Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Неразрушающий контроль параметров тонких проводящих пленок электромагнитными методами

..pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
21.37 Mб
Скачать

92

3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур

Рис. 3.20. Зависимость

функции f(hja)

для

c ja =

=0,08 при с2/а = 0,22

(/); 0,32 (2);

0,42

(3);

0,52

(4)

 

 

 

висимость выходного сигнала от проводимости квадрата поверх­ ности покрытия Ys =lJZs и величины зазора h через функцию

(M l)

Исследуем функцию от зазора f(h/a) для различных соотно­ шений ci/c2 с учетом определенности W2/W j для известных Сь с2 на основании уравнения (3.28) и табл. 3.1.

На рис. 3.19 и 3.20 представлены зависимости функции f(h/a) от относительного зазора Ahja= (h -c i)la для различных преоб­ разователей. Как видно из рисунка, путем подбора соотношения обмоток можно добиться подавления зависимости от зазора Ah/a в определенных пределах его изменения.

3.2. Дифференциальные накладные преобразователи

93

Рис. 3.21 Зависимость функции /(Л/а) для С|/а=0,05 при 0,15 (/); 0,25 (2); 3 — Г 2/П?,= 1,8 вместо 2,05 для с2/а = 0,25

Таким образом, для идеальных дифференциальных трехобмо­ точных преобразователей с пренебрежимо малым сечением обмо­ ток молено путем изменения геометрии подобрать такой режим, при котором возможна хорошая отстройка от вариации зазора.

Для реальных преобразователей соотношение W2/\Vi при оп­ ределении функции f(hfa) будет немного заниженным, что, од­ нако, не меняет физического смысла разработанной методики.

На рис. 3.21, например, представлены зависимости /(Л/а), причем кривая 3 построена по вырал<ению (3.31) для занижен­ ного значения W2IW\ = \ $ вместо 2,05 согласно табл. 3.1. Следо­ вательно, и для реальных преобразователей возможна простая реализация разработанного метода. При этом настройка и кон­ струкция приборов при использовании предлагаемого метода упро-

94

3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур

Рис. 3.22. Экспериментальная зависимость вы­ ходного сигнала от зазора для реального пре­ образователя при контроле алюминиевых по­ крытий: Kg=0,85 (/); 1,35 (2); 2,35 (3) См/П

щаются: напряжение от генератора переменного тока частотой, выбранной с учетом условия Ь2> 40, подается на питающую об­ мотку, с выхода включенных встречно измерительных обмоток полезный сигнал подается на усилитель и индикатор.

На рис. 3.22 представлена экспериментальная зависимость, снятая данным методом для преобразователя с Ci/a=0,08, с2/а= =0,5, а 13 мм при частоте питающего генератора около 300 кГц. Как видно из рисунка, при изменении относительного зазора в пределах 0—2 мм выходной сигнал изменяется менее чем на 2%.

Таким образом* проведенные исследования позволили разрабо­ тать с помощью предложенной методики простые вихретоковые методы контроля параметров тонких металлических покрытий на диэлектрических подложках с отстройкой от вариации зазора между дифференциальным трехобмоточным преобразователем и покрытием.

3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков

95

3.3. КОНТРОЛЬ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПРОВОДЯЩИХ д и с к о в ПАРАМЕТРИЧЕСКИМ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕМ

В главе 2 и параграфах 3.1, 3.2 описаны методики рас­ чета взаимодействия электромагнитных полей и методы контроля тонких проводящих пленок, размеры которых намного больше раз­ меров преобразователей (граничные условия на бесконечности). В реальных условиях иногда приходится сталкиваться с издели­ ями (например, диски), размеры которых сравнимы с размерами измерительных преобразователей. В этом случае требуется реше­

ние задачи взаимодействия электромагнитного

поля

вихретоко­

вого преобразователя с изделием конечных размеров

[191] (ре­

шение

уравнения

Гельмгольца (2.10) в

ограниченной

области).

В

настоящем

параграфе предлагается

дальнейшее

развитие

методики импедансной поверхности (см. главу

2) применительно

к плоским тонким проводящим покрытиям, пленкам и специльным структурам (полупроводники, проводящая бумага) круглой формы (диски) с целью разработки вихретоковых методов контроля на основе полученных аналитических зависимостей [27, 46].

