Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Аммер, С. А. Нитевидные кристаллы (получение, механизмы и кинетика роста) учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
17
Добавлен:
21.10.2023
Размер:
9.61 Mб
Скачать

- 1 60 -

растворения устанавливалась II50-I250°C, в зоне кристаллиза­ ции 800-Ю00°С. Давление паров растворителя не превышало

4 ати. Нити и иглы

росли на полиметаллической

осадке, были

монокристаллами

с

ориентацией ( I I I )

и гамогенными по составу.

Они имели четко

выраженную огранку

и зеркально

чистую поверх­

ность. Длина их могла достигать 30 мы. Введение в реакционную

вону примесей позволяет получать легированные НК твердых раст­ воров с различным типом проводимости и высокими механическими свойствами.

Некоторые полупроводниковые соединения. Химические тран­ спортные реакции в газовой фазе широко используются для выра­ щивания НК полупроводниковых соединений группы АЭВ5 и других.

Кристаллизацию чаще всего производят в запаянных ампулах с йодом

или бромом в качестве переносчика. Рабочие температуры выбира­ ют, основываясь на результатах предварительного термодинами­

ческого анализа равновесных

условий

кристаллизации соединений

о учетом ограничений, накладываемых

кинетикой процесса. Кон­

центрация транспортирующего

агента

обычно выбирается такой,

чтобы перенос контролировался диффузией. Это обеспечивает по-

чучение совершенных монокристаллов.

Основными факторами, определяющими форму и свойства крис­ таллов, являются: температурный режим, чистота исходного ма­ териала, вид и концентрация вещества - переносчики. В зависи­ мости от етого они могут быть изометрическими, игольчатыми,

пластинчатыми или нитевидными. В таблице 19 приведены опти­ мальные условия, обеспечивающие наибольший выход соверщ:нных

НК.

-161 -

В работах [561-563] рассмотрены существующие метода рас­

чета скоростей массопереноса полупроводниковых соединений типа в закрытой системе в зависимости от концентрации перенос­

чика. Обычно, когда перенос определяется диффузией, при расче­ тах пренебрегают конвекционным фактором. Однако, неучет этого

приводит к существенным ошибкам.

НК соединений АЭВ5 удается выращивать и в газовом потоке.

Транспортирующим агентом обычно служит водород, содержащий па­

ры вода, или хлористый водород. Рост усов происходит на кристал­ лических подложках из того же материала, что и получаемые НК.

При этом один или несколько компонентов могут подаваться в з о - _

ну реакции в виде газообразных соединений вместе с потоком.

Например, при выращивании усов арсенида галлия шшьяк достав­

ляется в

зону

роста в соединении

с хлором при барботировании

водорода

через

жидкий

[57б] ; монокристаллы GaN осаж -.

дались из

газовой смеси

МН>> ,

. хлористого галлия с водоро

дом [579]

. Высокие пересыщения

паров исходных веществ и боль­

шие температурные градиент# способствуют высоким скоростям рос­

та кристаллов (0,2 мм/мин для Galls

[57б] ) , но ухудшают со­

вершенство их структуры. Кислород,

присутствующий в исходных

соединениях (паре воды), видимо, также принимает участие в хи­ мических процессах,. Так для арсенида галлия предполагается об­ разование кристаллов в результате обратимой химической.реак­ ции [575] :

+H20 ^ r GaaO(r) + (г) + (г) (9D

Большую роль в кристаллообразовании и в этом одучае игра­ ют примеси некоторых металлов, вводимые в зону роста в чистом

Таблица 19.

Условия роста НК некоторых полупроводниковых соединений

СоединениеИсходные Переносчик, вещества концентрация

(нг/см3)

_L

Температура зок,°С

испарековденсания цик

3r>As

3nAs

йод марки В5

830-850

800-830

In ?

 

с~1)

 

ЙОД

-9 0 0

>900

ОаР

GaP.Ga

йод

(-0 ,5 )

-980

800-900

GaAs ,

GaAs

йод

(-1,5)

700-750 600-700

GaAs

GaAs

Вг (-2 -2,5)

1000

900

Ai$t

At,SS .

