- •Частина 2.Фізичні основи метрології напівпровідників Методи вимірювання питомого електричного опору напівпровідникових матеріалів і структур
- •1.Питомий електричний опір як фундаментальна характеристика напівпровідника
- •1.1Методи визначення типу електропровідності напівпровідників
- •Загальна характеристика зондових методів вимірювання питомого електричного опору
- •1.2.Двозондовий метод
- •1.3.Чотиризондовий метод
- •1.5Метод опору розтікання
- •1.6.Однозондовий метод
- •1.7. Метод Ван-дер-Пау
- •1, 2, 3, 4 – Ножевидні контакти; 5 – досліджуваний зразок; d – товщина зразка.
- •1.8.Властивості і параметри омічних контактів до напівпровідників
- •1.9.Чинники, що визначають точність вимірювань питомого електричного опору зондовими методами
- •1.10.Неруйнуючі методи контролю питомого електричного опору н-п
- •1.11.Апаратура для вимірювання питомого електричного опору напівпровідників
- •2.Методи вимірювання часу життя, нерівноважних носіїв заряду
- •2.1.Час життя нерівноважних носіїв заряду як найважливіший
- •2.2.Стаціонарні методи вимірювання часу життя нерівноважних носіїв заряду
- •2.3.Фотоелектричний метод визначення довжини дифузії
- •2.4.Метод вимірювання дифузійної довжини по іч-поглощенію на вільних носіях заряду
- •2.5.Метод фотогальваномагнітного ефекту
- •2.6.Метод модуляції стаціонарної фотопровідності.
- •2.8.Нестаціонарні методи вимірювання часу життя нерівноважних
- •2.9.Метод модуляції провідності в точковому контакті.
- •2.11.Вимірювання часу життя в електронно-дірчастому переході
- •2.12.Апаратура для вимірювання часу життя нерівноважних носіїв заряду.
- •3.Методи визначення концентрації домішок в напівпровідниках
- •3.1. Загальні відомості про концентрацію домішок і методи її визначення
- •3.2. Визначення концентрації домішок з вимірювань електропровідності
- •3.3. Визначення концентрації і рухливості носіїв заряду з вимірювань ефекту Холу
- •3.4. Основні джерела погрішності при вимірюваннях ефекту Холу
- •3.5. Методи визначення ступеню компенсації домішок в напівпровідниках
- •Метод Буша-Вінклера.
- •Метод Адіровіча
- •Метод Лонга
- •Метод Самойловіча-Баранського
- •3.6. Методи визначення концентрації електрично пасивних домішок в напівпровідниках
- •Оптичний метод визначення концентрації кисню і вуглецю в кремнії і германії.
- •Традиційні методи контролю газових домішок в твердих тілах.
- •Спеціальні електрофізичні методи визначення змісту кисню в напівпровідниках.
- •4 Основи метрології неоднорідних провідників
- •4.1. Вимірювання питомого опору неоднорідних провідників
- •4.2.Вимірювання ефекту Холу в неоднорідних напівпровідниках.
- •4.3.Об'ємно-градієнтні ефекти в напівпровідниках
- •4.4.Критерії однорідності напівпровідникових матеріалів
- •5. Особливості метрології напівпровідникових плівок і структур
- •5.1. Загальна характеристика метрологічних проблем технології напівпровідникових плівок і структур
- •5.2. Вимірювання питомого електричного опору плівок зондовими методами
- •Чотиризондовий метод
- •Тризондовий метод
- •Пятизондовий метод
- •5.3. Вимірювання товщини епітаксіальних плівок
- •Метод фарбування шліфа (сколу)
- •Інтерференційний метод
- •5.4. Методи дослідження дефектів структури епітаксіальних плівок
- •Література
2.4.Метод вимірювання дифузійної довжини по іч-поглощенію на вільних носіях заряду
Цей метод заснований на тому, що поглинання ГИК – випромінювання на зведених носіях заряду пропорційно їх концентрації. Метод не вимагає контактів і додатку до зразка електричного поля. Сутність методу ясна з його спрощеної схеми, представленої на рис. 2.2
1 – зразок; 2 – джерело світла інтенсивністю Io; - вектор магнітної індукції; - товщина зразка; h – довжина освітленої частини зразка.
