Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Неразрушающий контроль параметров тонких проводящих пленок электромагнитными методами

..pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
21.37 Mб
Скачать

42 2. Теория неразрушающего электромагнитного контрол»

циента отражения по мощности электромагнитной плоской волны от исследуемой структуры получаем

R=

ZBXO U

(2.29)

Zl3Xo~t~Zl

 

 

При помещении на плоскую границу раздела структуры и сво­ бодного пространства поглощающей тонкой проводящей пленки, удовлетворяющей условию (2 .2 ) с импедансом квадрата поверх­

ности Zs, граничные условия (2.28)

с учетом

выражения

(2.13)

можно записать в виде

 

 

 

Ё1++Ё~=Ёо+; у ! =Ёо+(—------ 1-—} .

(2.30)

Z\

' ZBXo

Zs '

 

Таким образом, из сравнения выражений (2.28) и (2.30)

можно

заключить, что наличие тонкой проводящей пленки на плоской границе раздела полупространства с импедансом Z\ и структуры с входным импедансом Z„x0 при взаимодействии с плоской элек­ тромагнитной волной эквивалентно замене входного импеданса

структуры без пленки ZBXo полным

входным импедансом ZDX [42]:

1

= 1

1

(2.31)

Z B X

Z B X O

Z S

 

При наличии нескольких проводящих пленок Zsu расположен­ ных одна на другой, и при выполнении условия (2 .2 ) для каждой пленки и для суммы толщин всех пленок условие (2.31) имеет вид

1

(2.32)

Z вх

Использование выражения (2.32) позволяет рассчитать вход­ ной импеданс многослойной структуры с тонкими проводящими пленками, расположенными на внешней границе раздела струк­ туры с известным входным импедансом, не рассматривая задачу распространения электромагнитной волны в каждой пленке.

Как следует из выражения (2.29), коэффициент отражения электромагнитной плоской волны от любой слоистой структуры с плоскими границами полностью определяется входным импедан­ сом этой структуры. Последовательное применение (2.32) для расчета входного импеданса сложной слоистой структуры, кото­ рая содержит тонкие проводящие пленки, удовлетворяющие ус­ ловию (2 .2 ), значительно упрощает задачу.

Рассчитаем в качестве примера входной импеданс и коэффи­ циент прохождения для двух-, четырех- и п + т + 2 -слойных струк­ тур с тонкими проводящими пленками.

2.2. Взаимодействие полей с тонкопленочными структурами

43

В случае п проводящих пленок толщиной di с импедансами квадрата поверхности 2Su расположенных одна на другой на ди­ электрическом полупространстве с импедансом Z\ (волна падает из полупространства с импедансом Z3), входной импеданс находится из выражения (2.32) (при ZBXo = Zi). Условие (2.2) в случае п пленок, расположенных одна на другой, перепишется в виде

П

i —1

А

(2.33)

и

Коэффициент прохождения по мощности электромагнитной волны сквозь такую структуру, используя граничные условия, в этом случае также можно выразить через входной импеданс [42]:

Г=

2ZBx

(2.34)

ZBX+ Z3

 

 

Рассмотрим теперь случай, когда п пленок с

импедансами

квадрата поверхности Zst расположены одна на другой на границе полупространства с импедансом Z3, из которого падает электро­ магнитная волна, и слоя с импедансом Z% толщиной d. На второй границе слоя расположены одна на другой т проводящих пле­ нок с импедансами квадрата поверхности Zs/, которые отделяют слой от полупространства с импедансом Zi. Толщины пленок удов­ летворяют неравенству (2.33).

Используя (2.32), для входного импеданса такой структуры можно записать [42]

Подставляя значение ZBX из (2.35) в (2.28), получаем выра­ жение для коэффициента отражения электромагнитной волны от

/п + ц-Ь2 -слойной структуры,

содержащей

т + п

тонких проводя­

щих

пленок. Применение

предложенной

методики рассмотре­

ния

взаимодействия электромагнитной волны

с тонкопленочной

т + п-\-2 -слойной структурой, таким образом,

позволило свести

задачу к взаимодействию волны с простой двухслойной структу­ рой, входной импеданс которой находится из рекуррентной фор­ мулы для двухслойной структуры при i —2 и условия (2.32) на каждой границе слоя.

