книги / Неразрушающий контроль параметров тонких проводящих пленок электромагнитными методами
..pdf92 |
3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур |
Рис. 3.20. Зависимость |
функции f(hja) |
для |
c ja = |
|
=0,08 при с2/а = 0,22 |
(/); 0,32 (2); |
0,42 |
(3); |
|
0,52 |
(4) |
|
|
|
висимость выходного сигнала от проводимости квадрата поверх ности покрытия Ys =lJZs и величины зазора h через функцию
(M l)
Исследуем функцию от зазора f(h/a) для различных соотно шений ci/c2 с учетом определенности W2/W j для известных Сь с2 на основании уравнения (3.28) и табл. 3.1.
На рис. 3.19 и 3.20 представлены зависимости функции f(h/a) от относительного зазора Ahja= (h -c i)la для различных преоб разователей. Как видно из рисунка, путем подбора соотношения обмоток можно добиться подавления зависимости от зазора Ah/a в определенных пределах его изменения.
3.2. Дифференциальные накладные преобразователи
93
Рис. 3.21 Зависимость функции /(Л/а) для С|/а=0,05 при 0,15 (/); 0,25 (2); 3 — Г 2/П?,= 1,8 вместо 2,05 для с2/а = 0,25
Таким образом, для идеальных дифференциальных трехобмо точных преобразователей с пренебрежимо малым сечением обмо ток молено путем изменения геометрии подобрать такой режим, при котором возможна хорошая отстройка от вариации зазора.
Для реальных преобразователей соотношение W2/\Vi при оп ределении функции f(hfa) будет немного заниженным, что, од нако, не меняет физического смысла разработанной методики.
На рис. 3.21, например, представлены зависимости /(Л/а), причем кривая 3 построена по вырал<ению (3.31) для занижен ного значения W2IW\ = \ $ вместо 2,05 согласно табл. 3.1. Следо вательно, и для реальных преобразователей возможна простая реализация разработанного метода. При этом настройка и кон струкция приборов при использовании предлагаемого метода упро-
94 |
3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур |
Рис. 3.22. Экспериментальная зависимость вы ходного сигнала от зазора для реального пре образователя при контроле алюминиевых по крытий: Kg=0,85 (/); 1,35 (2); 2,35 (3) См/П
щаются: напряжение от генератора переменного тока частотой, выбранной с учетом условия Ь2> 40, подается на питающую об мотку, с выхода включенных встречно измерительных обмоток полезный сигнал подается на усилитель и индикатор.
На рис. 3.22 представлена экспериментальная зависимость, снятая данным методом для преобразователя с Ci/a=0,08, с2/а= =0,5, а —13 мм при частоте питающего генератора около 300 кГц. Как видно из рисунка, при изменении относительного зазора в пределах 0—2 мм выходной сигнал изменяется менее чем на 2%.
Таким образом* проведенные исследования позволили разрабо тать с помощью предложенной методики простые вихретоковые методы контроля параметров тонких металлических покрытий на диэлектрических подложках с отстройкой от вариации зазора между дифференциальным трехобмоточным преобразователем и покрытием.
3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков |
95 |
3.3. КОНТРОЛЬ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПРОВОДЯЩИХ д и с к о в ПАРАМЕТРИЧЕСКИМ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕМ
В главе 2 и параграфах 3.1, 3.2 описаны методики рас чета взаимодействия электромагнитных полей и методы контроля тонких проводящих пленок, размеры которых намного больше раз меров преобразователей (граничные условия на бесконечности). В реальных условиях иногда приходится сталкиваться с издели ями (например, диски), размеры которых сравнимы с размерами измерительных преобразователей. В этом случае требуется реше
ние задачи взаимодействия электромагнитного |
поля |
вихретоко |
|||
вого преобразователя с изделием конечных размеров |
[191] (ре |
||||
шение |
уравнения |
Гельмгольца (2.10) в |
ограниченной |
области). |
|
В |
настоящем |
параграфе предлагается |
дальнейшее |
развитие |
|
методики импедансной поверхности (см. главу |
2) применительно |
к плоским тонким проводящим покрытиям, пленкам и специльным структурам (полупроводники, проводящая бумага) круглой формы (диски) с целью разработки вихретоковых методов контроля на основе полученных аналитических зависимостей [27, 46].
