- •Поликристаллический метод (метод порошка)
- •Принцип поликристаллического метода
- •Способы регистрации дифракционной картины от поликристалла. Фотографический способ регистрации дифракционной картины
- •Геометрия съемки в цилиндрической камере
- •Зависимость числа и расположения дебаевских линий от различных факторов
- •О выборе излучения при получении дебаеграмм
- •Распознавание к- и к- линий. Монохроматизация излучения
- •Метод плоского образца
- •Дифрактометрический способ регистрации дифракционной картины
- •Индицирование рентгенограмм и дифрактограмм
- •Прецизионное определение периодов кристаллической решетки
- •Способы определения положения дифракционного профиля при дифрактометрической регистрации
- •Заключение к поликристаллическому методу
Зависимость числа и расположения дебаевских линий от различных факторов
При обсуждении указанной зависимости будем рассматривать только “разрешенные” структурным фактором отражения (с учетом закона погасания).
Зависимость от длины волны . Из уравнения Вульфа-Брегга
получаем условие, формирующее число дебаевских линий для данного вещества при съемке в выбранном излучении: . Так как , то и, следовательно, .
Таким образом, на рентгенограмме получаются отражения от тех плоскостей, межплоскостные расстояния которых больше, чем , где – длина волны используемого монохроматического излучения. Отсюда следует, что чем меньше , тем больше дебаевских линий получается на рентгенограмме. Это условие пригодно для анализа рентгенограмм и монокристаллических, и поликристаллических образцов.
В качестве примера можно проанализировать, как изменяется число дебаевских линий на рентгенограмме -Fe (период решетки a=2,86Ǻ, структурный тип – оцк) в разных излучениях (табл. 1).
Таблица 1. Ожидаемое число дебаевских линий для -Fе в разных излучениях
hkl |
d, Ǻ |
K Cr =2,28, Ǻ z = 24 |
K Fe =1,94, Ǻ z =26 |
K Co =1,79, Ǻ z =27 |
K Cu =1,54, Ǻ Z =29 |
110 |
2,02 |
+ |
+ |
+ |
+ |
200 |
1,43 |
+ |
+ |
+ |
+ |
211 |
1,17 |
+ |
+ |
+ |
+ |
220 |
1,01 |
– |
+ |
+ |
+ |
310 |
0,907 |
– |
– |
+ |
+ |
222 |
0,825 |
– |
– |
– |
+ |
Зависимость от периодов решетки a,b, c (при одинаковом структурном типе). Эту зависимость можно рассмотреть на примере дебаеграмм Ni (a = 3,52Ǻ; гцк, структурный тип А1) и Al (a =4,05Ǻ; гцк, структурный тип А1) в излучении железного анода ( =1,94 Ǻ). На рис. 8 схематически показано расположение дебаевских линий Ni и Al.
Рис. 8. Схематическое расположение линий на рентгенограммах Ni и Al
При данном условие d раньше выполняется для Ni, то есть число дебаевских линий на рентгенограмме Ni меньше, чем на рентгенограмме Al.
Таким образом, чем больше период решетки а (при одинаковом структурном типе), тем на меньших углах расположены линии и тем для бόльших h,k,l выполняется условие и, следовательно, на рентгенограмме получается бόльшее число линий.
Зависимость числа линий от кристаллической сингонии. Рассмотрим это на примере кубической и тетрагональной систем для кристаллографической формы {200}.
Рис. 9. Схематичное представление взаимного расположения отражений {200} на рентгенограммах поликристаллов кубической (а) и тетрагональной системы (б)
Квадратичная форма для кубической системы: .
Из этой формулы видно, что при любых перестановках индексов плоскостей типа (200) получаем одно и то же значение межплоскостного расстояния , и, следовательно, угла . Это означает, что на рентгенограмме получается одна дебаевская линия, соответствующая отражению с индексами (200) (рис. 9, а).
Квадратичная форма для тетрагональной системы (a c, ca): .
Из этой формулы видно, что плоскостям (200), (020), ( 00), ( 00) отвечают и угол 1, а плоскостям (002) и (00 ) отвечают и угол 2. Так как , то 2 < 1. Таким образом, на рентгенограмме получают две дебаевские линии с индексами (002) и (200), при этом отражение (200) в два раза интенсивнее, чем (002) (рис. 9, б).
Из сопоставления этих двух случаев можно сделать вывод, что чем менее симметричной сингонией описывается данное вещество, тем больше линий получается на рентгенограмме.