Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Поздняков, Б. С. Термоэлектрическая энергетика

.pdf
Скачиваний:
25
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
19.5 Mб
Скачать

О

rfs-

Материал, легирующие добавки

Si (6 8 %) + Ge (32%)

SiGe

Si (80%) + Ge (20%), легированный P, As

Si (6 8 %) + Ge (32%), легированный

GaB

Si (70%) -j- Ge (30%)

Sii,38i Ge

Сплав MCC-40, легированный CaO (0,5%), В (0,25%)

Сплав MCC-50, легированный CaO (1 %)

Сплав МСС-40, легированный Th02

(0,5%), As (2 %)

 

 

 

 

 

 

Продолжение табл.

4.1

Тип

Точка

Плот­

Температура,

а, 10е

р, 10е

и, 103

Z, 10*

Литерату­

прово­

димо­

плавления,

ность,

СС

в/град

омсм

вт)(смх

{град) 1

 

ра

 

сти

°С

afсм*

Хград)

 

 

р

3,3

27—1000

60

0,24

[13]

 

 

 

150—200

 

 

53

0,30

 

 

 

 

 

 

250—300

 

51

0,42

 

 

 

 

 

 

300—350

50

0,48

 

 

 

350—400

 

49

0,52

 

[4]

400—450

 

 

48

0,55

 

 

 

 

450—500

 

 

47

0,58

 

 

 

 

 

 

500—550

 

 

46

0,59

 

 

 

 

 

 

550—600

 

 

45

0,60

 

 

 

п

1370

2,95

657—1077

67(ф)

0,7

[7]

 

п

3,3

27—1000

60

0,43

[13]

1225

3,3

775

0,7

[1 2 ]

п

5,3

1127

11

0,19

[9]

 

р

1050

3,6

800

0,4

[2 2 ]

р

2 1 0 0

2 , 2

1 2 0 0

0 ,8 1 , 0

[2 2 ] *

 

п

1030

3,7

700

0 , 8

[

2 2

]

 

 

470 .Зак

Сплав МСС-60, легированный СаО

n

2500

2,7

1 2 0 0

0 , 2

[2 2 ]

(1%), ThSi2, CoSi

 

 

 

 

 

 

 

 

 

InAs, легированный Р (5%)

n

427—927

0,55

[1 ]

InAso.g P0,i

n

5,58

27—867

70

0,4

[13]

Хромель

p

1435

8,7

400

72,5

235

 

[15]

 

 

 

 

800

79,8

 

[15]

 

 

 

 

1 0 0 0

83,5

 

[15]

CoSi

n

1415

2 0

46

280

130

0,05

[19]

Ni

n

1452

8,9

2 0

13,3

6 ,5

920

 

[16]

300

16,6

24

680

----- .

 

 

 

 

800

18,0

44

570

 

 

Fe

p

1530

7,8

27

12,3

13,2

770

 

[15]

 

 

 

 

300

14,5

35

560

 

 

 

 

 

800

14,8

108

405

 

CrSi2

p

1550—

4,4

2 0

1 2 0

910

63

0,25

 

 

 

1750

 

 

 

 

 

 

 

Te2 0 3

n

5,2

1300

228

71 000

2 0

[9]

Fe20 3

n

1565

5,2

600

380

8 -1 0 4

2 0

[23]

Fe2Si2

n

650

0 , 2

[1 2 ]

ReSi2

p

1930

2 0

150

0,63

[19]

О

 

 

 

 

 

 

Продолжение табл. 4-1

05

 

 

 

 

 

 

 

Тип

Точка

Плот­

 

 

 

к, 1 0 »

Z, 10»

Литерату

Материал, легирующие добавки

прово­

Температура,

а, 1 0«

р, 10»

димо-

плавления.

