Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Минскер Ф.Е. Сборка полупроводниковых приборов учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
19
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
5.08 Mб
Скачать

Ф .Е .М И Н С К Е Р - А .Ю .Б Е Р

СБОРКА

ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ

ПРИБОРОВ

Ф. Е. МИНСКЕР, А. Ю. БЕР

СБОРКА

ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ

ПРИБОРОВ

Одобрено Ученым советом Государственного комитета Совета Министров СССР

по профессионально-техническому образованию в качестве учебного пособия

для профессионально-технических учебных заведений и подготовки рабочих

на производстве

МОСКВА «ВЫСШАЯ ШКОЛА» 1974

6Ф0.32

М62

Минскер Ф. Е., Бер А. Ю.

Сборка полупроводниковых приборов. Учеб, пособие для проф.-техн. учеб, заведений и подгот. рабочих на производстве. М., «Вьгсш. школа», 1974.

128 с. с ил.

В книге изложены теоретические основы сборочных процессов, техноло­ гии их проведения, применяемое оборудование, инструмент н приспособления.

Рассмотрены основные конструкции полупроводниковых приборов и инте­

гральных схем, описаны технологические испытания,

выявляющие брак при

сборке.

 

30407—575

6Ф0.32

М

052(01)—74

 

Все замечания и предложения просим направлять по адресу:

Москва, К-51, Неглинная ул., 29/14, издательство «Высшая школа».

ѵО. П\

■:ѵ.ая

©Издательство «Высшая школа», 1974

ПРЕДИСЛОВИЕ

Полупроводниковая электроника в настоящее время широко применяется во многих отраслях техники. Полу­ проводниковые приборы, обладая малым весом и габари­ тами, повышенной по сравнению с газоразрядными и вакуумными устройствами надежностью, дают возмож­ ность реализовать новые технические идеи в конкретных схемах и конструкциях.

В последние годы наряду с уже ставшими классиче­ скими дискретными элементами'—диодами, транзистора­ ми, тиристорами и другими полупроводниковыми прибо­ рами интенсивно разрабатываются и применяются инте­ гральные схемы (ПС), полупроводниковые генераторы, усилители, лазеры, преобразователи. Широко внедря­ ются в производство тонкие пленки и многослойные структуры.

ВОтчетном докладе ЦК КПСС XXIV съезду Комму­ нистической партии Советского Союза большое внимание уделено развитию различных отраслей промышленности,

вчастности, электроники.

Сразвитием электроники растут требования и к ква­ лификации кадров, занятых изготовлением полупровод­ никовых приборов и интегральных схем. В настоящее время трудно представить себе квалифицированного сборщика полупроводниковых, приборов, не владеющего основами технических знаний. Не зная теоретических ос­ нов, нельзя понять и практические вопросы производства полупроводниковых приборов и интегральных схем.

Особое значение для подготовки рабочих в профессио­ нально-технических учебных заведениях и на производ­ стве имеет специальная литература. Однако вопросы сборочных операций в систематизированном виде не из­ лагались в имеющихся учебных пособиях.

Вданном учебном пособии сделана попытка система­ тизировать материал, относящийся к сборке полупровод­ никовых приборов. Технологический процесс изготовле­ ния полупроводниковых приборов включает в себя операции обработки полупроводниковых материалов и

создания структур с электронно-дырочными переходами

иомическими контактами, сборку приборов и технологи­ ческие испытания, измерение электрических параметров

иклассификацию, операции окраски, маркировки и упа­ ковки. К сборке приборов относятся операции крепления кристаллов на держатель или ножку, присоединение электрических выводов, защита полупроводниковых структур и арматур, герметизация. Рассмотрению пере­ численных вопросов и посвящена данная книга.

Ограниченный объем книги не позволил уделить всем

вопросам одинакового внимания. Более широко и под­ робно освещены сборочные операции, находящие массо­ вое применение в промышленности.

Предисловие, гл. V, VII, VIII написаны Минскером Ф. Е., гл. I и VI — Мозгалевым В. А., гл. II и IV — Бером А. Ю., гл. Ill — Левшнным М. Ю.

Глава I

КОНСТРУКТИВНОЕ ОФОРМЛЕНИЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ

Под конструктивным оформлением полупроводниковых при­ боров следует понимать совокупность элементов корпуса, полу­ проводниковой структуры и соединительных элементов. Кон­ структивное оформление определяет методы установки и крепле­ ния приборов в аппаратуре, способ электрического соединения приборов со схемой, габаритные размеры и метод герметиза­ ции.

§ 1. Р-п-переход полупроводниковых приборов

Полупроводниковая структура является рабочим элементом полупроводникового прибора. Основные свойства полупроводни­ ковой структуры определяются электронно-дырочным переходом, который представляет собой границу раздела между электрон­ ным и дырочным типами проводимости полупроводника.

Электронно-дырочный переход (р-/г-переход) создается путем введения в полупроводник примесей различного типа (легирова­ нием). В современных полупроводниковых приборах может быть один или несколько электронно-дырочных переходов.

