Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Порошковое материаловедение. Часть 2

.pdf
Скачиваний:
15
Добавлен:
15.11.2022
Размер:
8.2 Mб
Скачать

m = lim

a2δП

 

 

 

=

a2

4

П. (170)

π6 δ{3(d / 2)2 +3 (d / 2)2 (δ)2 2}

π

 

δ→0

 

d 2

 

Для искомой площади справедливо соотношение:

 

S

= S

p

+ S S

2

,

 

 

 

(171)

 

p

 

1

 

 

 

 

 

где Sp – площадь грани рассматриваемого параллелепипеда,

Sp = a2; S1 – суммарная площадь боковой поверхности пор, S1 = ms1; S2 – суммарная площадь сечения пор плоскостью

контакта, S2 = ms2. Используя соотношения для s1

и s2 , по-

лучаем окончательное выражение:

 

S*p = a2 (1+),

(172)

из которого определяем коэффициент эквивалентности

A = S*p Sp =1+3П.

(173)

Следует отметить, что аналогичный расчет можно провести для пористости тела, представляющего собой цилиндр с диаметром основания а. Окончательный результат аналоги-

чен (173).

В расчете используется модель пористого тела с ограничением по максимально допустимой величине пористости П. Так как коалесценция пор наступает при выполнении соотношения l = d (l – среднее расстояние между центрами

пор), то из уравнения для суммарного объема vП имеем

Πmax =

 

0,5v1

=

π

0,5,

(174)

 

 

 

 

 

 

d (d / 2)

6

 

 

 

 

где d 2 vэ – объем элементарной ячейки пористого тела, содержащей одну пору.

301

ELIB.PSTU.RU

Необходимо также отметить, что верхняя граница пористости, при которой образуются сквозные поры, наблюдаемая в опытах по исследованию газовой проницаемости, лежит в пределах 10–20 %, т.е. отличается от значения Пmax ,

вычисленного по формуле (174). Однако линейная зависимость коэффициента A от П в формуле (173) делает ее привлекательной для последующих оценок.

Сучетом полученного соотношения (173) и выражения

(163)найдем время кристаллизации частицы на пористой основе:

τ

 

=

(h*p )

=

hp2

1

.

(175)

K

4αa1

4αa1

 

(1+3Π)2

 

 

 

 

 

 

Как и предполагалось из физических соображений, пористость основы двояким образом влияет на величину τK .

С одной стороны, внутренняя (замкнутая) пористость повышает время кристаллизации (а уменьшается с ростом П),

с другой – тупиковая пористость снижает значение τK . Кон-

куренция этих сторон проявления пористости определяет продолжительность стадии кристаллизации частиц и является одной из особенностей процесса ГТН на порошковые материалы.

В табл. 59 представлены расчетные значения TK и τK как функций относительной плотности v = (1П) для случа-

ев напыления никеля на железо и железа на железо. При расчете полагали TK = 300 К, hp = 10 мкм. Анализ этих значений

показывает, что увеличение пористости порошковой основы от 0 до 20 % с повышением TK эквивалентно возрастанию

температуры начального подогрева монолитной основы на 184 К в случае напыления никеля и на 303 К в случае напыления железа. Поверхность Ф(TK , τK , П) = 0, характеризующая

302

ELIB.PSTU.RU

Таблица 59

Контактная температура TK и время кристаллизации τK частицы, напыляемой на порошковую основу

Материал

 

v

 

 

 

τK ·106, с

 

TK , К

частицы

 

основы

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1,0

 

 

5,22

 

1193

 

Ni

 

 

0,8

 

 

2,32

 

1298

 

 

 

 

 

0,6

 

 

1,53

 

1453

 

 

 

 

 

0,4

 

 

1,75

 

1633

 

 

 

 

 

0,2

 

 

2,89

 

1748

 

 

 

 

 

0,0

 

 

 

 

1808

 

Ni

 

 

1,0

 

 

4,28

 

1215

 

 

 

 

 

0,8

 

 

1,83

 

1281

 

 

 

 

 

0,6

 

 

1,47

 

1437

 

 

 

 

 

0,4

 

 

1,70

 

1589

 

 

 

 

 

0,2

 

 

5,75

 

1693

 

 

 

 

 

0,0

 

 

 

 

1723

 

термический цикл в контакте

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

жидкой частицы с порошко-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

вой основой при

изменении

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пористости последней, схема-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тично

представлена

на

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

рис. 108. Линия сечения ее

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

плоскостью П = 0

характери-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зует термический цикл в кон-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

такте частицы с монолитной

Рис. 108.