ность,

 

в/град

ОМ'СМ

в т Ц с м х

(град)- *

ра

 

сти

°c

г / с м 3

° С

Хград)

NiO

p

1960—

6,3

600

2 0 0

19000

_ _

 

[23]

 

 

2500

 

1300

1 2 0

16000

50

[9]

C r g O g

1990

5,0

377—1127

450

15-10е

1 0 0

0,00013

[24]

 

Cr20 3 + № 0 (1 %)

1990

5,0

377—1127

300

1,7-10*

1 0 0

0,0005

[24]

CeSi,33

n

2 0 0 0

927—1227

Ю (ф)

0,3

[7]

CeS

n

5,27

925

 

 

 

0,4

[1 2 ]

 

11

 

27—1127

0,19

[13]

 

 

 

 

 

 

 

MoSi2

n

2 1 0 0

2 0

2 2

2 2

310

0,07

[13]

^ ^ 2 . 7 2 ^ ^ 4

n

25

800

240

[25]

Ce2 ,5Ba0 6 Se4

n

_

 

25

35

800

24

 

[25]

 

 

 

 

1027

140

1700

26

 

 

Ce2 ,5 Sro,5 Te4

n

_

_

25

40

1 1 0 0

2 0

 

[25]

 

 

 

 

1027

2 1 0

4000

15

 

Na2 |76Te4

n

_

___

25

40

1400

14

 

[28]

 

 

 

 

1027

240

7500

9

 

 

со

с С )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

*

S iC ( а изм ерено в n ape

2400

3 ,2

27

 

15 -10*

360

 

[1 5 ]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

600

300

8 -1 0 *

175

 

 

 

 

 

 

 

1000

300

5 ,7 - 1 0 *

135

 

 

 

M o S i2

 

1500

20

21

470

0 ,0 4

[1 5 ]

 

 

 

 

Pu02

 

2500

11

500

500

1010

30

[1 5 ]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

M o

 

2620

1 0 ,2

27-1227

3 0 ,8

20

1350

0 ,0 3 5

[2 4 ]

 

 

 

 

U S

 

P

2700

1 0 ,8

25

50

286

9 7 ,5

0 ,0 8 9

[ И ]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

500

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

5 6 ,6

325

125

0 ,0 7 9

 

 

 

 

 

 

 

1000

4 3 ,5

328

149

0 ,0 4

 

 

L i ( 7 0 % ) + C (3 0 % )

 

2700

3 ,2

20

108

300

__

[2 6 ]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

500

107

100

 

 

u o 2

 

2800

1 0 ,9

27

2 , 5 - 1013

69

_

[1 5 ]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1000

107

59

 

 

NbB2

 

P

3000

20

12

60

200

0 ,1 2

[2 9 ]

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

W (9 9 ,9 2 % )

 

3360

1 9 ,3

27— 1227

3 1 ,5

24

1350

0 ,0 3 1

[2 4 ]

 

 

 

-VJ

 

 

 

 

 

2127

7 ,3 6

70

970

 

0 5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

этих характеристик). Значения а для термоэлектрического материа­

ла измерены в паре с платиной, если нет специального указания в графе 1. Индекс «ф» в графе 8 означает фононную составляющую теплопроводности. Более подробное описание свойств термоэлектри­ ческих материалов приведено в работах [4—30].

§ 43

Некоторые вопросы изготовления твердых термоэлектриков

Твердые термоэлектрические материалы изготавливаются в основном методом сплавления и порошковой металлургии. Порошко­ вая металлургия, как более простой и дешевый метод, за последнее время получает все более широкое распространение.

Обычно в порошковой металлургии исходные материалы в виде порошков с размером зерна от 1 до 100 мкм прессуются как в хо­

лодном (комнатная температура), так и в горячем (температура вы­ ше 400° С) состояниях. Холодное прессование ведется под давлением 4— 10 Т/см2, давление при горячем прессовании зависит от материа­

ла пресс-форм. В случае графитовых пресс-форм используется дав­ ление до 300 кГ/см2, а в стальных пресс-формах прессование прово­ дится под давлением до 4 Т/см2. Материал, полученный горячим

прессованием, имеет плотность, близкую к теоретической. Горячее прессование, например, используется для изготовления слоистых термоэлементов из таких материалов, для которых технология сплав­ ления очень сложна.

Спрессованные при комнатной температуре материалы подвер­ гают термообработке (спеканию) при температуре ниже точки плав­ ления. В результате происходит упрочнение материала и улучшение проводимости вследствие диффузионных процессов. В процессе по­ следующего холодного или горячего прессования спеченные мате­ риалы еще более уплотняются. Для улучшения термоэлектрических свойств после прессования можно проводить специальную термо­ обработку в атмосфере водорода или в вакууме.