Решается задача взаимодействия неоднородного поля (часто­ той аз) вихретокового накладного преобразователя радиусом а с количеством витков W (с пренебрежимо малым сечением об­ мотки) с тонким (выполняется условие (2.2)) концентрически рас­ положенным на расстоянии h проводящим диском радиусом р<а с импедансом квадрата поверхности Zs.

Уравнение Гельмгольца после преобразования Фурье—Бесселя

для преобразованного вектор-потенциала

имеет вид [27, 46, 172]

 

дЧ*

 

(3.32)

где

dz2 -%Ч*

 

оо

оо

 

 

л* J r/i СКг)А(г, z)drt А= J А*(Я, z)Ji(kr)XdX,

(3.33>

о

о

 

 

j*cr—IaWJ-i {%a)b(z) — преобразованная

плотность сторонних то­

ков. Граничные

условия для вектор-потенциала с учетом

(2.13),

(3.33) (начало

координат в центре диска, А\ — вектор-потенциал

полупространства, в котором находится преобразователь) запи­ шутся как [46]

дА*2

 

дА\

 

= - У —J

rJx(rK)A2{r,z)dr

2-0 У

dz

2 - 0

dz

2 - 0

 

 

 

 

 

(3.34)

 

 

А *\ |2 - 0 = А * 2 |г-0 1 А * 1 ,2 • *г-*оо

0.

 

 

 

z-v±00

^6

3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур

Решения уравнения (3.32) ищем в виде

 

Л*1=-

(ехр[—X{z—h)\ +fi ехр[—X(z+h)\) WIaJ\(Xa)\

(3.35)

 

 

 

 

 

я* _

PO

■f2exp [A,(z—h) ] WlaJi (Xa) .

(3.36)

 

A 2 ----

2X

 

 

 

 

После подстановки выражений (3.35) и (3.36) в граничные ус­ ловия и преобразований находим функции

и вектор-потенциал

j

/2=1+/l (3'37)

Ai (г, h, z) = Л0 (г, h, z) +

^

3g^

 

Чlj?7 j ехр(—A.z)/i(A,r) [ J rJi(Xr)Ai(r, h,z=0)dr 1 dX,

 

lLs 0

0

 

 

тде Ao(r,h,z) — вектор-потенциал ненагруженного преобразова­ теля.

Для вектор-потенциала в плоскости 2 = 0 получаем следующее интегральное уравнение:

 

А\ (г, h, 2=0) =Л0(г, h, 2=0) +

(3.39);

 

оо

Р

ШЦо

 

j* /1 (Яг)

rJi(Xr)Ai(r, h,z=0)dr j dXt

 

2Z<

 

 

 

Вторая часть суммы (3.38) и (3.39) является вносимым векторпотенциалом. Для достаточно больших значений параметров b2=2Zslai\LQa этот вектор-потенциал намного меньше вектор-по­ тенциала ненагруженного преобразователя, и его можно рассмат­ ривать как возмущение [44, 46]. В первом приближении A \(r,h,z= =0) =Ao(r, h, 2= 0). Найдем теперь первую поправку в выражении (3.38) для вектор-потенциала при г —a, z=h. В случае параметри­ ческого преобразователя это значение будет определять параметры составляющих вносимого в него сопротивления:

Ai{r=a,h,z=h)=Ao+A'vu;

^ ^

А'ъи{г=а, h,z= h)

f exp( —Л/г)/i (Яг) X

 

 

о

 

р

X [ J rJ\{Xr)Ao{r=a, h, 2=0) dr j dX.

3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков

97

После подстановки Ло в

(3.40)

и преобразования

к безразмерным

величинам получаем

 

 

 

A*DII |

J

exp(-t/Y)/i(£/) f J

l h { \ y ) X

оо

 

 

(3.41)

x[ J exp(-yx)Ji(x)Jl (xl)dx~\dl\dy,

0

 

J

 

где a = p/a; y = h/a.

Вторая поправка A"nн к полному вектор-потенциалу будет (при Zs действительном) действительной величиной второго порядка ма­ лости по сравнению с вектор-потенциалом ненагруженного преоб­ разователя [46], и ее можно при практических измерениях не учи­ тывать.

Для вычисления выражения (3.41) по методу [46] необходимо

последовательно преобразовать каждый из интегралов,

входящих

в это выражение. Рассмотрим функцию

 

оо

 

Ро(1,\) = J е х р (-у х )/1(х)/1(л^)с?л',

(3.42)

о

 

которую можно представить через полные эллиптические интегралы

E(k) и K(k) в виде

[46,

172]

 

 

/» (? ,? )= ~

V [ ( 1 - —

) * ( * ) - £ ( * ) ] .

