Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Математические модели элементов интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
21
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
14.39 Mб
Скачать

/оs, ns — параметры вольт-амперной характеристики диода Us* зависящие от плотности поверхностного за­ ряда на границе Si—SiC>2, скорости поверхностной ре­ комбинации и периметра эмиттерного р—/г-перехода [65].

/'os, n'Sy Г02— параметры вольт-амперной характери­ стики диода ML» который является эквивалентом парал­ лельно включенных диодов M's и Д'2> учитывающих соответственно поверхностную рекомбинацию у коллек­ тора и инжекцию пассивной области коллекторного перехода. Параметры /os и n's зависят от тех же физи­ ческих факторов, что и параметры /os, ns диода Ms. Обратный тепловой ток /'02 диода Д'2 равен

 

/'„■=? (Л « -Л )

коллектор

 

 

 

J

М dx

 

Dn

 

(3.91)

 

^9+^6

 

 

 

j* Л/а (дс) dx )

 

где Ак,

Лэ— площади поверхности

р—n-переходов ба­

за— коллектор и эмиттер — база;

W0— ширина эмит­

тера; / о

б обратный тепловой ток диода Д б ,учитываю­

щего эффект вытеснения тока эмиттера. Величина этого тока равна

/ об = 4<рг/Л,

(3.92)

где

a%/oi.

(3.93)

2п (дщ у <ргр/|ЦрЛэ

 

М-р» р.п —усредненные значения подвижностей для дырок

и электронов.

влияние эффек­

Яэ, Як— факторы, характеризующие

та Эрли на эмиттере и коллекторе.

коллектора при

Гцо — омическое сопротивление тела

обратных смещениях на коллекторном переходе.

<Тк к—коэффициент, учитывающий модуляцию прово­ димости коллекторной области.

Модель IBIS позволяет учесть ряд важных эффек­ тов, характерных для работы планарных транзисторов: нелинейную зависимость коэффициентов передачи по току рлг и Р/ и граничной частоты fT от величины тока,

наклон выходных характеристик и др. В частности, вы­ ражение, описывающее изменение общего коэффициен­ та передачи по току pjv в зависимости от величины то­ ка /*б, имеет вид

J

K

 

1—ns (

a V /ns

(3.94)

 

 

 

 

 

 

 

 

1+ Kb'l

 

 

 

 

 

 

ns

 

 

 

где

 

Г

Ins, Т

Л _

Я / * б

^

_ R I S

 

Тг

[ Я (!-« % )/.,]

<РГ

 

Соотношение (3.94) позволяет моделировать изменение pjv, задавая различные значения тока коллектора.

Рисунок 3.29 иллюстрирует изменение коэффициен­ та усиления -по току для кремниевого планарного п—р—я-транзистора [65]. При малых значениях тока величина. (3^ определяется преимущественно поверхност­ ным током Is. Поскольку множитель в показателе экс­ поненты в выражении для тока Is больше единицы (fls>l), то ток Л через диод Ди у которого показатель экспоненты равен 1, растет быстрее, чем Is- Этим объяс­ няется увеличение fW с ростом тока /к. Спад величины рN на больших уровнях тока объясняется влиянием эффекта вытеснения тока эмиттера, что приводит к рез­ кому увеличению тока /*о. В результате рост общего тока базы, равного /о= / s + опережает рост тока /1, что в соответствии с (3.94) приводит к уменьшению PJV.

Инверсный коэффициент передачи по току описыва­ ется следующим выражением:

е . - т г

где

(3.95)

" i ;+ / C c l l + (a / 4 )]s

= /'„ /( 1 - а%)1о, или*Кс ъ (Ак - Aa)fA9.

Зависимость параметра fr от тока коллектора, полу­ ченная с помощью модели IBIS, приведена на рис. 3.30.

Результаты моделирования статических характери­ стик, примером которых могут служить рис. 3.29 и 3.30, хорошо согласуются с экспериментом (точность модели­ рования порядка 10%).