Следует иметь в виду, что свойства некоторых термоэлектриче­ ских материалов подчиняются обычным закономерностям. Напри­ мер, при спекании спрессованной смеси порошков висмута и теллура стехиометрического состава наблюдается уменьшение плотности (распухание) спекаемого материала при температуре спекания около 400° С и давлении выше 2 Т/см2. Увеличение продолжительности спекания до 100 ч улучшает термоэлектрические свойства главным

образом из-за роста проводимости. Термоэлементы, изготовлен­ ные методом порошковой металлургии, не требуют дополнительной механической обработки, что позволяет практически полностью ис­ пользовать исходный материал. Прессованные и спеченные образ­ цы более однородны и обладают лучшей стабильностью свойств, чем литые. При массовом производстве термоэлементов метод порошко­ вой металлургии дешевле других методов.

68

Ниже приведен пример изготовления методом порошковой ме­

таллургии

термоэлемента,

содержащего

80 вес.

% Bi2Te3 —

20 вес. % Bi2Se3 с добавкой 0,06 вес. %

CuBr («-ветвь) и 70 вес.%

Sb2Te3 — 30

вес. % B i2Te3

с добавкой

0,15 вес. %

РЬ (р-ветвь)

[30]. Исходные материалы размельчаются в порошок, который прес­ суется при давлении 4 Т1см2. Далее материал п-ветви спекается в атмосфере чистого водорода при температуре 370° С в течение 5 ч, а материал р-ветви спекается при 380° С в течение 2 ч. Экспери­

ментальные образцы, изготовленные по этой технологии,

имели

ха­

рактеристики,

приведенные в табл. 4.2.

 

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а

4.2

Характеристики

термоэлектрических

материалов

 

 

Материал

а , м к в / г р а д

О, (ОМ‘ СМ) 1 у ,

в т / ( с м - г р а д )

Z , ( г р а д )

1

п-типа

— 175

950

1,17-10~2

2,45 -Ю -3

р-типа

+ 175

1240

1 ,14-10-2

2,65-Ю -з

Следует отметить, что термоэлектрические свойства материалов, изготовленных методом порошковой металлургии, зависят не только от состава исходных компонент; условий спекания и термообработ­ ки, но и от размеров образца. Например, результаты исследования термоэлектрических свойств образцов из Sb2Te3— Bi2Te3 и Bi2Te3—■ Bi2Se3, изложенные в работе [30], показали, что у материала «-ти­ па добротность снижается на 17% при изменении размеров образца от 80 X 10 X Ю мм до 3 X 3 X 5 мм.

В последнее время начаты поиски новых методов изготовления полупроводниковых материалов. Эти исследования ведутся в ос­ новном применительно к созданию солнечных элементов, неполучен­ ные результаты могут быть использованы в будущем и для изготов­ ления термоэлектрических материалов. Один из таких методов, ос­ нованный на бомбардировке ионами кадмия тонких пленок теллура, описан в работе А. Е. Городецкого и др. [31]. На стекло напылялась пленка теллура толщиной 0,1 мкм, которая затем облучалась иона­ ми кадмия с энергией 5—50 кэв. Изготовленные таким образом

пленки имели дырочную

проводимость

с подвижностью 3 —

5 см2/(в-сек). Аналогичную

характеристику

имеет теллур кадмия

сизбытком теллура (p-типа), изготовленный по обычной технологии.

Вдругих опытах [321 пластинка кремния облучалась пучком ионов бора, ускоренных до энергии 1 Мэе. При этом проникновение ионов бора в кремний достигало 1,4 мкм. Преимущество этой техно­

логии состоит в том, что максимальная температура процесса не пре­

вышает 800° С (обычные процессы диффузии идут при температуре выше 1000° С) и существенно снижается количество примесей, попа­ дающих в кремний в процессе легирования, так как облучение про­ изводится только ионами материала-добавки.

69

Фирмой «Монсанто кемикл компани» [22] исследовалась воз­ можность получения термоэлементов путем напыления сплава МСС в пламени или дуговом разряде. На графитовый цилиндр последо­ вательно напылялись слои молибдена, сплава МСС-50 и опять мо­ либдена.

Исследование различных образцов при температуре горячего спая около 1190° С и перепаде 250—300° С показало, что ТЭДС ле­ жит в пределах 130—300 мкв/град, т. е. лучшие образцы имеют та­

кую же ТЭДС, как и образцы, изготовленные по стандартной техно­ логии.