44

 

2. Теория неразрушающего электромагнитного контроля

Коэффициент прохождения по мощности такой

структуры [42,

75]

 

 

 

 

 

7 =

 

 

4 ехр у id

 

 

( ^ F + ^ ) e x p y 2d + { l - E ) { F - ^ - )

exp(~ y 2d)

(1 + £ )

 

 

m

 

п

(2.36)

 

Z2

 

 

 

 

Z,

£ - 1 ^ , ^ = 1 + Е # - -

 

 

U

г= 1 2 s,

 

Предложенная методика решения задачи взаимодействия плос­ кой электромагнитной волны с тонкопленочной структурой распро­ страняется на любые тонкие пленки (однородные металлические, полупроводниковые, диэлектрические), для которых выполняется условие (2.2). При рассмотрении дискретных тонких проводящих пленок (островковые, пористые, сеточные структуры) необходимо учитывать возможную зависимость их электрической проводи­ мости от частоты. Импеданс квадрата поверхности таких пленок, зависящий от материала, их структуры и т. д., определяется в общем случае комплексной величиной, составляющие которой за­ висят от частоты электромагнитного поля.

2.2.3. ПОЛЕ ОТКРЫТОГО РЕЗОНАТОРА

Для повышения чувствительности радиоволновых (СВЧ) методов контроля используются различные резонаторные преобра­ зователи [3, 115, 210]. Наиболее перспективен с точки зрения реа­ лизации непрерывного контроля движущихся рулонных материа­ лов метод открытого СВЧ-резонатора [72, 79, 80], который ши­ роко используется для измерения параметров диэлектрических материалов [7, 162]. Физические основы метода неразрушающего

контроля открытым

резонатором, разработанные

[16, 2 0 2 ] на

основе приближенных

методик расчета параметров

электромаг­

нитного поля в резонаторе, отличаются математической сложно­ стью и непригодны для инженерных расчетов даже при измере­ нии параметров простых диэлектрических слоев. Методы конт­ роля, основанные на восстановлении резонанса с перемещением подвижного зеркала, обладают низкой оперативностью и непри­ годны для контроля параметров движущихся изделий в процессе производства. Задача контроля параметров поглощающих тонко­ пленочных структур открытым СВЧ-резоиатором до сих пор под­ робно не рассматривалась.

В настоящем параграфе предлагается приближенная мето­ дика расчета электромагнитных полей открытых СВЧ-резоиаторов с тонкопленочной структурой. Путем введения параметра, харак­ теризующего свойства зеркал резонатора и имеющего физический

2.2. Взаимодействие полей с тонкопленочными структурами

 

45

*

+i

h

ЕрУ**

 

 

E*e*Z E'J‘

крытого резонаторного преобразователя

 

1

 

н

О

0

 

l, lг L. 2

смысл коэффициента прохождения волны сквозь зеркало (опре­ деляется экспериментально), на основе приближения плоской волны рассчитывается взаимодействие электромагнитного поля открытого резонатора с тонкопленочной структурой [81—84, 91]. Такое при­ ближение справедливо для размеров зеркал, намного больших длины волны в резонаторе, при работе в первом резонансе (ми­ нимум потерь на излучение и краевые эффекты).

Пусть плоская волна падает на систему, которая состоит из двух плоскопараллельных полупрозрачных зеркал с коэффициентами

отражения pi и р2, расположенных друг от

друга на расстоянии

L (рис. 2.5). Между зеркалами параллельно

им расположена тон­

кая диэлектрическая пластина

толщиной dyСЯ (длина волны в

диэлектрике) на расстоянии 1\

от первого зеркала, характеризуе­

мая коэффициентами прохождения ii и отражения г\ для плоской волны. На расстоянии 12>1\ расположена тонкопленочная струк­ тура, характеризуемая коэффициентами прохождения i2 и отра­ жения г2, для которой выполняется условие (2.33). Диэлектричес­ кий тонкий слой и тонкопленочную структуру будем считать от­ ражающими поверхностями в точках 12 и /1. Граничные условия для тангенциальных составляющих плоской волны:

Ёо +Ё0+=Ё\ + £ i+, Ё\ =£i+pi, z = 0 ;

Ё\~ exp (- y h ) +Ё\+ exp уЬ=Ё2~ exp (—yh) + £2+ exp ylu ^

!£i+ exp'v/1= £ i-r1exp(—y/i) + £ 2+^I exp yh, z —ly, Ё2~ exp (—yl2) + Ё2+exp yl2= £ 3+ exp yl2+ £3~ exp ( —yl2) ,

Ё 2+ехру12= Ё 2~г2ехр (-у1 2) + Ё 3+1ехру12, z = l2\

Ёъ~exp (—Y^) + £з+ exp yL = exp {—yL), Ez+expyL=Es~p2 ^xp(—yL )t z=L,

где Y — постоянная распространения электромагнитной плоской волны в рабочем зазоре.