(3.43)

где

 

 

 

 

=

 

1

для любых I, У-

 

( l+ D H y 2

 

 

Так как дальнейшее интегрирование выражения (3.41) будет вес­ тись по переменной £, представим функцию /о(£»у) в виде сходя­ щегося ряда по £<1 (дальнейшее интегрирование по | в пределах от:0 до а< 1 ):

fo(£,Y) = l ! | £ :“+lBi(Y).

(3-44)

/-О

 

Таким образом, рассматриваем случай а = -^<1. Применим

фор-

мулы разложения эллиптических интегралов в ряды по параметру k [109, 125]:

7 — 699

98 3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур

К(м

я

(

I2

 

 

Ь41

.

[(2/-1)!!]*

\ .

K W

~ T

1 1 + ~

Г

^

+

0 . Л k +

• • • +

Г /Oi\ 1112

k ‘ + • • ♦ / ’

 

2

\ ‘ ■ 22

"

'

22-42

 

 

 

(3.45)

(2t—l)!!(2t—3)!!

[(2i)!!]2

Подставляя (3.45) в выражение (3.43) после последовательного разложения в ряды по-ц^-|ууи | и математических преобразова­

ний, получаем значения коэффициентов 5 г(у)

[27]:

 

3

г

(2i)\\(2i+2)Пу2>

 

 

 

 

 

 

 

*_____ }

 

j= 0

(2i-2/)!!(2i-2/+2)!!!(2ПП(2/)!

J ’

 

 

(3.46)

где

 

 

(2 i+ l)!!(2 i-l)!!

 

 

Ai=,

 

 

 

(2i) \\(2i+2) !!

 

 

При Y= 0 5,(0) =Л г- и

(3.42), (3.44) переходят в соответствую­

щие выражения работы

[46]. После подстановки ряда (3.44) в

(3.41) для вносимого вектор-потенциала получаем

 

Л'вн{у, а) = — 14 Z s

< exp (- у у ) Л (у) { J ], £i (у) X

 

0J

 

г=0

 

 

ю

 

(3.47)

x [ J i 2'+2/,(i;/)d |]} d i/.

Интеграл в квадратных скобках [46]

а

 

*+1

i(aУ)

 

 

 

 

 

После подстановки (3.48) в (3.47) получаем

(3.48)

 

* '- (« . Т > ~

4Z.

i“0

( - 2 ) , ^

 

(i +-1

1-/j j r x

 

- -

-

 

(3.49)

 

о

"j+1

Э

 

 

У

 

 

3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков

99

Интегралы вида

(3.50)

n

У3^ 1

находят по методике работы [46] путем последовательного реше­ ния дифференциальных уравнений

дХ*2

р < ^

да

- = - F о (а, у);

d l‘*

да а

(3.51);

да

1J—1 »

а

 

где F0(a,y) — функция (3.42), (3.44). Решая последовательно дифференциальные уравнения (3.51), получаем [27]

I 2 =

J .

]_

a2h+2

Bk(y)k\

1

(3.52)

 

/!

2

 

(k + j+ 1)!

J

*

После подстановки значения интеграла (3.52) выражение (3.49) преобразуется в

ia>\io2IaW

А'вп (о&, у) —

AZS L

( - 1) (i + l —j)\ l'X: (3.53)

'Xa2i+2

/i*»0

Bh(y)k\

I

4

S

(Л+/+1)!

J *

Путем математических преобразований рядов выражение (3.53) можно привести к более удобной форме:

А'вн(а, у )= - id)\io2IaW

а 4

(v)

M • (3*54)

8Zs

 

j=0

 

 

 

 

Переходя к значениям вносимых в преобразователь сопротивле­ ний для активной составляющей после преобразований [44, 172], получаем [27]

Rnil-r'-'

л (сироа)*ХР*

( “

V.

1

F\ (а, у).

