупные усы

достигали

в диаметре

0,5 мкм, их максимальная

длина состав­

л я в 300

шеи. Кристаллы были

прямыми, гладкими и имели

Достоянный диаметр по

длине.

Было обнаружено,

что рост усов

в длину происходил в течение определенного времени (например,

для С и

при 1000°С

3 часа) и далее прекращало Длина

кристаллов

аависела и

от температуры.

 

-

19 -

 

 

Морелок установил также влияние остаточного давления

кислорода и водяных паров на образование

кристаллов. При

давлении паров металла ниже И "6ми р т .с т .

уон химически

активных металлов

(О л ,

5Ъ , Ni , Си

) не зарождались. Вто

связывается с тем,

что

следы кислорода

в

вакууме могли вза­

имодействовать о металлом, образуя окислы. Считается, что рост НК может происходить лишь при поддержании парциального давления кислорода ниже диссоциационного давления окисла

соответствующего металла в аоне роста. В работе же [Ю З ]

показано, что сильное влияние кислорода на кристаллизацию обусловлено его адсорбционными особенностями. Усы золота рос­ ли и при более низких давлениях пара О-' 10- / ам р т .с т .У

Многими авторами [l0 9 , H 2, 128,129, 133-135] отмечается

влияние материала, чистоты и температуры подложки на образо­

вание, морфологию и структуру кристаллов. Так НК меди [ 128] .

получаемые непосредственно в камере эмиссионного микроскопа при давлении 10“9мм р т .ст . на вольфрамовой подложке, могли иметь ОЦК и ГЦК - решетку в зависимости от количества приме­ сей, содержащихся в исходном материале и материале подложки.

При содержании примеси

более 0,003

$ образовались кристаллы

о ОЦК

-

решеткой, а при

содержании

примеси<0,0003$

на

W

-

подложке

растут

НК с ГЦК и

ОЦК -

решетками.

На под­

ложке

из

платины

всегда

росли только ГЦК

- уон меди.

 

Исследуя реет ленточных и нитевидных кристаллов

при вакуумном напылении на молибденовые и графитовые подлож­

ки, Палатник с соавторами [I I2 J обнаружил, что образование

НК происходит лишь при достижении вполне определенной темпе­ ратуры подложки 220°С. И это вполне понятно, так как при

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