Параметры модели IBIS определяются с помощью метода наименьших квадратов из условия наилучшего

142

fT,Mr«
иоо
Рис. 3.30. Зависимость гранич­ ной частоты / т от тока коллек­ тора при £/,<=0:

■согласования результатов измерений вольт-амперных характеристик и зависимостей коэффициентов передачи по току в нормальном и инверсном включении транзи-

Рис. 3.29. Зависимость коэффициента р* от тока коллектора для

кремниевого

планарного транзистора

с параметрами 1во=

= 0,13-10-'3

A; ns = 1,2;

,р** = 120; Я = 175

Ом.

-------- эксперимент;---------

расчет по модели IBIS.

стора с соответствующими характеристиками, рассчи­ танными по модели. При заданной топологии транзи­ стора и известных свойствах поверхности кристалла параметры модели /os, я-s,

Гоз и п'$ предварительно рассчитываются по форму­ лам и зависимостям, приве­ денным в {65], а затем уточняются на основании результатов измерений.

Модель BIRD для анали­ за переходных процессов на большом сигнале по сравне­ нию с моделью IBIS харак­ теризуется девятью допол­ нительными параметрами:

CgO,

U M , 0э, Ско> £Д<0, 0и, T*j\r,

--------- эксперимент; — ~ — расчет

по

модели IBIS.

T*J, т£. Параметры Со0, £/оо,

 

 

0Э и

Ско, ико, 0к аппроксимируют зависимости барьер-

ных емкостей СЭбар и Скбар от напряжения:

 

Са бар — С * в бар =

Сэр____

 

(3.96)

 

 

[1-

(£/6, Э/У э0]°

 

_____ ^ко______

 

С к бар

 

(3.97)

 

п -

(t/6,K,/( W K ’

Следует отметить, что Ск бар является емкостью всего коллекторного перехода, а в модели используются емкости активной С*Кбар и пассивной CL бар областей коллектора. Разделение емкости СКбар на составляющие осуществляется пропорционально площадям областей

ь Кбар —

Лэ /ч *■

/“»

_

--Аэ /“»

ь к бар,

 

бар — —•£----- Ьк бар.

Постоянные времени TV, %*и хь входят в выражения для диффузионных емкостей

Ь 9ДНф-----Л/* *

с*.

 

/*2 *

 

 

 

(3.98)

г

Уу

.

£'

&£диф

 

Параметр T*JV определяется по известной методике. Постоянная времени т*i определяется из измерений

модуля и фазы проводимости 1^»=—^ I *-о в схеме

с ОБ.

Значение постоянной времени Хь, учитывающей инер­ ционность переходных процессов в пассивной области транзистора, определяется в результате измерения мо­ дуля и фазы коэффициента aj(/co) при достаточно ма­ лых уровнях тока, на которых можно -пренебречь влия­ нием импеданса базы 2бб'. Для транзисторов со слабо легированным коллектором диффузионная емкость пас­ сивной области коллектора определяется из соотноше­ ния

с 1даф= ■С*к днфДЛк - Л9)/Лэ],

(3.99)

поэтому параметр Хь определять не надо.

Применение моделей IBIS и BIRD особенно эффек­ тивно для интегральных транзисторов с малыми геомет­ рическими размерами и мелким диффузионным профи­ лем, для которых существенную роль играют эффекты вытеснения тока эмиттера, рекомбинации па поверхно­ сти, накопления заряда в пассивных областях. Модели IBIS и BIRD имеют одинаковое с моделью Эберса — Молла количество внутренних узлов и обладают опти-

144

мальной конфигурацией эквивалентной схемы *). Не­ смотря на большее, чем у модели Эберса — Молла, ко­ личество элементов, модели IBIS и BIRD описываются меньшим количеством параметров (табл. 3.1). Модели

Т а б л и ц а 3.1

 

Количество

Количество

Относительная

 

элементов экви­

точность моделирования

Модель

валентнойсхемы

параметров

параметров, %

стати­

общее

стати­

общее

стати­

динами­

 

