книги из ГПНТБ / Аммер, С. А. Нитевидные кристаллы (получение, механизмы и кинетика роста) учеб. пособие
.pdf- 1 60 -
растворения устанавливалась II50-I250°C, в зоне кристаллиза ции 800-Ю00°С. Давление паров растворителя не превышало
4 ати. Нити и иглы |
росли на полиметаллической |
осадке, были |
||
монокристаллами |
с |
ориентацией ( I I I ) |
и гамогенными по составу. |
|
Они имели четко |
выраженную огранку |
и зеркально |
чистую поверх |
ность. Длина их могла достигать 30 мы. Введение в реакционную
вону примесей позволяет получать легированные НК твердых раст воров с различным типом проводимости и высокими механическими свойствами.
Некоторые полупроводниковые соединения. Химические тран спортные реакции в газовой фазе широко используются для выра щивания НК полупроводниковых соединений группы АЭВ5 и других.
Кристаллизацию чаще всего производят в запаянных ампулах с йодом
или бромом в качестве переносчика. Рабочие температуры выбира ют, основываясь на результатах предварительного термодинами
ческого анализа равновесных |
условий |
кристаллизации соединений |
о учетом ограничений, накладываемых |
кинетикой процесса. Кон |
|
центрация транспортирующего |
агента |
обычно выбирается такой, |
чтобы перенос контролировался диффузией. Это обеспечивает по-
чучение совершенных монокристаллов.
Основными факторами, определяющими форму и свойства крис таллов, являются: температурный режим, чистота исходного ма териала, вид и концентрация вещества - переносчики. В зависи мости от етого они могут быть изометрическими, игольчатыми,
пластинчатыми или нитевидными. В таблице 19 приведены опти мальные условия, обеспечивающие наибольший выход соверщ:нных
НК.
-161 -
В работах [561-563] рассмотрены существующие метода рас
чета скоростей массопереноса полупроводниковых соединений типа в закрытой системе в зависимости от концентрации перенос
чика. Обычно, когда перенос определяется диффузией, при расче тах пренебрегают конвекционным фактором. Однако, неучет этого
приводит к существенным ошибкам.
НК соединений АЭВ5 удается выращивать и в газовом потоке.
Транспортирующим агентом обычно служит водород, содержащий па
ры вода, или хлористый водород. Рост усов происходит на кристал лических подложках из того же материала, что и получаемые НК.
При этом один или несколько компонентов могут подаваться в з о - _
ну реакции в виде газообразных соединений вместе с потоком.
Например, при выращивании усов арсенида галлия шшьяк достав
ляется в |
зону |
роста в соединении |
с хлором при барботировании |
|
водорода |
через |
жидкий |
[57б] ; монокристаллы GaN осаж -. |
|
дались из |
газовой смеси |
МН>> , |
. хлористого галлия с водоро |
|
дом [579] |
. Высокие пересыщения |
паров исходных веществ и боль |
шие температурные градиент# способствуют высоким скоростям рос
та кристаллов (0,2 мм/мин для Galls |
[57б] ) , но ухудшают со |
вершенство их структуры. Кислород, |
присутствующий в исходных |
соединениях (паре воды), видимо, также принимает участие в хи мических процессах,. Так для арсенида галлия предполагается об разование кристаллов в результате обратимой химической.реак ции [575] :
+H20 ^ r GaaO(r) + (г) + (г) (9D
Большую роль в кристаллообразовании и в этом одучае игра ют примеси некоторых металлов, вводимые в зону роста в чистом
Таблица 19.