2.2. Взаимодействие полей с тонкопленочными структурами

47

Рис. 2.7. Зависимость коэффициента про­

 

хождения

по

мощности

от

положения

 

диэлектрической

пленки при

/о=0,05

для

 

Ф, = 0,014

(/); 0,045 (2); 0,14

(3)

 

 

 

тающей

способностью

 

система

обладает

при расстояниях 2 |3L=

— 2лп, п = 1, 2 ,... (условие

резонанса), при малых t3 (определяет

добротность). Снимая

экспериментальные

зависимости Т (L) для

реальных резонаторов и сравнивая их с теоретическими кривыми, можно определить параметр t3 конкретных зеркал.

Для достаточно тонкого диэлектрического слоя (di<CA,) |/ i |«

1 - q>r

где (pi= л(е—\)d\

[91], и коэффициент прохождения по

2

’ — ^

kQ

2л/г, /г= 1, 2 ,... ,

 

мощности при условии

2 $L

 

 

 

 

/ 2

 

 

Т=- {t3 (2 -

13) +

(1 - 13) [ (1 - fa) - COS 2p/] } 2

(2.41)

На рис. 2.7 представлены зависимости Т(2$1{) для различных

ф/ (характеризует параметры

диэлектрической пленки)

при t3 =

= 0,005. Как видно из рисунка, наибольшая чувствительность до­ стигается при помещении диэлектрической пленки на расстояние 2|3/i = (2/7+ 1)я, /г= 0, 1, 2 ,...

Для расчета взаимодействия электромагнитного поля со слож­ ными тонкопленочными структурами необходимо в выражение (2.38) подставить значение коэффициента прохождения такой структуры /2, вычисленное для плоской волны по методике, изло­ женной в п. 2.2.2. Например, для свободной тонкой проводящей пленки с чисто активным импедансом квадрата поверхности Rs,

используя выражение (2.34)

в резонансе, получаем [82]

т _

«

_________________

[2 tfs + Z 0+ (Zo-2/fc) (/з“

1)2+ 2 2 0 (/з—l)cos2 p/2] 2 '

48

2. Теория неразрушающего электромагнитного контроля

Рис. 2.8. Зависимость нормированного коэф­ фициента прохождения от перемещения для

образцов при

/э= 0,03 и R s = l

Ом/П

(У);

105 (2); 5 -104

(3); 2 -104 (4);

104 (5);

103

Ом/□ (6)

 

 

 

На рис. 2.8 показана нормированная по коэффициенту про­ хождения свободного резонатора зависимость для коэффициента прохождения из выражения (2.42) от перемещения пленки при различных значениях Rs для резонатора с = 0,03. Так же как и при взаимодействии с диэлектрической пленкой, наибольшая чув­ ствительность достигается при 2 р/2= я ( 2 /г+ 1), п = 0 , 1, 2 ,...

Анализ зависимостей (2.38), (2.41), (2.42) открывает возмож­ ность реализации неразрушающих методов контроля тонкоплено­ чных структур с проводящими и диэлектрическими пленками на основе использования электромагнитных полей открытого резо­ натора преобразователя.

2.3. РАСЧЕТ ПАРАМЕТРОВ ВИХРЕТОКОВЫХ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ ПРИ ВЗАИМОДЕЙСТВИИ ИХ ПОЛЕЙ

с тонкими ПРОВОДЯЩИМИ ПОКРЫТИЯМИ И ПЛЕНКАМИ

Теории расчета взаимодействия неоднородных элетромагнитных гармонических полей вихретоковых накладных и про­ ходных преобразователей подробно разработаны для общих слу­ чаев [93, 172]. Значения вносимых в преобразователи сопротив­ лений выражаются через специальные интегральные функции. На ЭВМ рассчитаны таблицы значений этих функций для геометри­ ческих параметров преобразователей и параметров исследуемых

2.3. Расчет параметров вихретоковых преобразователей

49

одно- и двухслойных изделий. Однако ввиду математической сложности выведенных выражений применение предложенных ме­ тодик при конструировании приборов вихретокового контроля представляется затруднительным.

В настоящем параграфе предлагаются приближенные мето­ дики расчета взаимодействия неоднородных полей вихретоковых накладных и проходных преобразователей с тонкопленочными структурами на основе использования приближения плоской волны и рассмотренной выше модели импедансной поверхности.

