Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Соломоник И.Ш. Производство керамических деталей радиоаппаратуры

.pdf
Скачиваний:
15
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
7.22 Mб
Скачать

плавня и стеклянных

прослоек

керамики. Температуры 750

4-850° С

являются

оптимальными

для операций

вжигания

серебра

в керамику,

так как

они

обеспечивают

достаточно

глубокое проникновение коллоидного раствора в поверхност­ ные слои керамики и плотное соединение частиц серебра меж­ ду собой. Нагревать детали выше температуры 850-т-870°С

нельзя. При более высокой температуре

испаряется коллоид-

 

*)

 

пгомк

Вожженныи слой металла

Sллв§ие

Лорыкеромини

(ірерритш, сегнетокерамика)

божжептй слой металла

Слой

дишшщм

жтірозьі\iuoSm а

металла

Нврамико со стШощазои (стеатиты, ультращаршор)

Р и с . 3-53

ный раствор, а плавящееся серебро из-за возросшего поверх­ ностного натяжения начинает собираться в капельки, нару­ шая тем самым целостность проводящего слоя металла.

Заключительной стадией операции вжигания является мед­ ленное охлаждение металлизированного изделия со скоростью 8-т-10° 0.1мин, зависящей от конструктивных особенностей детали.

Слой вожженного металла имеет дискретную структуру, поэтому его электропроводность хуже электропроводности сплошного металла. Для улучшения проводящих свойств ме­ таллизированных структур целесообразно применять опера­ ции механического уплотнения, например, н а к а т к у . Иногда

идут по пути наращивания толщины слоя металлизации, при­ бегая к многократному вжиганию или к гальваническому осаждению меди. Слой меди, кроме того, обеспечивает защиту вожженного серебра от растворяющей способности олова при пайке и лужении высокотемпературными оловянно-свинцовы- ми припоями. Последнее обстоятельство следует иметь в виду при создании герметизированных узлов с особо прочными па­ яными соединениями. Слабую температурную устойчивость керамических деталей со слоями вожженного серебра необ­ ходимо учитывать и во время проведения сборки и монтажа микромодульных и печатных конструкций радиосхем на ке­ рамических основаниях—подложках. В этих конструкциях для пайки и лужения рекомендуется применять оловянно-свинцо- вый припой СК-25, в состав которого для предварительного

Стальная лроёомока

бущикншй шаблон

вемжемш слои металла

£^ Керамика.

Р и с . 3-54

насыщения олова вводится небольшое количество серебра. Наличие серебра в припое уменьшает растворяющую способ­ ность олова, но увеличивает температуру плавления сплава, что крайне нежелательно. В целях снижения температуры плавления до нормальной (250° С) в рецептуру припоя вклю­ чается кадмий. Примерный весовой состав припоя СК-25: олова — 30%, свинца — 63%, кадмия — 5% и серебра — 2%.

Прочность сцепления вожженного слоя с керамикой ус­ ловно оценивается по усилиям отрыва торца стальной прово­ локи диаметром 0,8+1 мм от подпаянной поверхности ме­ таллизации площадью 7-j-lO мм2 (рис. 3—54). Контрольный участок поверхности детали смачивается спирто-канифольным флюсом и обслуживается припоем ПСр-1,5 или ПСр-2. Очи­ щенная мелкозернистой бумагой стальная проволока смачи­

вается в местах

будущей пайки раствором хлористого цинка

и припаивается

перпендикулярно в центре облуженной по­

верхности. Прогрев производится в течение 5 сек паяльником мощностью 90 вт. Деталь с проволочной петлей укрепляется в зажимах разрывной машины. Плавно увеличивая разрыв­ ное усилие, добиваемся отрыва торца проволоки от детали,

Измерив площадь разрушенного участка металлизации S и максимальную силу, вызвавшую разрушение Р, находим вре­ менное сопротивление на разрыв системы «керамика-вожжеп- ный слой»

Р

кг

S

см*

который условно характеризует механическую стойкость слоя металлизации.

Прочность

сцепления

вожженных серебряных

покрытий

для различных

классов керамики должна быть не хуже

30 — 50 кг/см2.

Практически

достижимая

прочность покры­

тия— 100 -г 180

кг/см2.

 

 

 

 

Вжигание металла в керамику производится в электри­

ческих печах камерного

или

туннельного

типа.

Предпочти-

Р и с . 3-55

тельнее туннельные печи с конвейерным перемещением ме­ таллизируемых деталей. Они обеспечивают однородность вжигания и ритмичность производства. Кроме того, с туннельными печами легко совмещаются вентиляционные системы,' создаю­ щие окислительную среду во всех зонах нагрева деталей.