Условия роста НК некоторых полупроводниковых соединений
СоединениеИсходные Переносчик, вещества концентрация
(нг/см3)
_L
Температура зок,°С
испарековденсания цик
3r>As |
3nAs |
йод марки В5 |
830-850 |
800-830 |
|
%Р |
In ? |
|
с~1) |
||
|
ЙОД |
-9 0 0 |
>900 |
||
ОаР |
GaP.Ga |
йод |
(-0 ,5 ) |
-980 |
800-900 |
GaAs , |
GaAs |
йод |
(-1,5) |
700-750 600-700 |
|
GaAs |
GaAs |
Вг (-2 -2,5) |
1000 |
900 |
|
Ai$t |
At,SS . |
хлор |
|
1100-1300 |
900-1050 |
Ga$6 |
Ga,$6 |
3 млн Вг |
650-800 |
|
|
|
|
(~ 1 ) |
450-550 |
||
SiAs |
Si,As |
йод |
|
-1000 |
|
feT6a^=4:1
Размены крист, |
|
Литера |
||
Метод |
турный |
|||
|
|
|||
мм |
ЦКИ |
ксточке к |
||
|
|
|||
~6~ |
|
|
|
|
|
|
ампулы. |
[561,564] |
|
|
|
ампулы |
[565] |
|
|
<20 |
ампулы |
[566] |
|
<10 |
<500 |
ампулы |
[567,568] |
|
20 |
<500 |
ампулы |
[569,570] |
|
|
|
ампулы |
[571] |
|
|
60 |
ампулы |
1572,573] |
|
|
|
ампулы |
[581] |
ы
Сч
го
GaP |
P |
|
975-1060 950-1000 |
20 |
200 ампулы |
[574] |
||
|
|
|
||||||
GaAs |
fa 45 |
мажвый Н0 |
980-1030 |
780-830 |
неск.ик |
газ. поток [575] |
||
GaAs |
Qa*Astt3 |
водород |
750-800 |
650-700 |
6 |
|
I |
|
га з . поток [57б] |
||||||||
fexP |
Ga?*9a |
влажный Н, |
1100 |
900-1000 |
20 |
|
I |
|
га з . пот ок [575,577,578J |
||||||||
|
|
|
|
|
|
___ I
С-«лГ
fra 35
Ira S
£a.Se
C«e.Se
Cuj /e
S £ >
л ' №
Продолжение таблицы 19,
2 |
I |
3 |
|
|
|
7 |
|
fnrHtfrM 3 |
водород |
300 |
825 |
|
- |
||
|
|
||||||
В Д J |
водород |
ioocj). |
500-600 |
|
|
||
|
|
|
500(S6), |
|
|
||
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
800 (fra) |
|
|
_ |
|
fra 5 |
йод |
(~1) |
930 |
800-870 |
~I0 |
||
|
|||||||
/Vi 5 |
йод |
|
1000 |
900 |
|
- |
|
fa |
йод*-,5е |
|
|
|
|
||
с* |
$ё |
350-500 |
|
|
|
||
Си |
Те |
|
.600 |
|
|
|
|
|
йод |
|
700-750 |
350-530 |
40 |
X0 |
|
fl/d} Teг |
иод |
|
900 |
660-690 |
15 |
|
8 |
9 |
газ.поток |
[579J |
газ.поток |
[5801 |
ампула |
[582] |
ампула |
[583] |
ампула или |
[58*] |
поток |
|
ампула |
I |
[5851 |
|
ампула |
[5851 |
ампула |
[123] |
ампула |
[586] |
- 164
виде иди,,в виде галогенидов, ото часто используется, в част
ности, в целях, легирования, когда нужно получить НК о опреде
ленный типом проводииости и концентрацией носителей.
Энтел и Эффер [587] предложили иетод выращивания кристал
лов интерметаллических соединений А^В?, несколько отличающий
ся от раи^е. рассмотренных. Так при взаимодействии с мышьяком
в эвакуированных кварцевых ампулах были осуществлены реакции
типа: |
|
ЗУпС1 * /а й$ч ^ £ЭпД$г |
£9 2 ) |
Получены нитевидные и другие кристаллы. В результате окисли тельно-восстановительных транспортных реакций получают НК
фосфида галлия |
[57д] . |
|
|
|
|
|
С помощью химических газотранспортных реакций выращивают |
||||||
НК соединений |
с элементами шестой группы (таблица |
19). |
Крис |
|||
таллы сульфидов многих металлов: |
2п |
[159,166] , |
Mi |
[583] , |
||
QcL [158,165] |
, |
[588] , |
Си |
[389] и другие часто |
||
получают с использованием сернистого |
водорода Май |
при высоких |
температурах, когда соединения диссоциируют. Кроме ампульного,
для этих же целей применяют и методы газового потока.
Металлы
Приведем такие некоторые примеры применения химических транспортных реакций для выращивания кристаллов некоторых ме таллов и окислов.