2.3.1. ПРИБЛИЖЕНИЕ ПЛОСКОЙ ВОЛНЫ

При падении плоской электромагнитной волны на много­ слойную структуру характер их взаимодействия полностью опре­ деляется значением входного импеданса структуры ZBX [13, 75, 100], который для многослойной структуры вычисляется по из­ вестным рекуррентным формулам. Если волна отличается от плос­ кой (например, электромагнитное поле вихретокового преобразо­ вателя), понятие входного импеданса некорректное и необходимо решать задачу взаимодействия неоднородного электромагнитного поля с многослойной проводящей средой на основе уравнения Гельмгольца [93, 172].

Для хорошо проводящих структур и достаточно больших раз­ меров вихретокового преобразователя на высоких частотах с до­ статочной степенью точности можно использовать приближение плоской волны, что значительно упрощает задачу [22, 23, 30, 41]. В этом случае многослойная проводящая структура при взаимо­ действии с полем однозначно характеризуется ее входным импе­ дансом, вычисленным из рекуррентных соотношений для плос­ кой волны на определенной частоте. Такое приближение дает воз­ можность использовать известные граничные условия Леонтовича [13, 174] при решении задач вихретокового контроля.

Решение уравнения Гельмгольца методом Фурье—Бесселя для

вектор-потенциала А при взаимодействии поля накладного пре­ образователя (пренебрежимо малое сечение обмотки) [30] со структурой, определенной входным импедансом 2 ВХ с использова­ нием приближенных граничных условий Леонтовича на входе структуры (г = 0 ):

Йite=

z—0 ’

(2.43)

дает следующие выражения для составляющих вносимого в пре-

4 — 599

50 2. Теория неразрушающего электромагнитного контроля

образователь сопротивления (при условии - J ^рх- «С 1, с точношроЯ

стыо до членов первого порядка) [30]:

RBH=2K W2Z '^ f / | 2(л')ехр (

- 2

х)

х (

1 - 2

J

\

 

а 1

\

 

jrM= -ro»|iooIF j / , ! W e x p ( - 2 ^ ) ( 1 - 2

— — - ) dx;

(ор0я '

(2.44)

ГД0 ZDX—•Z^BX-И ^вх — комплексный входной импеданс структуры; W — количество витков преобразователя; а — радиус; h — зазор; о — частота электромагнитного поля.

Выражения

(2.44)

можно представить в виде

 

 

* - Г

О

' „

[ л

( £

) - 2

- | £

- * ( £ . )

] ;

(2.45)

* ги= - 0 ,5 Ш, . «

« ф „

( ^

-

2 - ^ - F

, ( f ) ] .

 

где [22, 23, 41]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2.46)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

М

т

м

2

н

К(*>

т Е (* > ] ;

 

_ / я \

 

, h \ /

 

а? \

 

 

1

(2.47)

М

т

)

- * т

1 { 2+ —

) E ( k ) - 2 W ) \ ;

/

я

)1

&

Г/

а2

 

\

 

 

1

 

М

т )

 

2

К

д Г - l )

Е(А)+К(Л)]

 

— функции, зависящие только от относительных геометрических размеров системы и выраженные через полные эллиптические ин­

тегралы Е(£) и К(А) параметра k=

*----- (рис. 2 .9 ).

У 1 +

И,2!а2

Приближенные выражения (2.45), (2.46) связывают составляю­ щие входного импеданса исследуемой структуры, который может быть легко определен из известных соотношений для плоской волны [13, 75], с составляющими вносимого в преобразователь со­ противления.

Для практического использования выражений (2.45), (2.46) необходимо строго определить границы их применимости для кон-

2.3. Расчет параметров вихретоковых преобразователей

31

Рис. 2.9. Графики функций

Ы Ф ) W, Л(а/А) (2)

кретных размеров преобразователей, частоты и диапазонов вход­ ных импедансов структур.

Рассмотрим как наиболее простой случай однородное прово­ дящее полупространство а, р0 с входным импедансом [30] ZBS=

= Zo==ytt)|Ao/2<7 ( l'+ 't) .

Сравним приближенные значения составляющих вносимого в преобразователь сопротивления, определенные из выражений

(2.45),

(2.46),

с

точными

значениями R BUi, Х ВИт,

вычислен­

ными

для однородного полупространства [172], при

различных

з н

сороЛ

сороh

2]/2

h

,

ft1A

ч

2

а ч е

н

и

я х

j

(рис. 2 .10

, а), где а =

— ; р -

обобщенные параметры; б — глубина проникновения электромаг­ нитного поля.

Кривые, представленные на рис. 2.10, а, показывают, что вы­ ражения (2.45), (2.46) справедливы с точностью более 1% Для

4*

Соседние файлы в папке книги