Различают туннельные печи с горизонтальным и верти­ кальным перемещением конвейерной ленты. На радиозаво­ дах СССР чаще всего применяются печи с горизонтальным перемещением транспортирующей ленты, например, печи ти­ па СЭП-168. Эти печи очень просты в эксплуатации и доступ­ ны для профилактических осмотров, но занимают много про-

изводственных площадей. На рис. 3-55 приводится схемати­

ческое изображение печи, где

1 — нихромовая

сетчатая

лен­

т а — транспортер; 2—-камера

вжигания; 3 — зона, охлаждае­

мая водой; 4 — рабочий канал; 5 — вариатор

скорости

дви­

жения ленты; 6 — электродвигатель.

 

 

Камера вжигания выложена огнеупорным материалом так, чтобы верхняя ветвь ленты проходила по узкому продольно­ му каналу. Вдоль продольного канала на внутренней части кладки размещены электронагревательные элементы. Соеди­ нение нагревателей в группы обогрева зависит от требуемого распределения температуры вдоль канала. Режим работы системы обогрева контролируется и управляется с помощью

электронной

аппаратуры.

При­

мерное распределение температу­

ры вдоль рабочего канала типо­

вой

семиметровой

туннельной

печи приведено на графике рис.

3—56.

 

 

 

 

 

Детали

с нанесенной

пастой

устанавливаются на

жаростойких

подставках

в

определенном по­

рядке.

Желательно

исключить

прикосновение изделий между со­

бой. Подставки с деталями укладываются

на

конвейерную

ленту печи и снимаются с нее вручную. При вжигании

мелких

изделий для лучшего использования печей применяют двухили трехэтажную кладку деталей с подставками.

Туннельные печи с вертикальным конвейером позволяют хорошо использовать высоту производственных помещений,

Труба дм бынода углежтогая

Р и с . 3-57

но их обслуживание

и особенно ремонт

затруднительны.

В случае применения

печей вертикального

типа детали с на-

несенной пастой закладываются в специальные кассеты, а последние уже устанавливаются на площадки транспортиру­ ющей цепи. Производительность вертикальных печей очень велика. Например, в случае термообработки мелких изделий она достигает 20-f 30 тысяч штук в одну смену.

При отсутствии конвейерных печей, а также в мелкосе­ рийном производстве применяются камерные печи муфельно­ го типа. Схематическое изображение такой печи приводится на рис. 3-57. Отверстия в передней и верхней стенках муфель­ ной печи нужны для притока свежего воздуха и отхода угле­ кислого газа. Обычно несколько муфельных печей устанав­ ливают в один вытяжной шкаф с сильной вытяжной вентиля­ цией. Контролируется температурный режим вжигания с по­ мощью термопары, сигнал с которой подается на гальвано­ метр.

б. Х и м и ч е с к и е с п о с о б ы м е т а л л и з а ц и и к е р а м и к и

Химическое осаждение металла не требует дорогого обо­ рудования. Оно применяется в случаях, когда необходимо ис­ ключить высокотемпературный нагрев изделий, например, при образовании проводящих электродов на поверхностях пьезокерамических пластин. Слой осаждающегося металла равномерно покрывает изделие во всех местах контактирова­

ния раствора' с

керамикой.

Толщина

покрытия

невелика

(1-^-3 мк),

однако

прочность сцепления

металла

с керамикой

достигает

40-І-60

кг/см2, что

вполне достаточно

для

проведе­

ния монтажных операций пайки оловянно-свинцовыми при­ поями типа ПОС-40.

Сущность методов химической металлизации керамичес­ ких деталей, погруженных в водные растворы соединений металла, сводится к процессам химического восстановления ионов металла ионами других веществ, в результате чего в осадок выпадают металлы, укореняющиеся в поверхностных

порах керамики,

а

затем покрывающие изделия равномер­

ным проводящим

слоем.

Если не принять

специальных мер, то восстановленные зер­

на молекулярного металла равномерно осядут и на керамиче­ ских деталях, и на стенках сосуда, образуя на них плохо скрепленные порошковые слои. Это, кроме плохого качества металлизации, вызывает повышенный расход дорогих реак­ тивов. Поэтому в порах керамических деталей до металлиза­ ции создаются центры кристаллизации металла, то есть про­ изводится а к т и в а ц и я к е р а м и к и . Центры кристалли­ зации должны иметь хорошее сцепление с определенными областями керамических деталей. Направленный рост метал­ ла вокруг центров кристаллизации способствует повышению

качества и производительности процессов химической метал­ лизации и сокращает трудоемкость очистки посуды от ее сле­ дов. Для лучшего сцепления центров кристаллизации с по­ верхностными слоями керамики желательно иметь развитый микрорельеф поверхности деталей.