Келево. В условиях химического переноса в стационарных условиях получали НК железа. В работах [148,149] для этой цели была выбрана сиотена, в которой перенос металла из горя-
- 1 6 5
чей зоны в холодную происходил по обратйиОй1реакции с хлорис
тым водородом в качестве |
растворителя: |
|
% |
||
F p ( r) +• |
И н О ( { г ) Z ? |
F<f0i ,2 ( г ) |
H iz ( r ) |
С9Ъ) |
|
С химической |
точки зрения эту систему исследовал Шеффер [56?]. |
||||
В кварцевую ампулу (зона источника) помещали ленту желе |
|||||
за , приготовленную многократной переплавкой в |
вакууме |
порошка |
|||
карбонильного железа. В зоне кристаллизации располагались |
|||||
затравочные |
НК железа, выращенные по методу Бреннера. |
После |
вакуумирования и заполнения газообразным хлористым водородом
ампула запаивалась. Перенос обуславливался температурным Гра
диентом вдоль |
оси ампулы: Tj« В60°С, Tg ■ 700°С. |
Скорость его |
составляла 4-5 |
мг*час- *. Время роста занимало 64 |
часа Усы |
росли на затравочных НК и на стенках ампулы при определенном
давлении, влажности НС б- и градиенте температур. Наряду с
ростом усов наблюдалось эпитаксиальное наращивание слоев же леза на поверхности ампулы и затравки. В отсутствии затравоч ных кристаллов рост усов не происходил. По-видимому, это было связано с изменением пересыщения в зоне роота.
Ленточные НК железа были получены в системе с бромом в
качестве переносчика [590] .
Вольфрам. Реакции переноса металлов могут иметь место
в среде влажного водорода и приводить к образованию нитевид
ных и игольчатых кристаллов. |
Это, в частности, |
Наблхдалооь |
||
авторами |
[394,395,591,592] , |
исследовав (алиирост |
усов вольфра |
|
ма на |
W |
- проволоке при прямом нагреве ее электрическим |
||
током |
до |
температуры 2650°С. Рост осуществлялся с помощьр |
- |
1 6 6 - |
транспорта летучих окислов по реакции: |
|
М<?(Т) + пН'аО(г) дг |
Пе On и ) f |
НК ииели четкую огранку, ориентацию <111^ и длину до I uu. |
В сухой водороде роста не наблюдалось.
Рост игольчатых кристаллов вольфрама изучался также Алек сандровны [593,594] в замкнутых кварцевых трубках на спирали
нз вольфрамовой проволоки, нагреваемой пропусканием тока до
2800-2900°С. Трубка заполнялась аргоном и парами йода (40-
80 мг^л"^). Однако, усы образовывались лишь в присутствии влаги. В связи с этим остается не ясным играет ли здесь роль перенос с участием йода или происходит реакция типа (94).
Вейсом [595] была показана возможность получения НК воль
фрама в галогенидных системах и, в частности, в системе \Х/'+йп2 ,
Рост производился в запаянных кварцевых ампулах объемом IP-
14 см3 при давлениях брома от 0,03 до 2,5 атм в области |
с тем |
пературой ИЭ0°С, временах выдержки от 20 до 400 часов. |
Отме |
чено влияние геометрии ампулы на форму роста. |
|
Окислы. Гауптман [59б] разработал способ получения |
свето |
проводящих кристаллов окислов со структурой корунда. Для этой цели им был выбран метод химических транспортных реакций, приме ненный ранее для вымащивания НК железа и его окислов. Удалось
вырастить |
кристаллы Ti20j > T i0 2 |
и др. ТранспортT i20 3 иссле |
||||
довался в |
запаянных |
ампулах |
из прозрачного кварца, заполненных |
|||
НQt |
до давления |
0,04 атм. |
Исходным материалом служил поро- |
|||
■окТ ;й0 , |
о примесью Ti 0 2 . |
Температура вдоль ампулы опяа: |
||||
Tj * |
I000°C, Tg ■ 900°С. Время роста |
120 часов |
||||
|
Кристаллы Г|.г О>, росли |
на |
кварце, |
достигав i длип до 1мм |
167 -
Вместе с ними образовывались НК Тi 0^ в виде пуха и осаждал
ся металлический титан. Это было связано о тем, что одновре
менно в системе могли иметь меото реакции, |
дашие выход р аз |
личных продуктов: |
|
п йо4 (г) ♦ ьное(г) - г ,о е ,(г) +- анйо |
(95) |
iTieeH6f |
Т| из |
(9б> |
т,-оеЧ(г) + г ив0(г) |
= г,оа(г> +чнос |
С97) |
Совокупность указанных реакций делала невозможным получение однофазных кристаллов. Авторы провели подробный термодинами ческий анализ рассматриваемой оиотемы, однако не ваяли спосо ба разделения или подавления нежелательных реакций.