В полупроводниковом производстве используют различные методы получения р-п-перехода.

При изготовлении точечных диодов наиболее широкое приме­ нение имеет метод получения электронно-дырочного перехода

формовкой точечного контакта. При этом под точечным пони­ мается такой прибор, технология изготовления которого основа­ на на осуществлении контакта полупроводника с металлической иглой. Для улучшения электрических характеристик точечного контакта на острие иглы наносят легирующую примесь, после получения механического контакта при формовке происходит сварка полупроводника с иглой, диффузия примесей с иглы в полупроводник с образованием д-п-перехода.

Получение р-п-перехода сплавным методом основано на раз­ личном распределении примесей между жидкой и твердой фаза­ ми при кристаллизации полупроводника из расплава металл—

5

полупроводник, причем металл или сплав, применяемый в каче­ стве легирующей примеси при сплавном методе, должен удовле­ творять следующим требованиям:

обладать способностью создавать в полупроводнике проводи­ мость, по знаку противоположную исходной;

образовывать е полупроводником сплав, температура плав­ ления которого ниже температуры плавления полупровод­ ника;

иметь коэффициент теплового расширения, близкий к коэф­ фициенту теплового расширения полупроводника;

хорошо смачивать поверхность полупроводника; быть стойким к травителям, применяемым для очистки по­

верхности полупроводника после сплавления.

Если введенная примесь обладает высоким коэффициентом диффузии, то сплавление .может одновременно сопровождаться диффузией * и будет получаться более плавный переход от полу­ проводника одного типа проводимости к полупроводнику другого типа проводимости.

Диффузионный метод получения р-и-перехода в настоящее время широко используется в производстве полупроводниковых приборов. Диффузионный метод не требует расплавления полу­ проводникового материала и заключается в диффузии легирую­ щих примесей из жидкого или газообразного диффузанта в твер­ дый полупроводник.

При использовании диффузионного метода р-л-переход обра­ зуется по всей площади полупроводниковой пластины. Затем различными способами (резкой полотнами пли алмазными дис­ ками, травлением и т. д.) пластина разделяется на отдельные кристаллы. Такой способ изготовления полупроводниковых структур называется групповым.

Дальнейшим развитием группового метода изготовления по­ лупроводниковых структур является планарная технология. Она сводится к тому, что полупроводниковую пластину окисляют, на образовавшийся окисел наносят слой фоторезиста, производят засвечивание и вытравливание в слое фоторезиста участков не­ обходимой геометрии, называемых окнами. Через образовавшие­ ся окна в фоторезисте вытравливают окна в слое окисла и через них производят локальную диффузию примесей в пластину полу­ проводника. Используемая в процессе локальной диффузии пленка на поверхности полупроводника (чаще всего окись крем­ ния Si02) одновременно служит и для защиты поверхности по­ лупроводниковой структуры от воздействия окружающей среды. Многократное использование процесса локального вытравлива­ ния слоя фоторезиста и окисла позволяет получать полупровод­ никовые структуры любой сложности.

* Под диффузией примесей в каком-либо теле понимают направленное; перемещение их в сторону убывания концентрации.

6

§ 2. Корпус и соединительные элементы полупроводниковых приборов

Корпус является одной из важнейших частей конструктивного 1 оформления полупроводниковых приборов, в значительной сте­ пени определяющей параметры приборов во времени, их надеж­ ность при работе в аппаратуре и механическую прочность.

Корпус выполняет следующие функции:

создает возможность образования точечного контакта (для приборов с точечным контактом);

обеспечивает необходимую атмосферу в приборе для повыше­ ния его надежности при работе в неблагоприятных климатиче­ ских условиях и хранении;

позволяет получать электрическое соединение прибора с эле­ ментами схемы различного типа в зависимости от конкретных условий работы прибора и типа применяемых соединений;

отводит тепло от р-п-перехода в процессе работы прибора в аппаратуре в результате излучения тепла в окружающую среду и конвекции с помощью специального радиатора, через шасси и детали аппаратуры;

предотвращает передачу механических напряжений на рабо­ чие элементы прибора в условиях воздействия механических на­ грузок на прибор, вибрации, ударов, резкой смены температуры; обеспечивает электрическую изоляцию элементов полупро­ водникового прибора в условиях значительных электрических по­ лей при нормальном атмосферном давлении и при различной

степени разрежения; защищает р-/г-переход прибора от воздействия светового из­

лучения, которое вызывает появление дополнительных носите­ лей тока и мешает нормальной работе прибора.

Наилучшие условия работы прибора в корпусе обеспечива­ ются только в том случае, если:

металлические детали корпуса и изолятор согласуются по коэффициентам термического расширения (КТР) и образуют спай с минимально возможными напряжениями растяжения или сжатия, которые не вызывают пластической деформации охваты­ вающих деталей;

КТР материала кристаллодержателя согласуется с КТР по­ лупроводниковой структуры, а при их несогласованности между полупроводниковой структурой и кристаллодержателем имеется прокладка из материала с промежуточным значением КТР;

изолятор и спай корпуса обладают термостойкостью, соответ­ ствующей требованиям специальных технических условий на прибор;

в зависимости от мощности прибора детали корпуса (кри­ сталлодержатель и выводы) обладают достаточной теплопровод­ ностью.