Рис. 2.3 Схема методу вимірювання часу життя по фотогальваномагнитному ефекту.
Зразок є прямокутним паралелепіпедом, заздалегідь відполірований і протравлений для зменшення внеску поверхневої рекомбінації. З одного з бічних торців він освітлюється рівномірним потоком фотоактивного білого світла, в результаті інжектуючого дії якого в зразку встановлюється якийсь фіксований розподіл вільних носіїв заряду з концентрацією, що убуває у міру видалення від цього торця. Профіль розподілу концентрації вільних носіїв заряду залежить від значення величини L. Визначення розподілу вільних носіїв заряду здійснюється за допомогою ИК–зонда, переміщуваного уподовж зразка. Синхронно з ИК–зондом переміщається фотоприйомний пристрій, реєструючий прозорість зразка як функцію цього переміщення. По характеру залежності розподілу вільних носіїв заряду уздовж напряму інжектуючого білого світла (в найпростішому випадку – це експоненціальна залежність) визначається значення L.
Як ИЧ–зонд краще всього використовувати промінь лазера з довжиною хвилі 3,39 або 10 мкм.
Цей метод, як і метод рухомого світлового зонда, придатний для вимірювання достатньо великих довжин дифузії.
2.5.Метод фотогальваномагнітного ефекту
Фотомагнітний ефект (ФГМ) відкритий Кикоїним і Носковим в 1934 р. Він є аналогом гальваномагнитного ефекту Холу. Виникнення ФГМ–ефекту ясно з рис.2.3. При освітленні зразка фотоактивним світлом в ньому виникає градієнт концентрації і, відповідний йому, дифузійний потік надмірних носіїв заряду (на рисунку він направлений зверху вниз і перпендикулярний поверхні
1 – зразок; 2 – джерело світла інтенсивністю Io; - вектор магнітної індукції; l- товщина зразка; h – довжина освітленої частини зразка.
Рис. 2.3 Схема методу вимірювання часу життя по фотогальваномагнітному ефекту.
зразка). Характер просторового розподілу цих носіїв заряду визначається величиною L. При накладенні магнітного поля перпендикулярно напряму цього потоку (вектор магнітної індукції ) в результаті дії сили Лоренца між торцевими контактами, що знаходяться на відстані h (тобто в напрямі одночасно перпендикулярному і світлу, і вектору магнітної індукції), виникне ЕРС фотогальваномагнітного ефекту U фгм.
Величина цієї ЕРС залежить від інтенсивності світла, величини магнітного поля, геометричних розмірів зразка і довжини дифузії носіїв заряду. У відсутність помітної поверхневої рекомбінації вираз ЕРС фотогальваномагнітного ефекту для зразка, в якому переважають донорні домішки, виглядає таким чином:
U фгм = Io h B (2.5)
де – Io – інтенсивність інжектуючого світла; n – концентрація електронів; В – магнітна індукція; l - товщина зразка; h – довжина освітленої частини зразка або відстань між зондами; і - рухливості електронів і дірок, Lp – шукане значення довжини дифузії дірок в напівпровіднику n–типа провідності.
В даному варіанті методу величина ФГМ–ефекту не залежить від наявності рівнів прилипання, оскільки що знаходяться на цих рівнях носії заряду не беруть участь у формуванні дифузійного потоку і не вносять ніякого внеску в результат вимірювань. Метод дозволяє виміряти дуже малі значення , аж до наносекунд.
Часто використовують інший варіант ФГМ–методу, коли Uфгм компенсують напругою фотопровідності, що виникає при пропусканні постійного струму (Ik) через зразок. Тоді немає необхідності виміряти Io (що звичайно супроводиться великою погрішністю), і формула розрахунку довжини дифузії спрощується:
(2.6)
де Dp – коефіцієнт дифузії дірок, а R – опір, включений послідовно із зразком. Проте, в компенсаційному варіанті метод стає чутливим до рівнів прилипання.
Метод ФГМ застосовують для вимірювання малих часів життя в германії і деяких з'єднаннях типу А3 В5.