хлор

 

1100-1300

900-1050

Ga$6

Ga,$6

3 млн Вг

650-800

 

 

 

(~ 1 )

450-550

SiAs

Si,As

йод

 

-1000

 

feT6a^=4:1

Размены крист,

 

Литера­

Метод

турный

 

 

мм

ЦКИ

ксточке к

 

 

~6~

 

 

 

 

 

ампулы.

[561,564]

 

 

ампулы

[565]

 

<20

ампулы

[566]

<10

<500

ампулы

[567,568]

20

<500

ампулы

[569,570]

 

 

ампулы

[571]

 

60

ампулы

1572,573]

 

 

ампулы

[581]

ы

Сч

го

GaP

P

 

975-1060 950-1000

20

200 ампулы

[574]

 

 

 

GaAs

fa 45

мажвый Н0

980-1030

780-830

неск.ик

газ. поток [575]

GaAs

Qa*Astt3

водород

750-800

650-700

6

 

I

га з . поток [57б]

fexP

Ga?*9a

влажный Н,

1100

900-1000

20

 

I

га з . пот ок [575,577,578J

 

 

 

 

 

 

___ I

С-«лГ

fra 35

Ira S

£a.Se

C«e.Se

Cuj /e

S £ >

л ' №

Продолжение таблицы 19,

2

I

3

 

 

 

7

fnrHtfrM 3

водород

300

825

 

-

 

 

В Д J

водород

ioocj).

500-600

 

 

 

 

 

500(S6),

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

800 (fra)

 

 

_

fra 5

йод

(~1)

930

800-870

~I0

 

/Vi 5

йод

 

1000

900

 

-

fa

йод*-,5е

 

 

 

 

с*

350-500

 

 

 

Си

Те

 

.600

 

 

 

 

йод

 

700-750

350-530

40

X0

fl/d} Teг

иод

 

900

660-690

15

 

8

9

газ.поток

[579J

газ.поток

[5801

ампула

[582]

ампула

[583]

ампула или

[58*]

поток

ампула

I

[5851

ампула

[5851

ампула

[123]

ампула

[586]

- 164

виде иди,,в виде галогенидов, ото часто используется, в част­

ности, в целях, легирования, когда нужно получить НК о опреде­

ленный типом проводииости и концентрацией носителей.

Энтел и Эффер [587] предложили иетод выращивания кристал­

лов интерметаллических соединений А^В?, несколько отличающий­

ся от раи^е. рассмотренных. Так при взаимодействии с мышьяком

в эвакуированных кварцевых ампулах были осуществлены реакции

типа:

 

ЗУпС1 * /а й$ч ^ £ЭпД$г

£9 2 )

Получены нитевидные и другие кристаллы. В результате окисли­ тельно-восстановительных транспортных реакций получают НК

фосфида галлия

[57д] .

 

 

 

 

 

С помощью химических газотранспортных реакций выращивают

НК соединений

с элементами шестой группы (таблица

19).

Крис­

таллы сульфидов многих металлов:

2п

[159,166] ,

Mi

[583] ,

QcL [158,165]

,

[588] ,

Си

[389] и другие часто

получают с использованием сернистого

водорода Май

при высоких

температурах, когда соединения диссоциируют. Кроме ампульного,

для этих же целей применяют и методы газового потока.

Металлы

Приведем такие некоторые примеры применения химических транспортных реакций для выращивания кристаллов некоторых ме­ таллов и окислов.

Келево. В условиях химического переноса в стационарных условиях получали НК железа. В работах [148,149] для этой цели была выбрана сиотена, в которой перенос металла из горя-

- 1 6 5

чей зоны в холодную происходил по обратйиОй1реакции с хлорис­

тым водородом в качестве

растворителя:

 

%

F p ( r) +•

И н О ( { г ) Z ?

F<f0i ,2 ( г )

H iz ( r )

С9Ъ)

 

С химической

точки зрения эту систему исследовал Шеффер [56?].