Решается задача взаимодействия неоднородного поля (часто той аз) вихретокового накладного преобразователя радиусом а с количеством витков W (с пренебрежимо малым сечением об мотки) с тонким (выполняется условие (2.2)) концентрически рас положенным на расстоянии h проводящим диском радиусом р<а с импедансом квадрата поверхности Zs.
Уравнение Гельмгольца после преобразования Фурье—Бесселя
для преобразованного вектор-потенциала |
имеет вид [27, 46, 172] |
||
|
дЧ* |
|
(3.32) |
где |
dz2 -%Ч* |
|
|
оо |
оо |
|
|
л* J r/i СКг)А(г, z)drt А= J А*(Я, z)Ji(kr)XdX, |
(3.33> |
||
о |
о |
|
|
j*cr—IaWJ-i {%a)b(z) — преобразованная |
плотность сторонних то |
||
ков. Граничные |
условия для вектор-потенциала с учетом |
(2.13), |
|
(3.33) (начало |
координат в центре диска, А\ — вектор-потенциал |
полупространства, в котором находится преобразователь) запи шутся как [46]
дА*2 |
|
дА\ |
|
= - У —J |
rJx(rK)A2{r,z)dr |
2-0 У |
|
dz |
2 - 0 |
dz |
2 - 0 |
||||
|
|
|
|
|
(3.34) |
||
|
|
А *\ |2 - 0 = А * 2 |г-0 1 А * 1 ,2 • *г-*оо |
0. |
||||
|
|
|
z-v±00
^6 |
3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур |
|||
Решения уравнения (3.32) ищем в виде |
|
|||
Л*1=- 2Х |
(ехр[—X{z—h)\ +fi ехр[—X(z+h)\) WIaJ\(Xa)\ |
(3.35) |
||
|
|
|
|
|
|
я* _ |
PO |
■f2exp [A,(z—h) ] WlaJi (Xa) . |
(3.36) |
|
A 2 ---- |
2X |
||
|
|
|
|
После подстановки выражений (3.35) и (3.36) в граничные ус ловия и преобразований находим функции
и вектор-потенциал |
j |
/2=1+/l (3'37) |
||
Ai (г, h, z) = Л0 (г, h, z) + |
^ |
3g^ |
||
|
||||
Ч—lj?7 — j ехр(—A.z)/i(A,r) [ J rJi(Xr)Ai(r, h,z=0)dr 1 dX, |
|
|||
lLs 0 |
0 |
|
|
тде Ao(r,h,z) — вектор-потенциал ненагруженного преобразова теля.
Для вектор-потенциала в плоскости 2 = 0 получаем следующее интегральное уравнение:
|
А\ (г, h, 2=0) =Л0(г, h, 2=0) + |
(3.39); |
|
|
оо |
Р |
|
ШЦо |
|
||
j* /1 (Яг) |
rJi(Xr)Ai(r, h,z=0)dr j dXt |
|
|
2Z< |
|
|
|
Вторая часть суммы (3.38) и (3.39) является вносимым векторпотенциалом. Для достаточно больших значений параметров b2=2Zslai\LQa этот вектор-потенциал намного меньше вектор-по тенциала ненагруженного преобразователя, и его можно рассмат ривать как возмущение [44, 46]. В первом приближении A \(r,h,z= =0) =Ao(r, h, 2= 0). Найдем теперь первую поправку в выражении (3.38) для вектор-потенциала при г —a, z=h. В случае параметри ческого преобразователя это значение будет определять параметры составляющих вносимого в него сопротивления:
Ai{r=a,h,z=h)=Ao+A'vu; |
^ ^ |
|
А'ъи{г=а, h,z= h) |
— f exp( —Л/г)/i (Яг) X |
|
|
о |
|
р
X [ J rJ\{Xr)Ao{r=a, h, 2=0) dr j dX.