С ростом частоты работы прибора важное значение приобре­ тает величина емкости корпуса С„, особенно в СВЧ приборах.

Предельная рабочая частота полупроводникового прибора мо­ жет быть рассчитана по следующей формуле:

где м — угловая частота, С — емкость прибора.

Емкость полупроводникового прибора складывается из емко­ сти р-н-перехода Ср_п и емкости корпуса Си:

С = Ср—п-(- Ск.

Таким образом, для повышения рабочих частот прибора сле­ дует снижать Ср_п и Ск. Для приборов обычных частот величи­ на Ск может составлять > 1 пф, для СВЧ желательно иметь Ск=0,2—0,3 пф. Емкость корпуса является дополнительным кри­ терием, характеризующим его конкретное оформление.

К соединительным элементам относятся пружинные контак­ ты, проволочные и ленточные выводы, которые обеспечивают электрическую связь полупроводниковой структуры с внешними электродами (выводами) корпуса.

Элементами корпуса являются держатели, баллоны, ножки, колпаки, внешние выводы, крышки.

В связи с необходимостью механизации и автоматизации процессов изготовления корпусов на основе базовых технологи­ ческих процессов в условиях специализированного производства, а также облегчения совмещения сборочных операций приборов различных классов на однотипном оборудовании в последние го­ ды все более широкое развитие получает унификация деталей и узлов корпусов.

Для сборки диодов, транзисторов и некоторых типов инте­ гральных схем используют универсальные корпуса. Их класси­ фикация в этом случае определяется только первым примене­ нием.

§ 3. Типы конструкций полупроводниковых приборов

В зависимости от мощности, выделяющейся в виде тепловых потерь в области р-п-перехода при работе прибора, назначения и рабочей частоты, полупроводниковые приборы могут быть клас­ сифицированы следующим образом:

1) приборы малой и средней мощности:

в цельностеклянном корпусе мощностью рассеяния 50— 200 мет и металло-стеклянном корпусе мощностью рассеяния

250—500 мет (рис. 1);

вметалло-стеклянном корпусе в двух вариантах мощностью рассеяния 500-—2000 мет в зависимости от геометрических раз­ меров корпуса и диаметра выводов (рис. 2);

вуниверсальном металло-стеклянном корпусе (с числом вы­ водов от 2 до 12) мощностью рассеяния 300 и 800 мет при под­ весном монтаже (рис. 3);

8

бескорпусная конструкция мощностью рассеяния до 200 мет

(рис. 4);

герметизируемые пластмассой на ленте мощностью рассеяния до 400 мет (рис. 5).

/2

Рис. 1. Прибор в металло-стеклянном корпусе q мощностью рассеяния 250—500 мет:

1 — стеклянная трубка, 2 — втулка, 3 — двухзвенные дер­ жатели, 4 — кристалл с верхним выводом, 5 — припой

2)Приборы большой мощности:

вметалло-стеклянном или металло-керамическом корпусе мощностью рассеяния 45 000 мет с одним, двумя или тремя изо­

лированными верхними выводами, шестигранником и резьбовым хвостовиком для установки на специальном теплоотводе (рис. 6); герметизируемые пластмассой в вариантах с резьбовым хво­ стовиком- (рис. 7) и плоским основанием (рис. 8) для установки

на теплоотводе мощностью рассеяния'до 45 000 мет.

3)Приборы СВЧ диапазона:

вметалло-керамическом корпусе мощностью рассеяния до

300 мет (рис. 9);

вкоаксиальном металло-стеклянном корпусе мощностью рас­ сеяния до 200 мет (рис. 10);

вметалло-керамическом корпусе мощностью рассеяния до 3000 мет с крышкой для крепления и цанговым зажимом или с плоской крышкой (рис. 11).

4) Интегральные схемы различного функционального назна­ чения:

'в плоском металло-стеклянном или цельностеклянном корпу­ се мощностью рассеяния до 500 мет с числом выводов от 14 до

18 (рис. 12);

вметалло-стеклянном, металло-керамическом корпусе или гер­ метизируемые пластмассой мощностью рассеяния до 5000 мет с Г-образными выводами в количестве от 6 до 60 выводов (рис. 13);

впрямоугольном металло-стеклянном корпусе мощностью рассеяния до 100 000 мет при установке на теплоотводе с распо­ ложенными перпендикулярно основанию выводами в количестве от 14 до 200 (рис. 14).

Как видно из рассмотрения приведенных конструкций, габа­ ритные размеры корпусов и приборов, мощность рассеяния, раз­ меры и конструкции соединительных элементов могут изменяться в широких пределах. Столь же широка и разнообразна номен-

9

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