Обобщенная схема технологического процесса химической металлизации состоит из операций обезжиривания керамиче­ ских деталей, операций приготовления металлообразующих растворов, операций активации и металлизации керамики, операций промывки, сушки и контроля качества получивших­ ся изделий.

Хорошие результаты получаются при химическом никели­ ровании деталей из ультрафарфора, стеатита и сегнетокерамики.

Химическое никелирование керамических деталей произ­

водится при

температуре 80

- f 85° С в

кислых

растворах

(рН 4,5-j-5,5) следующего состава:

 

 

 

Хлористый

никель

 

 

 

22

г/л

Гипофосфат кальция

(или

натрия)

. . . .10н-16 г/л

Уксуснокислый (или

янтарнокислый)

натрий

Ю-т-15

г/л

Металлизируемые детали обезжириваются в органических растворах, после чего промываются в горячей воде (80-г- 90°С) и сушатся. Участки поверхности, подлежащие обязательной металлизации, дополнительно активируются раствором хло­ ристого палладия (0,5 г на литр воды) в течение 10^-15 сек. Некоторые детали металлизируются в двух растворах. Сна­ чала наносится покрытие в 1 мк, а затем изделие после промывки переносится в другой раствор, где производится наращивание слоя до требуемой толщины. Определенный ин­ терес представляет подслой никелевого покрытия для после­ дующего гальванического осаждения меди и серебра.

При химическом осаждении металла металлизируется вся поверхность детали, погруженная в раствор. Металл, осев­ ший на участках детали, не подлежащих металлизации, сти­ рается мелкозернистой абразивной пемзой. После промывки и сушки изделия проверяются на наличие нежелательных за­ мыканий.

Химическое серебрение находит ограниченное применение, так как оно требует использования взрывоопасных составов.

Серебряные

покрытия получаются

путем

осаждения сереб­

ра из аммиачно-щелочных растворов

азотнокислого

серебра.

Исходным

восстанавливающим веществом

является

сахар.

Устойчивость объединенного химического реактива для сереб­ рения очень мала. Поэтому целесообразно составлять от­

дельно основной и вспомогательный

растворы.

О с н о в н о й

р а с т в о р . В 100

см2, дистиллированной во­

ды растворяется

5 г азотнокислого

серебра. В этот раствор

по каплям добавляется нашатырный спирт до полного про­ светления жидкости. Затем вливается 10 см3 30%-ного раство­ ра едкого натра (калия), вследствие чего раствор мутнеет и вы­ падает бурый осадок. Для растворения осадка и просветле­ ния раствора вновь добавляется несколько капель нашатыр­ ного спирта. В окончательном виде раствор приобретает слег­

ка бурую окраску. К о л б у

н е л ь з я э н е р г и ч н о ,

в с т р я ­

х и в а т ь , т а к к а к в р а с т в о р е о б р а з у е т с я

г р е ­

м у ч е е с е р е б р о ,

к о т о р о е

м о ж е т

в з о р в а т ь с я .

Раствор не следует

долго хранить

(особенно

на свету).

 

В о с с т а н о в и т е л ь н ы й

р а с т в о р . В

100

см3

воды

вливается 4 см3 65%

-ной азотной кислоты. Раствор

доводится

до кипения, после чего в него по одному кристаллику вводится 140 г сахарного песку. Растворение песка протекает весьма бурно. Поэтому работу проводят в защитных очках. После охлаждения в раствор добавляется 187 см3 этилового спир­ та— ректификата. Полученный состав может сохраняться дли­ тельное время.

Для серебрения керамики применяется составной раствор,

содержащий три части основы и одну часть

восстановителя.

в. М е т а л л и з а ц и я к е р а м и к и

н а п р а в л е н н ы м р а с п ы л е н и е м

м е т а л л а

Если область плавящегося металла продувать потоком инертного газа (например, азота) в направлении керамиче­ ских деталей, то на их близлежащих поверхностях образует­ ся слой металла, состоящий из частиц диаметром 20-f 30 мк. При значительных скоростях (100-^-200 м/сек) частицы ме­ талла внедряются в поры керамики, образуя относительно устойчивую пленку, электропроводность которой сравнима с электропроводностью исходного металла (хуже в 5-1-10 раз).