В кварцевую ампулу (зона источника) помещали ленту желе­

за , приготовленную многократной переплавкой в

вакууме

порошка

карбонильного железа. В зоне кристаллизации располагались

затравочные

НК железа, выращенные по методу Бреннера.

После

вакуумирования и заполнения газообразным хлористым водородом

ампула запаивалась. Перенос обуславливался температурным Гра­

диентом вдоль

оси ампулы: Tj« В60°С, Tg ■ 700°С.

Скорость его

составляла 4-5

мг*час- *. Время роста занимало 64

часа Усы

росли на затравочных НК и на стенках ампулы при определенном

давлении, влажности НС б- и градиенте температур. Наряду с

ростом усов наблюдалось эпитаксиальное наращивание слоев же­ леза на поверхности ампулы и затравки. В отсутствии затравоч­ ных кристаллов рост усов не происходил. По-видимому, это было связано с изменением пересыщения в зоне роота.

Ленточные НК железа были получены в системе с бромом в

качестве переносчика [590] .

Вольфрам. Реакции переноса металлов могут иметь место

в среде влажного водорода и приводить к образованию нитевид­

ных и игольчатых кристаллов.

Это, в частности,

Наблхдалооь

авторами

[394,395,591,592] ,

исследовав (алиирост

усов вольфра­

ма на

W

- проволоке при прямом нагреве ее электрическим

током

до

температуры 2650°С. Рост осуществлялся с помощьр

-

1 6 6 -

транспорта летучих окислов по реакции:

М<?(Т) + пН'аО(г) дг

Пе On и ) f

НК ииели четкую огранку, ориентацию <111^ и длину до I uu.

В сухой водороде роста не наблюдалось.

Рост игольчатых кристаллов вольфрама изучался также Алек­ сандровны [593,594] в замкнутых кварцевых трубках на спирали

нз вольфрамовой проволоки, нагреваемой пропусканием тока до

2800-2900°С. Трубка заполнялась аргоном и парами йода (40-

80 мг^л"^). Однако, усы образовывались лишь в присутствии влаги. В связи с этим остается не ясным играет ли здесь роль перенос с участием йода или происходит реакция типа (94).

Вейсом [595] была показана возможность получения НК воль­

фрама в галогенидных системах и, в частности, в системе \Х/'+йп2 ,

Рост производился в запаянных кварцевых ампулах объемом IP-

14 см3 при давлениях брома от 0,03 до 2,5 атм в области

с тем­

пературой ИЭ0°С, временах выдержки от 20 до 400 часов.

Отме­

чено влияние геометрии ампулы на форму роста.

 

Окислы. Гауптман [59б] разработал способ получения

свето­

проводящих кристаллов окислов со структурой корунда. Для этой цели им был выбран метод химических транспортных реакций, приме ненный ранее для вымащивания НК железа и его окислов. Удалось

вырастить

кристаллы Ti20j > T i0 2

и др. ТранспортT i20 3 иссле­

довался в

запаянных

ампулах

из прозрачного кварца, заполненных

НQt

до давления

0,04 атм.

Исходным материалом служил поро-

■окТ ;й0 ,

о примесью Ti 0 2 .

Температура вдоль ампулы опяа:

Tj *

I000°C, Tg ■ 900°С. Время роста

120 часов

 

Кристаллы Г|.г О>, росли

на

кварце,

достигав i длип до 1мм

167 -

Вместе с ними образовывались НК Тi 0^ в виде пуха и осаждал­

ся металлический титан. Это было связано о тем, что одновре­

менно в системе могли иметь меото реакции,

дашие выход р аз­

личных продуктов:

 

п йо4 (г) ♦ ьное(г) - г ,о е ,(г) +- анйо

(95)

iTieeH6f

Т| из

(9б>

т,-оеЧ(г) + г ив0(г)

= г,оа(г> +чнос

С97)

Совокупность указанных реакций делала невозможным получение однофазных кристаллов. Авторы провели подробный термодинами­ ческий анализ рассматриваемой оиотемы, однако не ваяли спосо­ ба разделения или подавления нежелательных реакций.