(3.55)

 

2Zs

\ 2

(1+ т2)3

 

 

100

3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур

Значение функции F |(a,

у)

 

 

 

а

 

 

 

Y

 

0

0,1

0,2

0,3

0,4

 

0,1

1,0050

1,0047

1,0039

1,0027

1,0013

0.2

1,0205

1.0192

1.0158

1,0188

1,0052

0,3

1,0476

1,0446

1,0362

1,0243

1,0113

0.4

1,0888

1,0827

1.0661

1,0432

1,0187

0,5

1,1480

1.1368

1,1069

1,0671

1,0262

0,6

1,2325

1.2123

1.1605

1,0947

1.0311

0,7

1.3557

1,3182

1.2284

1,1230

1,0292

0,8

1,5497

1.4699

1.3125

1,1449

1,0131

0,9

1.8811

1.6934

1,4116

1,1454

0,9704

0.94

2.1138

1,8121

1.4544

1,1339

0.9418

1,00

2.6237

2.0335

1,5195

1,0957

0,8811

где

w

I

.

i+2 . .

(3.56)

2=0

;=0

 

J

2/!!(2/+2)!!у2Л

 

CHYJ - ^ J U - Y8)-81

 

(2j—2k) !! (2/—2&+2) U2k\

J

A=0

 

(3.57)

 

 

В случае у=0 (3.55) —(3.57) переходят в соответствующие выра­ жения работы [46].

Полученная зависимость активной составляющей вносимого в вихретоковый параметрический преобразователь сопротивления от импеданса квадрата поверхности Zs и относительных геометричес­ ких размеров а=р/а, y=h/a при взаимодействии с тонким прово­ дящим диском позволяет разработать метод контроля импеданса квадрата поверхности таких структур. Реактивная составляющая полного сопротивления, как показывают расчеты по методике ра­ бот [44, 46], изменяется незначительно по сравнению с реактив­ ным сопротивлением ненагруженногсг преобразователя (на прак­ тике трудно измерить).

Выражение (3.55) свидетельствует о зависимости активной со­ ставляющей вносимого в преобразователь сопротивления от им­ педанса квадрата поверхности ZB (обратная пропорциональность) и геометрических размеров а, у. Функция Fi(а, у) имеет слож­ ный вид и может быть вычислена достаточно точно с помощью рядов (3.56), (3.57) для каждого конкретного случая. В табл. 3.2

3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков

101

Таблица 3.2

0,5

0,6

0,7

0,8

0,9

1,0

1,0000

0.9988

0.9978

0,9971

0,9966

0.9963

0,9988

0,9950

0.9911

0,9883

0.9863

0,9850

0,9988

0.9880

0.9795

0.9732

0,9689

0,9662

0,9960

0.9770

0.9622

0.9515

0,9444

0,9400

0.9898

0.9603

0,9382

0.9227

0.9125

0,9065

0,9777

0,9364

0,9066

0.8862

0.8733

0.9661

0,9564

0.9033

0.8664

0,8420

0,8271

0,8192

0,9215

0,8593

0.8174

0,7904

0,7744

0.7669

0.8683

0,8042

0.7609

0.7329

0.7170

0.7101

0,8408

0,7796

0,7371

0,7088

0.6929

0.6865

0,7921

0,7414

0.7013

0.6723

0.6560

0.6502

приведены значения этой функции, вычисленные с точностью до члена а 12 из выражения (3.56) для различных а и у. Точность для

а ^ 1

более

1%. На рис. 3.23 графически представлены зависи­

мости

функции Fi (а, у) от у (рис. 3.23, а) и а (рис. 3.23,6), по­

строенные на

основе табл. 3.2.

Таким образом, зная геометрические размеры (диаметр пре­ образователя, диаметр контролируемого тонкого проводящего диска и расстояние от него до преобразователя (параметры а, у)), по табл. 3.2 и рис. 3.23 можно найти значение функции Fi(a, у). Подставляя полученное значение и известные ©, a, W, а, у в вы­ ражение (3.55), находим коэффициент пропорциональности между Явн и Ys=y/Zs. Измеряя активную составляющую вносимого в параметрический преобразователь сопротивления, определяем зна­ чение его поверхностного импеданса.

Решение поставленной задачи, следовательно, позволяет создать метод и аппаратуру для контроля импеданса квадрата поверх­ ности тонких проводящих покрытий и пленок круглой формы (диски) при помещении их на некотором расстоянии от вихрето­ кового преобразователя.

Таким образом, получено аналитическое выражение, связываю­ щее параметры вихретокового преобразователя с размерами и электрофизическими свойствами исследуемых проводящих дисков (аналитическая зависимость от диаметра диска и расстояния до преобразователя).

Экспериментальная проверка должна заключаться в исследо­ вании справедливости зависимости (3.55) от геометрических раз­ меров (зазора h) образцов.

Экспериментальными исследованиями образцов (Zs) разного

Соседние файлы в папке книги