Вид

поверхности

подложкой. Зависимость TK =

f (TK , τK , П) = 0,

характери-

= f (П)

и τ = ϕ(П) для сис-

зующей

термический цикл

тем Fе–Fе и Ni–Fе

 

представ-

в контакте частицы с порошко-

лена на рис. 109.

 

 

 

 

 

вой основой

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Необходимо отметить,

что рассмотренная модель тер-

мического взаимодействия частицы с порошковой основой соответствует физической стороне явлений лишь в относи-

303

ELIB.PSTU.RU

тельно узкой области П = 0,1…0,2 (компактная порошковая подложка).

Преобладание сквозной пористости над замкнутой должно существенно сказываться на растекании и кристаллизации частицы на пористой основе. Так, в результате действующего напорного давления жидкий материал частицы может проникать в пору на значительную глубину, и процессы, протекающие при этом, аналогичны таковым при пайке под давлением и пропитке пористых материалов расплавами.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а

б

Рис. 109. Зависимость температуры контакта TK (а), времени кристаллизации частицы τK (б) от пористости П, порошковой основы в случае напыления Fe – Fe (1) и Ni – Fe (2)

Однако, в отличие от обычного подхода к исследованию подобных явлений, при рассмотрении кристаллизации частицы на пористой порошковой подложке нельзя использовать макроскопические величины типа коэффициента фильтрации в силу нестационарности физических процессов. Следовательно, необходимо решить задачу кристаллизации и дальнейшего охлаждения расплава, находящегося в отдельной поре при температуре затвердевания.

Под термином «отдельная пора» будем понимать следующее: расстояние от оси исследуемой поры до оси бли-

304

ELIB.PSTU.RU

жайшей поры таково, что распределение температуры в материале каркаса незначительно отличается от соответствующего распределения в монолитной основе:

RП l 1,

где RП – характерный поперечный размер поры; l – характерное расстояние между порами. Заметим, что на величину RП накладываются ограничения по минимуму условиями смачивания жидкостью с поверхностным натяжением σf стенок капилляра радиусом RП:

 

 

PH > PL + Pg

(176)

или при условии PL

Pg :

 

R

>

2σf cosθ

= R ,

 

 

ρ V 2 (1−δ)2

n

 

n

 

 

ρ ρ

 

где PL – лапласовское давление; Pg

– давление газа в поре;

θ – краевой угол смачивания. Для большинства применяемых при ГТН материалов при Vp 100 м/с величина

RП* 0,1 мкм.

Итак, пусть рассматриваемая пора имеет геометрию параллелепипеда с характерными размерами R, a, b причем a, b R. Тогда кристаллизацию и остывание материала час-

тицы в поре можно рассматривать как аналогичный процесс в полости, ограниченной с двух сторон плоскопараллельными полупространствами. На рис. 110 представлена геометрия рассматриваемой задачи. Для ее решения воспользуемся методом исключения переменных. Точность получаемых этим методом результатов (90–95 %) достаточна для проведения обычных оценок. Задачу решаем в два этапа. Первый этап –

305

ELIB.PSTU.RU

двухсторонняя кристаллизация расплава до момента встречи фронтов затвердевания. Второй этап – дальнейшее охлаждение уже закристаллизовавшегося слоя.

1. В соответствии с указанным методом считаем, что температурное поле твердеющего расплава и прогревающейся основы (соответственно тело I и тело II, рис. 110) имеет полиномиальный вид:

m

T1 = −(Tпл1 ТK ) Yξ1 +Tпл1; (177)

1

 

 

Y

K

 

T2

= (TK T02 )

2

 

+T02.