В заключение приведем данные о стоимости изготовления не­ которых наиболее употребляемых термоэлектрических материалов (табл. 4.3). Следует отметить, что стоимость изготовления существен­ но зависит от совершенства технологии, масштаба производства, специфических требований и других условий, поэтому приведенные в табл. 4.3 данные ориентировочны. Как видно из табл. 4.3, к наи­ более дорогостоящим материалам относятся арсенид индия и крем- ний-германиевые сплавы, а к наиболее дешевым — сернистый сви­ нец, теллуристый свинец, константан и сурьмянистый цинк.

Т а б л и ц а 4.3

 

Стоимость

термоэлектрических материалов

 

 

Материал

 

Тип проводи­

Плотность,

Стоимость,

 

 

мости

г/см3

долл/г

РЬТе + 0,3 ат. % Na

 

p

8,15

0,013

РЬТе-!-0,03 мол. % РЫ2

 

n

8,15

0,013

РЬТе—SnTe

 

p

6,7

0,017

PbS —0,1 ат. % In

 

n

7,5

0,0007

Sb2Te3 (80 мол. %) + Bi2Te3

(20мол. %)

p

6 , 8

0,023

Sb2 Te3 (58%)—AgTe (42%)

 

p

7,16

0,030

Sb4BiAuTe7 , 5

(15 вес. %)

p

7,2

0,152

Bi2 Te3 (85 вес. %)+ Bi2Se3

n

7,5

0 , 0 2 0

ZnSb

 

p

6,4

0,007

GeTe (95%)—Bi2 Te3 (5%)

 

p

5,5

0,118

Si

(6 8 %)—Ge (32%)

 

p

3,3

0,214

Si

( 6 8 мол. %)—Ge (32 мол. %)

n

3,3

0,214

CeS

 

n

5,27

1,34

InAso^Po.i

 

11

5,58

0,585

Константан

 

n

8,4

0,0013

Lio,04^nO,96Teo,95Sb0>Q

 

p

6,06

0,023

§ 4.4

Жидкие термоэлектрические материалы

Изучение жидких термоэлектриков началось сравнительно недав­ но. Первое обстоятельное исследование физико-химических свойств полупроводников в жидком состоянии выполнено А. Р. Регелем с сотрудниками в 1954— 1956 гг. [33]. Результаты этих работ пока-

70

зали, что применение жидких термоэлектриков имеет большие по­ тенциальные возможности получения высоких значений добротно­ сти. В других исследованиях было обнаружено, что у некоторых ма­ териалов (Cu20 , AgSbTe2) при переходе в жидкое состояние доброт­ ность возрастает. Электропроводность теллурида висмута в жидком

состоянии увеличивается в

три раза, что соответственно приводит

к росту теплопроводности,

обусловленному подвижностью носи­

телей тока. У соединений типа Sb2Te3 при переходе через точку плавления наблюдается линейный рост теплопроводности с темпе­ ратурой. На рис. 4.5и б показано изменение теплопроводности

в интервале температур 400— 1500° К, полученное В. И. Федоровым и Л. С. Стильбансом, для некоторых термоэлектриков в твердом и

жидком состоянии [34]. В. И. Федоров, А. С. Охотин и др.

[35] ис­

следовали

термоэлектрические

характеристики Bi2Se3

в

жидкой

фазе. Результаты этих исследований приведены в табл.

4.4.

 

 

 

 

Т абл и ц а

4.4

 

 

Характеристики ЕНгБез в жидкой фазе

 

 

т,

°с

а, мкв/ град

а, ом 1 см~ ~ 1

X X 1 0* emj{cM-zpab)

 

750

—31

980

1 2

 

 

800

- 2 2

1080

14

 

 

850

—14

1190

17

 

 

900

6

1300

19

 

 

950

+ з

1400

2 2

 

 

1 0 0 0

+ 11

1500

24

 

 

1050

+ 2 0

1610

27

 

 

1 1 0 0

+28

1720

29

 

 

1150

+36

1820

32

 

 

1 2 0 0

+45

1920

34

 

 

В работе [36] исследовались термоэлектрические характеристики сплава Т1Те с содержанием Т1 от 31 до 68% . Температура плавления эвтектик с содержанием 31 % Нравна 200, а с содержанием 68% Т1 —

400° С. На основании результатов этой работы вычислены значения ТЭДС для интервала температур 500— 1000° К, приведенные на рис. 4.6. Как видно из этих данных, жидкие полупроводники имеют вполне приемлемые значения ТЭДС.