Зона плавления обычно создается электрической дугой. В качестве электродов дуги используются проволочки диамет­ ром 0,8-)- 1,5 мм из распыляемого металла. По мере распы­ ления проволока подается в зону плавления, обеспечивая не­ прерывность процесса металлизации. Расстояние от камеры распыления до металлизируемой детали и температура кера­ мического основания подбираются экспериментально. Чем дальше сопло распыления от поверхности детали, тем равно­ мернее толщина покрытия, но одновременно увеличивается пористость металлического слоя. Холодная поверхность кера­ мики препятствует взаимному внедрению соударяющихся частиц металла и, следовательно, ухудшается электропровод­ ность покрытия. Однако низкая температура керамических деталей способствует быстрому наращиванию слоя металли­ зации.

Направленное распыление металла инертным газом вслед­ ствие высокой производительности процесса может в буду­ щем найти широкое распространение в производстве керами­ ческих радиодеталей. В настоящее время на серийных радио­ заводах металл распыляется в воздушной среде и направля-

Керомимение оснобания, нанизанные на спицы

Злен/пропоуогреб

испарителя

Резинобая трубка - н'§акуумнасосам 1 •герметизатор

Пободок

Р и с . 3-58

ется к деталям струей сжатого воздуха с помощью металлизаторов типа ЭМ-3. Такой режим металлизации не обеспечи­

вает повторяемости свойств слоя покрытия, так как неста­ бильны процессы окисления частиц металла кислородом воз-

духа и неоднозначна структура соприкасающихся окисленных зерен металла. Этим способом можно создавать только слои электростатической экранировки.

В дальнейшем, по мере разработки металлизирующей ап­ паратуры, направленное распыление металла в инертной или вакуумной средах найдет более широкое применение.

В а к у у м н о е р а с п ы л е н и е м е т а л л а встречается при изготовлении непроволочных сопротивлений типа МЛТ и пленочных радиосхем. Испаряемый металл и сплавы метал­ лов в виде пасты наносятся на испарители, подогреваемые электрическим током. Вокруг испарителя или над ним раз­

мещаются

керамические

основания (рис. 3-58). Испарение

металла

производится

 

при

 

глубоком

вакууме.

 

Основания

для

сопротив­

 

лений

типа

МЛТ

 

метал­

 

лизируются

при

вакууме

 

3-Ю"- 4

мм рг. ст., а

осно­

 

вания

пленочных

схем —

 

при

 

вакууме

 

 

10- 5 -г-

 

10_ 6 мм. Время металли­

 

зации

зависит

от

толщи­

 

ны

наносимого

 

слоя

и

 

состава пасты.

Оно

длит­

 

ся в

пределах

от

0,5

до

сигнал

2 часов. Метод

вакуумно­

го

испарения

позволяет

 

наносить любые пленки —

 

проводящие, резистивные,

 

диэлектрические,

магнит­

 

ные,

полупроводниковые

 

на

подложки разнообраз­

Р и с . Э-59

ной

конфигурации.

Мож­

 

но осуществлять последовательное наращивание пленок, соз­ давая многослойную структуру радиосхемы на керамическом основании.

На рис. 3-59 представлен участок многослойной пленочной управляемой длинной линии с равномерно распределенными параметрами. Такая линия может найти себе применение в малогабаритной радиотехнической аппаратуре, в которой не­ обходимо предусмотреть плавную регулировку фазовых сдви­

гов высокочастотного сигнала. Рисунок

3-60 а,

б, в, г поясня­

ет конструкцию и схему управления

погонных параметров

линии. На рис. 3-60 а, б представлены те части

конструкции и

схемы управления устройства, с помощью которых осущест­

вляется регулировка

погонной емкости линии, а на рис. 3-60

в, г остальная часть

конструкции

линии и схема регулиров­

ки распределенной индуктивности

линии.

На рисунках приняты следующие обозначения:

1, 3, 5 — гальванически связанные слои металлизации, вы­ полняющие роль экранирующих поверхностей и образующие совместно с центральной проводящей полосой 2 равномерно распределенную емкость;

2 — центральная металлизированная полоса, образующая распределенную емкость и индуктивность;

4 — плата-основание из сегНетокерамики; 6 — места гальванической связи поверхностей 1 и 3 с по­

верхностью 5;

S9

 

 

Р и с . 3-60

 

 

 

7 — диэлектрическая

пленка,

покрывающая

центральную

полосу линии и верхние экранирующие

поверхности 1 и 3;

8 — магнитная

пленка,

ширина которой

перекрывает про­

межуток между

верхними

экранирующими

поверхностями;

9 — диэлектрическая

пленка,

ширина

которой

соответству­

ет ширине магнитной пленки 8;

 

 

 

 

10 — проводящая пленка, по которой

пропускается ток, ре­

гулирующий величину магнитной проницаемости магнитной пленки;

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