(178)

X2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а

б

Рис. 110. Температурное поле в твердеющем материале частицы и материале каркаса порошковой основы (а) и выравнивания температур при остывании затвердевшего материала частицы (б)

Из симметрии рассматриваемой задачи следует, что для определения величин TK и τK достаточно рассмотреть область 0 ≤ ξ1 R, так как сечение ξ1 = R нейтрально. Из ра-

венств тепловых потоков, переданных через контактную поверхность каждым из тел, в соответствии с законом Фурье следует:

306

ELIB.PSTU.RU

λ m

Tпл1 ТK

= λ

К

ТK Т02

.

(179)

 

 

1

ξ1

2

 

Х2

 

 

 

 

 

Отсюда для температуры поверхности контакта получаем:

T =

χTпл1 +Т02

,

(180)

 

K

1

 

 

 

 

 

где χ = λ1mX2 (λ2Kξ1 ).

Уравнение баланса тепла для рассматриваемой системы

двух тел имеет вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Q2 = Q1 +Qm ,

 

 

(181)

или в развернутой форме:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

ρ

с x

(T

 

Т

 

) =

 

 

 

1+ K

 

02

 

 

 

 

2 2

2

пл1

 

 

 

(182)

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

 

ρ c ξ

(T

Т

 

) + Lρ ξ .

1

+ m

 

 

 

1 1 1

 

пл1

 

 

K

 

 

1 1

Используя соотношение (170) в уравнении (182), получим квадратичное уравнение для нахождения параметра χ:

 

 

Aχ2 + Bχ+(1+ B) = 0,

 

(183)

где А=

λ2с2ρ2 К(m +1)

L

 

 

λ1с1ρ1

 

, B = −

 

.

 

m(K +1)

c1 (Tm1 T02 )

 

Положительное решение уравнение (183) имеет вид

 

 

χ =

В+ В2

+ 4А(1+ В)

.

(184)

 

 

 

 

2А

 

 

 

 

 

 

 

Так как температура поверхности контакта TK

= соnst

иопределяется только теплофизическими параметрами материалов, то выражение для Q1 можно продифференцировать

исоставить следующее уравнение баланса тепла для тела I:

307

ELIB.PSTU.RU

λ1m Tпл1ξ1 TK dτ = 1+1m ρ1C1 (Tпл1 TK )dξ1 + Lρ1dξ1. (185)

с начальным условием ξ1 (τ= 0) = 0,

решение которого опи-

сывает движение фронта кристаллизации:

 

 

 

 

 

1

 

1

 

 

L

 

 

 

 

 

 

а1 (τ) = 2

 

 

+

 

 

 

 

 

ξ12.

(186)

m(1+m)

mc (T

Т

 

)

 

 

 

1

пл1

 

K

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Подставив ξ1 (τ) из выражения (186) в полином (177),

получим искомое распределение температуры в затвердевшей корке. Для определения аналогичной зависимости в прогревающемся материале каркаса необходимо выразить

X

2

= X

ξ

(

τ

 

из уравнения (182) с использованием (186)

 

 

2 1

 

)

 

и подставить найденное выражение в полином (178). Окончательные выражения для T1 и T2 имеют вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Y

m

 

 

 

Т1 =Тпл1

(Тпл1 ТK )

 

 

1

 

 

,

 

(187)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

βτ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Y

 

 

к

 

 

 

Т2 =Т02

 

+(ТK Т02 )

 

2

 

 

,

 

(188)

 

δτ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

β =

 

 

 

 

 

 

 

 

2а1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

;

 

 

1

+

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m(1+m)

mc

(T

Т

K

)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

пл1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Тпл1 ТK

ρ c + Lp

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m +1

1 1

 

 

 

1

 

 

 

 

 