Б. И. Казанджан, М. П. Вукалович и др. [37] показали, что при переходе из твердого состояния в жидкое электропроводность мате­ риала Sb2Se3 не претерпевает скачка и ее зависимость от темпера­ туры имеет полупроводниковый характер. При этом было обнару­ жено, что введение добавок сурьмы и теллура повышает ТЭДС и элек­ тропроводность.

В работе [38] измерялись ТЭДС и сопротивление Cu2S в диапазо­ не температур 400— 1200° С. С увеличением температуры от 400° С до точки плавления Cu2S (1126° С) ТЭДС оставалась почти постоян­

71

ной (300 ± 50 мкв/град), при температуре

плавления ТЭДС возро­

сла до 450 мкв/град, а затем упала до 300

мкв/град при 1200° С.

Сопротивление

в интервале температур 400— 1126°С возросло от

0,9 до 1,6-10-2

ом-см и затем упало в жидкости до 1,4 -10~2 ом-см

при 1200° С.

Рассмотренные примеры показывают, что жидкие термоэлектри­ ческие материалы, находящиеся в настоящее время в стадии лабора-

Рис. 4.5. Зависимость теплопроводности некоторых твердых и жидких полупроводников от темпера­ туры:

1 — B i 2T e 3; 2 — БЬгТез; 3 B i 2S e 3 ( o ) ; 4 Cu2Teo,875So,i25; 5

CU2Teo,5So,5; 6 — Cll2Teo,75So,25 (б)*

72

торных исследований, могут в будущем иметь большое практиче­ ское значение, так как позволяют значительно увеличить рабочие температуры термоэлектрического цикла. При этом упрощается ре­ шение проблемы коммутационных контактов и растрескивания из-за термических напряжений. Вместе с этим возникают новые пробле­ мы, связанные с коррозией, испарением и другими особенностями жидких полупроводников.

В последние годы жидкие термоэлектрические материалы рас­ сматриваются с точки зрения использования их для других целей.

Рис. 4.6. Зависимость ТЭДС Т1Те от температуры.

Например, исследовалась возможность применения жидких полу­ проводников в качестве термометров сопротивления для ядерных ре­ акторов. Такие устройства невелики по размерам и мало подверже­ ны действию излучения.

Исследования халькогенидов мышьяка типа (As2S e3)4Ge в ампу­ лах диаметром 3,2 мм из алюмосиликатного стекла марки А42

без примесей бора показали, что при изменении температуры от 350 до 650° С ТЭДС возрастает от 200 до 1200 мкв/град, а проводимость

изменяется в 1000 раз [39]. Такой материал вполне пригоден для из­ мерения температуры в ядерных реакторах.

§ 4.5

Действие ядерных излучений на термоэлектрические материалы

Использование ядерных источников тепла в сочетании с термо­ генератором налагает на термоэлектрический материал некоторые условия, определяемые действием ядерных излучений на вещество,

73

В результате взаимодействия излучения с веществом часть энер­ гии излучения передается атомам вещества. Если атом получает до­ статочно сильный толчок, то он может быть выбит из кристаллической решетки. Образующаяся в результате пара (смещенный атом — вакансия) может оказаться устойчивой, если атом уйдет от вакан­

сии на расстояние больше одного периода

решетки.

По данным

С. Т. Конобеевского, минимальная энергия,

необходимая для устой­

чивого смещения атома, лежит в диапазоне 25—75 эв [401.

Вещество, находящееся в активной зоне реактора,

подвергает­

ся бомбардировке нейтронами, образующимися при делении ядерного топлива, а также облучению электронами и у-лучами, возника­ ющими в процессе радиоактивного распада продуктов деления. При столкновении быстрого нейтрона с атомом образуется целый каскад смещений. При этом все вначале выбитые атомы, имеющие энергию в тысячи и десятки тысяч электронвольт, способны сами создавать дальнейшие поколения смещенных атомов в результате упругого соударения. Таким образом возникают сложные комплексы де­ фектов.

Взаимодействие медленных нейтронов с веществом характери­ зуется, как правило, захватом нейтрона ядром атома. Этот за­ хват сопровождается переходом атома в возбужденное состояние с последующим испусканием нейтрона меньшей энергии, либо у-кван- та, либо другой ядерной частицы. Наиболее вероятно поглощение нейтрона с испусканием у-кванта (радиационный захват). Испуска­ ние у-кванта сопровождается отдачей атома в противоположную сто­ рону, в результате чего также могут возникнуть дефекты решетки. Хотя количество этих дефектов значительно меньше, чем в случае воздействия быстрого нейтрона, но, если облученное вещество имеет большое сечение захвата, оно может быть все же значительным.

