![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Ханс Кристиан Андерсен
- •4. Основные положения метрологии полупроводников
- •4.1. Общая характеристика метрологии полупроводников
- •Электрическая активность дефектов кристаллической структуры в
- •Основные характеристические параметры полупроводниковых материалов и структур
- •Основные физические и технические понятия, термины и определения метрологии и материаловедения полупроводников
- •Системы критериев оценки качества полупроводниковых материалов и
- •4.6 Адаптационный подход к управлению качеством полупроводников
- •4.7 Геттерирование дефектов в полупроводниках
- •4.8 Объекты, методология и принципы организации технологического контроля
- •Экспериментально-статистический подход к оценке качества объёмных кристаллов и структур
- •Основные международные стандарты в области полупроводников
Экспериментально-статистический подход к оценке качества объёмных кристаллов и структур
При массовых производственных измерениях параметров полупроводниковых материалов и структур следует учитывать, что последние представляют собой сплошную физически неоднородную среду. Поэтому дискретизация результатов этих измерений и статистический подход к их обработке должны быть достаточно обоснованы и аргументированы.
Примем во внимание, что в результате единичного измерения какого-либо физического параметра х в какой-либо точке неоднородной среды обязательно будет содержать некоторую неопределённость, обязанную своим происхождением следующих причин:
случайной составляющей погрешности измерений;
невоспроизводимости повторных измерений абсолютно в той же точке.
Роль первого из указанных факторов достаточно хорошо изучена поэтому более подробно остановимся на анализе объёмной неоднородности.
Причины возникновения объёмной неоднородности могут носить как обусловленный, закономерный, так и случайный характер.
Например, если говорить об объёмной примесной неоднородности в монокристалле полупроводников, то к детерминированным причинам её возникновения можно отнести: осевую и радиальную сегрегацию примесей, кривизну фронта кристаллизации, влияние вращения слитка и тигля, выход плоской грани (III) на фронт кристаллизации и др. Эти детерминированные причины действуют на фоне случайных, флуктационных факторов, к числу которых можно отнести колебания скоростных и температурных режимов роста, механические вибрации, присутствие неконтролируемых примесей и проч.
Совокупные действия детерминированных и случайных факторов формирует весьма сложную по характеру объёмную неоднородность.
Если роль случайных факторов несущественна, то распределение параметра х по объёму вещества можно представить как некую аналитическую функцию трёх цилиндрических пространственных координат:
х=F(r,,l) (4.11)
, где r – радиальная, - угловая и l – осевая координаты.
При известной функции распределения среднее значение искомого параметра х определяется в виде интеграла:
(4.12)
где V – объём исследуемого материала, по которому проводится усреднение.
Однако, в большинстве случаев аналитическое описание функции распределения не представляется возможным в виду присутствия в ней значительного случайного фона.
Поэтому функция распределения строится статистически на основании экспериментального изучения распределения контролируемой величины х.
В основу такого подхода положена абстрагированная модель, сущность которой состоит в следующем:
исследуемый объём V условно разбивается на ряд кубиков объёмом Z3, где Z – локальность (разрешающая способность) измерений;
кубики нумеруются в соответствии с таблицей случайных величин (1, 2,… i,… n);
значение величины х определяется в каждом элементарном кубике (x1, x2,… xi,… xn);
при измерении xi совершается ошибка i (погрешность единичного измерения).
Величина n определяется как максимальное возможное число измерений:
(4.13)
Нет смысла брать точки, лежащие друг от друга на расстоянии, меньшем локальности измерений Z, так как это не повышает уровня информации. Только в случае, когда ребро кубика больше или равно Z, каждое из n измерений может считаться независимым.
При вышеуказанных условиях статистических аналог среднего значения искомого параметра х в формуле 4.12 может быть выражен следующим образом:
(4.15)
где - среднеквадратическое отклонение.
Статистические оценки будут тем значимей, чем больше сделано параллельных определений i. В свою очередь, чем больше i, тем больше следует сделать определений, не забывая, впрочем, что n>V/Z3 лишено физического смысла. При заданных значениях n и I может быть определена доверительная вероятность измерений Р.
Стремясь к большей достоверности и воспроизводимости измерений, следует увеличивать объём пробы, т.е. ухудшать локальность и разрешающую способность. Попытки улучшить локальность обязательно сопряжены с уменьшением габаритов измерительной системы (датчика), что автоматически влечёт за собой необходимость соответствующего повышения точности измерений. Кроме того, с уменьшением Z теряется экспрессность (производительность) измерений, так как возрастает n.
Эту взаимную противоречивость основных метрологических характеристик всегда следует учитывать при разработке и постановке тех или иных методов контроля параметров полупроводниковых материалов.