НК окиси меди |
(1иО также |
получается методом химического |
|
переноса о Ндг |
[439] или |
ИОI |
[435,436] в качеотве тран |
спортирующего газа. Размеры |
кристаллов и скорооти их роста |
||
были невелики. |
|
|
|
-168 -
ВЫРАЩИВАНИЕ НК ИЗ РАСТВОРОВ
Ооаждение из кидких растворов с технологической точки зрения является очень удобными методой выращивания кристаллов многих веществ. Для получения НК необходимо создание условий кристаллизации в пересыщенных растворах. Пересыщение достига ется охлаждением, испарением или иным способом. Большой мате риал по втии вопросам представлен в обзорах [10,28,597] .
а) Образование НК в водных растворах Дьюлаи [598,599] выращивал НК Кбг и 1ЧаОе. при переох
лаждении насыщенного при 70°С раствора соли в запаянной стеклян
ной ампуле. Если переохлажденный примерно на 20° раствор интен
сивно перемешать, то образуется множество кристаллов. Через 5-
15 мин |
в растворе становятся видимыми длинные тонкие иглы и |
|||||||
пластинки. С течением времени количество кристаллов медленно |
||||||||
растет, |
затем лавинообразно нарастает,и в течение |
неокольких |
||||||
минут раствор заполняется облаком тонких игл и НК. Вместе о |
||||||||
прямыми |
образуется, |
особенно |
на |
последних стадиях |
процесса, |
|||
много спиральных или скрученных кристаллов. |
|
|
||||||
Кристаллизацией |
из |
растворов выращивают |
также усы Lt F |
|||||
[600,601] |
,« 3 , СсП |
[602] |
, К 0г [602,603] |
, NaCe [604], |
||||
[610-612] |
, оелена [605,60б] , дигидрофосфата калия |
[607] , три |
||||||
глицерида |
[72] и других |
веществ |
[10,12,608,609] . |
В качестве |
подложки для роста использовались массивные кристаллы, погру
жаемые в растворы |
[28,601,604-606,613] |
, пористые пленки |
[600, |
|
614] иля отекла |
[604] . |
Кристаллы лучше росли на свежесколо- |
||
тых или грубошлифованных |
поверхностях. |
Так, например, НК |
селе |
1 6 9 -
на выращивались на поверхности кристаллов магния и его спла вов с алюминием и цинком в водных растворах селеновой кислоты
(4-8% И2 Ье Oj, ) [606] . Кристаллы образовывались в большем количестве на неотодженных подложках.
Нередко на массивных монокристаллах, извлеченных из раст
воров, при их высыхании таете наблюдается рост усов: hlcxCtO^
[615] , N('2, КОе, Кйг', К '3, |
L616] |
- Отмечается боль |
шое влияние некоторых примесей в растворе и в |
материале под |
лодки на зарождение и скорость роста НК различных материалов.
Подробное исследование влияния поливинилового спирта в раство
ре на рост НК i< ftг- |
и |
Ыо-Qi было проведено Бережковой, Родан- |
|
ским [бГЗ]и Хартманнои |
[40] . Поливиниловый спирт |
является |
|
поверхностноактивным |
веществом, его нитеобразные |
молекулы ад |
сорбируются на боковых ступенях роста кристаллов, способствуя
их одномерному удлинению. Кроме того, в присутствии |
спирта |
||||||
модно приготовлять более или менее стабильный пересыщенный |
|||||||
раствор |
с концентрацией выше равновесной. Хартманном |
40, 618 |
|||||
детально |
рассмотрено влияние |
на рост |
НК NaOfc |
ионных примесей, |
|||
вводимых в раствор в виде хлоридов |
с |
концентрациями |
10~•г - |
||||
I мол# и дающих двухвалентные |
катионы: (.’а, Mn, |
S r, Р а, |
йш, |
Fo, |
|||
ZW, S>n, Qd. Pi bif трехвалентные |
£>< |
и одновалентные - |
H. |
Исоле- |
довалось также влияние аниона ОН. Указанные примеси затрудня ют рост НК. Особенно сильное воздействие имели именно те при
меси, которые |
оказывались аффективными добавками в травителях |
|||
для |
Л/аО£ |
• РЬ, Qd,ei, Hn( Sn, Mg |
. В присутствии |
|
РЬ |
или |
Cd |
уже при концентрациях |
10“^мол# и больше НК не |
образовывались. |
|
|||
|
Влияние |
концентрации растворов на морфологию кристаллов |