δ =

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

β.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Tпл1 Т02

ρ

с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k +1

2

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

308

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ELIB.PSTU.RU

2. Обозначим момент встречи двух фронтов кристаллизации через t0. Так как градиент температуры в нейтральном сечении Y1 = 0 отсутствует, то и расчет дальнейшего охлаж-

дения для полупространств, находящихся слева и справа от нейтрального сечения, можно вести независимым образом. Для системы тел слой X1 – каркас уравнения баланса тепла запишем в следующем виде:

Х ρ с θ −θ +

 

 

θn

 

 

1

+ X Lρ = X

ρ c

 

 

 

µθn

 

,

 

m +11

 

(K +1)(1)

 

 

 

n

 

 

 

 

1

 

1

2 2 2

 

1 1 1 m

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

µ =

 

λ1m

 

X2

,

 

 

 

 

 

 

(189)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

λ2K X1

 

 

 

 

 

 

 

 

где θm =Tm

 

T02 ,

θn =Tn T02

 

избыточные

температуры

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

относительно T02.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Из последнего уравнения находим

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

X2 + S2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

θn = S1 θm +

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

 

(190)

 

 

 

 

 

X

2

+ S1X

2 + S3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C1

2

 

 

 

 

 

Здесь S1 = (1+ K )

 

λ1 a2

 

 

 

 

 

λ2K

 

 

 

1+ K a2

2

 

 

 

 

a X1;

S2 = λ m X1;

S3 = 1+ m a

X1 .

 

λ

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

1

 

 

Используя соотношение (190), можно выразить контакт-

ную температуру θK

 

через глубину прогретого слоя X2:

 

 

 

 

 

µθn

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

X2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

θn =

 

 

= S1 θm +

 

 

 

 

 

 

.

(191)

 

 

1

 

C

X 2 + S X

2

+ S

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

1

 

 

 

 

 

Дифференциальное уравнение баланса тепла для мате-

риала каркаса имеет вид dθ2 = dQa2 , где dQ2 = λ2K θK Fdτ;

X2

309

ELIB.PSTU.RU

Qa2 = FX2ρ2θ2 ( θk ).

1+ K

Заменив в этих выражениях θK через (191) и продифференцировав Qa2 , получим:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

S1X22 +2S3 X2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dQa2 = FC1ρ

 

X1 θm +

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dX2.

 

(192)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(X22 + S1X2 + S3 )2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

C1

 

 

 

 

 

Тогда уравнение баланса примет вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S

4

d (τ)

=

 

 

X22 + S5 X2

 

 

dX

2

,

 

 

 

 

 

(193)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

X

2S X

2

+ S

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где S

 

=

K

λ2 a , S

 

= 2

S3

2

 

K

 

 

 

 

 

λ2 X

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

 

 

X

1

 

λ

1

 

 

 

5

 

 

 

 

1+ m λ

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Интегрирование

(193)

 

 

 

 

при

 

 

условии

X2 (t0 ) = X20

для

S 2

4S

3

дает:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S4 (τ−t0 ) = X2 X02

+

 

 

 

 

S3

S1

 

 

 

 

X22 + S1X2

+ S3

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S1

 

2

 

 

2

 

+ S1X01 + S3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

X02

 

 

 

 

 

 

 

+

1 Z1

 

 

2X2 + S1 Z1

ln

2X02 + S1 Z1

 

 

 

(194)

 

 

 

 

 

ln

 

,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

2X2 + S1 + Z1

 

 

 

 

 

 

 

2X02 + S1 + Z1

 

 

где Z =

S 2

4S

3

. Для S

2 < 4S

3

 

решение получим в виде

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S4 (τ−t0 ) = X2 X20

+

 

 

 

S3

 

 

S1

 

 

 

 

X22 + S1X2

+ S3

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S1

 

 

 

2

 

 

2

 

+ S1X02

+ S3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

X02

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+Z2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2X2 + S1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

arctg 2X02 + S1 arctg

 

,

 

 

 

(195)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Z2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Z2

 

 

 

 

 

где Z2 =

4S3 S1 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

310

ELIB.PSTU.RU