3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков |
97 |
После подстановки Ло в |
(3.40) |
и преобразования |
к безразмерным |
величинам получаем |
|
|
|
A*DII | |
J |
exp(-t/Y)/i(£/) f J |
l h { \ y ) X |
оо |
|
|
(3.41) |
x[ J exp(-yx)Ji(x)Jl (xl)dx~\dl\dy, |
|||
0 |
|
J |
|
где a = p/a; y = h/a.
Вторая поправка A"nн к полному вектор-потенциалу будет (при Zs действительном) действительной величиной второго порядка ма лости по сравнению с вектор-потенциалом ненагруженного преоб разователя [46], и ее можно при практических измерениях не учи тывать.
Для вычисления выражения (3.41) по методу [46] необходимо
последовательно преобразовать каждый из интегралов, |
входящих |
в это выражение. Рассмотрим функцию |
|
оо |
|
Ро(1,\) = J е х р (-у х )/1(х)/1(л^)с?л', |
(3.42) |
о |
|
которую можно представить через полные эллиптические интегралы
E(k) и K(k) в виде |
[46, |
172] |
|
|
/» (? ,? )= ~ |
V [ ( 1 - — |
) * ( * ) - £ ( * ) ] . |
(3.43) |
|
где |
|
|
|
|
= |
|
1 |
для любых I, У- |
|
’ |
( l+ D H y 2 |
|
|
Так как дальнейшее интегрирование выражения (3.41) будет вес тись по переменной £, представим функцию /о(£»у) в виде сходя щегося ряда по £<1 (дальнейшее интегрирование по | в пределах от:0 до а< 1 ):
fo(£,Y) = l ! | £ :“+lBi(Y). |
(3-44) |
/-О |
|
Таким образом, рассматриваем случай а = -^<1. Применим |
фор- |
мулы разложения эллиптических интегралов в ряды по параметру k [109, 125]:
7 — 699
98 3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур
К(м |
я |
( |
I2 |
|
|
Ь41 |
. |
[(2/-1)!!]* |
\ . |
K W |
~ T |
1 1 + ~ |
Г |
^ |
+ |
0 . Л k + |
• • • + |
Г /Oi\ 1112 |
k ‘ + • • ♦ / ’ |
|
2 |
\ ‘ ■ 22 |
" |
' |
22-42 |
|
|
|
(3.45)
(2t—l)!!(2t—3)!!
[(2i)!!]2
Подставляя (3.45) в выражение (3.43) после последовательного разложения в ряды по-ц^-|ууи | и математических преобразова
ний, получаем значения коэффициентов 5 г(у) |
[27]: |
|
||
3 |
г |
(2i)\\(2i+2)Пу2> |
|
|
|
|
|
||
|
|
|
*_____ } |
|
|
j= 0 |
(2i-2/)!!(2i-2/+2)!!!(2ПП(2/)! |
J ’ |
|
|
|
(3.46) |
||
где |
|
|
||
(2 i+ l)!!(2 i-l)!! |
|
|
||
Ai=, |
|
|
||
|
(2i) \\(2i+2) !! |
|
|
|
При Y= 0 5,(0) =Л г- и |
(3.42), (3.44) переходят в соответствую |
|||
щие выражения работы |
[46]. После подстановки ряда (3.44) в |
|||
(3.41) для вносимого вектор-потенциала получаем |
|
|||
Л'вн{у, а) = — 14 Z s |
< exp (- у у ) Л (у) { J ], £i (у) X |
|
||
0J |
|
г=0 |
|
|
|
ю |
|
(3.47) |
x [ J i 2'+2/,(i;/)d |]} d i/.