НК окиси меди

(1иО также

получается методом химического

переноса о Ндг

[439] или

ИОI

[435,436] в качеотве тран­

спортирующего газа. Размеры

кристаллов и скорооти их роста

были невелики.

 

 

 

-168 -

ВЫРАЩИВАНИЕ НК ИЗ РАСТВОРОВ

Ооаждение из кидких растворов с технологической точки зрения является очень удобными методой выращивания кристаллов многих веществ. Для получения НК необходимо создание условий кристаллизации в пересыщенных растворах. Пересыщение достига­ ется охлаждением, испарением или иным способом. Большой мате­ риал по втии вопросам представлен в обзорах [10,28,597] .

а) Образование НК в водных растворах Дьюлаи [598,599] выращивал НК Кбг и 1ЧаОе. при переох­

лаждении насыщенного при 70°С раствора соли в запаянной стеклян­

ной ампуле. Если переохлажденный примерно на 20° раствор интен­

сивно перемешать, то образуется множество кристаллов. Через 5-

15 мин

в растворе становятся видимыми длинные тонкие иглы и

пластинки. С течением времени количество кристаллов медленно

растет,

затем лавинообразно нарастает,и в течение

неокольких

минут раствор заполняется облаком тонких игл и НК. Вместе о

прямыми

образуется,

особенно

на

последних стадиях

процесса,

много спиральных или скрученных кристаллов.

 

 

Кристаллизацией

из

растворов выращивают

также усы Lt F

[600,601]

,« 3 , СсП

[602]

, К 0г [602,603]

, NaCe [604],

[610-612]

, оелена [605,60б] , дигидрофосфата калия

[607] , три­

глицерида

[72] и других

веществ

[10,12,608,609] .

В качестве

подложки для роста использовались массивные кристаллы, погру­

жаемые в растворы

[28,601,604-606,613]

, пористые пленки

[600,

614] иля отекла

[604] .

Кристаллы лучше росли на свежесколо-

тых или грубошлифованных

поверхностях.

Так, например, НК

селе­

1 6 9 -

на выращивались на поверхности кристаллов магния и его спла­ вов с алюминием и цинком в водных растворах селеновой кислоты

(4-8% И2 Ье Oj, ) [606] . Кристаллы образовывались в большем количестве на неотодженных подложках.

Нередко на массивных монокристаллах, извлеченных из раст­

воров, при их высыхании таете наблюдается рост усов: hlcxCtO^

[615] , N('2, КОе, Кйг', К '3,

L616]

- Отмечается боль­

шое влияние некоторых примесей в растворе и в

материале под­

лодки на зарождение и скорость роста НК различных материалов.

Подробное исследование влияния поливинилового спирта в раство­

ре на рост НК i< ftг-

и

Ыо-Qi было проведено Бережковой, Родан-

ским [бГЗ]и Хартманнои

[40] . Поливиниловый спирт

является

поверхностноактивным

веществом, его нитеобразные

молекулы ад­

сорбируются на боковых ступенях роста кристаллов, способствуя

их одномерному удлинению. Кроме того, в присутствии

спирта

модно приготовлять более или менее стабильный пересыщенный

раствор

с концентрацией выше равновесной. Хартманном

40, 618

детально

рассмотрено влияние

на рост

НК NaOfc

ионных примесей,

вводимых в раствор в виде хлоридов

с

концентрациями

10~•г -

I мол# и дающих двухвалентные

катионы: (.’а, Mn,

S r, Р а,

йш,

Fo,

ZW, S>n, Qd. Pi bif трехвалентные

£><

и одновалентные -

H.

Исоле-

довалось также влияние аниона ОН. Указанные примеси затрудня­ ют рост НК. Особенно сильное воздействие имели именно те при­

меси, которые

оказывались аффективными добавками в травителях

для

Л/аО£

• РЬ, Qd,ei, Hn( Sn, Mg

. В присутствии

РЬ

или

Cd

уже при концентрациях

10“^мол# и больше НК не

образовывались.

 

 

Влияние

концентрации растворов на морфологию кристаллов

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