Учебное пособие 717

между собой. Оценить степень зависимости от разрядного тока постоянного напряжения смещения, концентрации электронов, вкладываемой мощности.

Составить отчет по работе.

4.Контрольные вопросы

1.Опишите применение плазмы в технологических установ-

ках.

2.В чем заключаются условия возникновения и самоподдержания газового разряда?

3.Дайте характеристику основных элементарных процессов в

плазме.

4.Что включает в себя понятие квазинейтральности плазмы?

5.Почему любое помещенное в плазму тело приобретает относительно неё отрицательный потенциал? Как он называется?

6.Что такое напряжение самосмещения и каковы причины его возникновения?

БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК

1.Голант В.Б. Основы физики плазмы/ В.Б. Голант, А.П. Жилинский, И.Е. Сахаров. — СПб.: Лань, 2011. 448 с.

2.Липатов Г.И. Вакуумная и плазменная электроника/ Г.И. Липатов. — Воронеж: ВГТУ, 2003. 214 с.

3.Сушков А.Д. Вакуумная электроника: Физико-технические основы/ А.Д. Сушков. — СПб.: Лань, 2004. 464 с.

СОДЕРЖАНИЕ

Лабораторная работа №1. Изучение явления термоэлектронной эмиссии ……………………………………………………… 1 Лабораторная работа №2. Исследование распределения фотоэлектронов по энергиям …………………………………………….. 12 Лабораторная работа №3. Исследование газоразрядной плазмы ……………………………………………………………………….. 16 Лабораторная работа №4. Изучение высокочастотного емкостного разряда низкого давления …………………………………. 30 БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК ……………………………….. 49

49