Интеграл в квадратных скобках [46]
а |
|
*+1 |
i(aУ) |
|
|
|
|
|
|
После подстановки (3.48) в (3.47) получаем |
(3.48) |
|||
|
||||
* '- (« . Т > ~ |
4Z. |
i“0 |
( - 2 ) , ^ |
|
|
(1Иi +-1 |
1—-/j j r x |
||
|
- - |
- |
|
(3.49) |
|
о |
"j+1 |
Э |
|
|
У |
|
|
3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков |
99 |
Интегралы вида
(3.50)
n |
У3^ 1 |
находят по методике работы [46] путем последовательного реше ния дифференциальных уравнений
дХ*2 |
р < ^ |
да |
- = - F о (а, у); |
d l‘*
да а
(3.51);
да |
„ |
1J—1 » |
а |
|
где F0(a,y) — функция (3.42), (3.44). Решая последовательно дифференциальные уравнения (3.51), получаем [27]
I 2 = |
J . |
]_ |
a2h+2 |
Bk(y)k\ |
1 |
(3.52) |
|
/! |
2 |
|
(k + j+ 1)! |
J |
* |
После подстановки значения интеграла (3.52) выражение (3.49) преобразуется в
ia>\io2IaW
А'вп (о&, у) —
AZS L
( - 1) (i + l —j)\ l'X: (3.53)
'Xa2i+2 |
/i*»0 |
Bh(y)k\ |
I |
|
4 |
S |
(Л+/+1)! |
J * |
Путем математических преобразований рядов выражение (3.53) можно привести к более удобной форме:
А'вн(а, у )= - id)\io2IaW |
а 4 |
(v) |
M • (3*54) |
8Zs |
|
j=0 |
|
|
|
|
Переходя к значениям вносимых в преобразователь сопротивле ний для активной составляющей после преобразований [44, 172], получаем [27]
Rnil-r'-' |
л (сироа)*ХР* |
( “ |
V. |
1 |
F\ (а, у). |
(3.55) |
|
2Zs |
\ 2 |
’ |
(1+ т2)3 |
|
|
100 |
3. Вихретоковые методы контроля тонкопленочных структур |
Значение функции F |(a, |
у) |
|
|
|
||
а |
|
|
|
Y |
|
|
0 |
0,1 |
0,2 |
0,3 |
0,4 |
||
|
||||||
0,1 |
1,0050 |
1,0047 |
1,0039 |
1,0027 |
1,0013 |
|
0.2 |
1,0205 |
1.0192 |
1.0158 |
1,0188 |
1,0052 |
|
0,3 |
1,0476 |
1,0446 |
1,0362 |
1,0243 |
1,0113 |
|
0.4 |
1,0888 |
1,0827 |
1.0661 |
1,0432 |
1,0187 |
|
0,5 |
1,1480 |
1.1368 |
1,1069 |
1,0671 |
1,0262 |
|
0,6 |
1,2325 |
1.2123 |
1.1605 |
1,0947 |
1.0311 |
|
0,7 |
1.3557 |
1,3182 |
1.2284 |
1,1230 |
1,0292 |
|
0,8 |
1,5497 |
1.4699 |
1.3125 |
1,1449 |
1,0131 |
|
0,9 |
1.8811 |
1.6934 |
1,4116 |
1,1454 |
0,9704 |
|
0.94 |
2.1138 |
1,8121 |
1.4544 |
1,1339 |
0.9418 |
|
1,00 |
2.6237 |
2.0335 |
1,5195 |
1,0957 |
0,8811 |
где
w
I
. |
i+2 . . |
(3.56) |
|
2=0 |
;=0 |
|
|
J |
2/!!(2/+2)!!у2Л |
|
|
CHYJ - ^ J U - Y8)-81 |
|
||
(2j—2k) !! (2/—2&+2) U2k\ |
J |
||
A=0 |
|||
|
(3.57) |
||
|
|
В случае у=0 (3.55) —(3.57) переходят в соответствующие выра жения работы [46].