При облучении электронами энергия отдается атомам малыми порциями, недостаточными для того, чтобы первично выбитый атом мог вызвать дальнейшие смещения. Поэтому в результате рассея­ ния электронов в веществе образуются лишь одиночные дефекты. Действие у-квантов на вещество по результатам близко к облуче­ нию электронами, поскольку у-кванты взаимодействуют с атомами облучаемого вещества не непосредственно, а через образованные ими быстрые электроны. Благодаря малому поглощению у-кванты глубо­ ко проникают в вещество, поэтому глубина повреждения вещества в этом случае значительно больше, чем при облучении электронами. Однако интенсивность воздействия у-квантоЕ соответственно меньше.

Природа дефектов, образующихся в результате облучения элек­ тронами и у-квантами, исследована значительно полнее, чем приро­ да нарушений, вызываемых быстрыми нейтронами. Сложность явле­ ний при облучении быстрыми нейтронами, как указывалось выше, обусловлена большой энергией, получаемой первыми атомами, вы­ биваемыми из кристаллической решетки. Выбитые атомы в результа­ те соударений образуют целый каскад нарушений, занимающих опре-

74

деленную область. Линейные размеры такой области достигают 100— 200А, если энергия первого выбитого атома порядка 104 эв [41].

Появление в облученных материалах одиночных дефектов решет­ ки, состоящих из вакансий и смещенных атомов, является первичной основой радиационного повреждения. Если эти единичные дефек­ ты находятся вблизи один от другого, они легко рекомбинируют с полным уничтожением радиационного эффекта. Иногда смещенные атомы удаляются на значительные расстояния от вакансий, и связь между ними теряется. При нагревании вещества подвижность вакан­ сий и смещенных атомов возрастает и они перемещаются по решетке. Блуждающий дефект может соединиться с полярным ему дефектом с последующей полной рекомбинацией. Таким образом, в результа­ те нагревания в облученных материалах происходит отжиг радиа­ ционных дефектов.

Накопление дефектов при облучении изменяет структуру мате­ риалов и влияет на их физические и механические свойства. Напри­ мер, в меди концентрация вакансий в количестве 1 ат. % создает до­

бавочное удельное сопротивление 1,3— 1,4 мком-см, а в золоте и серебре— до 1,5 мком-см.

По данным С. Т. Конобеевского, при облучении углеродистой стали интегральным потоком быстрых нейтронов Ю20 нейтрон!см2 предел текучести последней увеличивается от 50 до 100—\20 кГ1мм2,

аудлинение падает с 20—30 до 2—5%. У нержавеющей стали 1Х18Н9Т предел текучести повышается с 20—30 до 90— 100 кГ1мм2,

аудлинение уменьшается с 60—70 до 40% [40]. В результате об­ лучения металл становится более хрупким.

Исследование влияния облучения не некоторые полупроводники

показало,

что

появление

радиационных

повреждений приводит

к заметному

изменению ТЭДС, удельного электрического

сопро­

тивления и прочности. Облучение образцов

теллуристого

свинца

интегральной

дозой 4,6-10™электрон!см2 при температуре 538° С

не оказало

заметного влияния на их размеры [42]. Однако проч­

ность материала значительно

снизилась,

он

стал очень хрупким.

Удельное электрическое сопротивление после

облучения у различ­

ных образцов возросло на

11—22%.

 

 

 

Исследования кремния,

облученного

электронами с энергией

1,5 Мэе при комнатной температуре, показали, что основными ра­

диационными дефектами являются комплексы кислород—вакансия

при содержании кислорода до 1018 атом!см3 и комплексы

при­

месь—вакансия при содержании кислорода 102

атом/см3[41]. В ос­

новном все остаточные дефекты в кристаллах

кремния рождаются

в результате взаимодействия единичных вакансий с атомами

при­

месей.

 

 

Интересные результаты были получены в Институте атомной энер­ гии им. И. В. Курчатова при облучении термоэлементов из сплава кремний — германий в потоках нейтронов и у-излучения [43]. Элементы облучались в реакторе РФТ интегральным потоком тепло­ вых нейтронов 3 • 1019 нейтрон!см2 и не показали заметных изме­

75

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