Полученная зависимость активной составляющей вносимого в вихретоковый параметрический преобразователь сопротивления от импеданса квадрата поверхности Zs и относительных геометричес ких размеров а=р/а, y=h/a при взаимодействии с тонким прово дящим диском позволяет разработать метод контроля импеданса квадрата поверхности таких структур. Реактивная составляющая полного сопротивления, как показывают расчеты по методике ра бот [44, 46], изменяется незначительно по сравнению с реактив ным сопротивлением ненагруженногсг преобразователя (на прак тике трудно измерить).
Выражение (3.55) свидетельствует о зависимости активной со ставляющей вносимого в преобразователь сопротивления от им педанса квадрата поверхности ZB (обратная пропорциональность) и геометрических размеров а, у. Функция Fi(а, у) имеет слож ный вид и может быть вычислена достаточно точно с помощью рядов (3.56), (3.57) для каждого конкретного случая. В табл. 3.2
3.3. Контроль тонкопленочных проводящих дисков |
101 |
Таблица 3.2
0,5 |
0,6 |
0,7 |
0,8 |
0,9 |
1,0 |
1,0000 |
0.9988 |
0.9978 |
0,9971 |
0,9966 |
0.9963 |
0,9988 |
0,9950 |
0.9911 |
0,9883 |
0.9863 |
0,9850 |
0,9988 |
0.9880 |
0.9795 |
0.9732 |
0,9689 |
0,9662 |
0,9960 |
0.9770 |
0.9622 |
0.9515 |
0,9444 |
0,9400 |
0.9898 |
0.9603 |
0,9382 |
0.9227 |
0.9125 |
0,9065 |
0,9777 |
0,9364 |
0,9066 |
0.8862 |
0.8733 |
0.9661 |
0,9564 |
0.9033 |
0.8664 |
0,8420 |
0,8271 |
0,8192 |
0,9215 |
0,8593 |
0.8174 |
0,7904 |
0,7744 |
0.7669 |
0.8683 |
0,8042 |
0.7609 |
0.7329 |
0.7170 |
0.7101 |
0,8408 |
0,7796 |
0,7371 |
0,7088 |
0.6929 |
0.6865 |
0,7921 |
0,7414 |
0.7013 |
0.6723 |
0.6560 |
0.6502 |
приведены значения этой функции, вычисленные с точностью до члена а 12 из выражения (3.56) для различных а и у. Точность для
а ^ 1 |
более |
1%. На рис. 3.23 графически представлены зависи |
мости |
функции Fi (а, у) от у (рис. 3.23, а) и а (рис. 3.23,6), по |
|
строенные на |
основе табл. 3.2. |
Таким образом, зная геометрические размеры (диаметр пре образователя, диаметр контролируемого тонкого проводящего диска и расстояние от него до преобразователя (параметры а, у)), по табл. 3.2 и рис. 3.23 можно найти значение функции Fi(a, у). Подставляя полученное значение и известные ©, a, W, а, у в вы ражение (3.55), находим коэффициент пропорциональности между Явн и Ys=y/Zs. Измеряя активную составляющую вносимого в параметрический преобразователь сопротивления, определяем зна чение его поверхностного импеданса.
Решение поставленной задачи, следовательно, позволяет создать метод и аппаратуру для контроля импеданса квадрата поверх ности тонких проводящих покрытий и пленок круглой формы (диски) при помещении их на некотором расстоянии от вихрето кового преобразователя.
Таким образом, получено аналитическое выражение, связываю щее параметры вихретокового преобразователя с размерами и электрофизическими свойствами исследуемых проводящих дисков (аналитическая зависимость от диаметра диска и расстояния до преобразователя).
Экспериментальная проверка должна заключаться в исследо вании справедливости зависимости (3.55) от геометрических раз меров (зазора h) образцов.
Экспериментальными исследованиями образцов (Zs) разного