 

ческих

 

ческих

 

ческих

ческих

Эберса—Молла (NiiT-1)

9

11

17

25

5—15

15—25

Агаханяна

9

11

18

26

5—15

5—10

Гуммеля—Пуна

7

и

14

22

<10

10—20

IBIS

12

13

< 10

BIRD

16

22

5—20

10—20

ПАЭС, ПА-1

7

,9

11

19

10—30

ПАЭС-1

10

12

21

33

5—10

7—15

Голубева—Кремлева

12

12

5—10

Примечание. Данные

на точности моделей приведены для интегральных п—р—

п-транэистороо с диэлектрической изоляцией.

эффективны с точки зрения затрат машинного времени и памяти ЭЦВМ и пригодны для расчета схем методами теории электрических цепей. Параметры моделей могут быть рассчитаны или на основе физико-топологической модели, или с помощью приведенных выше простых физических соотношений.

Недостатком моделей является достаточно сложная методика определения их параметров на основе резуль­ татов электрических измерений. IBIS и BIRD исполь­ зуются в автоматизированных программах анализа электронных схем IMAG-1 и IMAG-2 [66].

Модели транзисторов, используемые в отечественных программах анализа электронных схем. В настоящее время разработан ряд отечественных автоматизирован­ ных программ анализа электронных схем, наиболее рас­

пространенными из

которых являются ПАЗС [38],

ПА-1 [3.9], ПАЭС-1

[70]. Модели, используемые в этих

■программах, представляют собой модификации модели Эберса — Молла различной степени сложности.

*> Эквивалентная схема модели BIRD выбрана в качестве осно­ вы при создании ряда других моделей [67—69].

М одель, используемая в програм м ах П А Э С -1 и ПА-1

(рис. 3.31) описывается следующей системой уравнений:

 

 

dU 3

____ 1_ {19 /э акт)»

 

 

 

 

 

d t

С э

 

 

 

 

 

 

 

dUк

 

1

 

 

 

 

 

(3.100)

 

 

(/к

/ к

1 п)»

 

 

 

 

 

dt

 

Ск

 

 

 

dUn

 

 

 

акт)’

' Ед — ^|0 еХР

 

 

(3.101)

d t

 

 

 

 

 

С%~~С6 6ар

тут

'

 

 

 

-60

 

 

(3.102)

Ct6aP

П - ^ / с / ^ Л

 

 

 

 

f r —

Р д /э д —

Р / к д»

п

Pp,v/ К Д

Рр // П да

(3 . Ю З)

/э а к т = = / э д

1 эо

/»у»

/ к акт == /к д —■/ г

—■/ко — /к у»

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(3 .1 0 4 )

/п ак т =

/ п д

— /г п

— / п о —

/ пу»

5 —

/(>

/ 7 .

(3 .1 0 5 )

-Рас. 3.5/. Эквивалентная схема я—р—я—р-интегрального транзисто­ ра, используемая в программах ПАЭС и ПА-1.

Транзистор характеризуется следующими параметра­ ми: обратными тепловыми токами переходов /эо, /«о, /по» температурными потенциалами т эфг, /Пкфт, тафт, коэф­ фициентами передачи (3^, pj нормального и pPw, pPi паразитного транзисторов, коэффициентами аппрокси­ мации барьерных емкостей переходов от напряжения Сэо, UoOj 0э> ^ K0I ^ KOI 0к, Сцо, 1^по» 0п» постоянными вре­ мени тэ, тк, Тп, сопротивлениями утечки р—«-переходов

Яуэ, йук, /?уп, сопротивлениями тела базы Гбб и кол­ лектора Гкк.

Модель компактна с точки зрения количества пара: метров и сложности уравнений, требует малых затрат машинного времени и памяти ЭЦВМ, ее параметры легко могут быть измерены с помощью стандартных ме­ тодов и аппаратуры [71]. Модель может быть исполь­ зована для решения схемотехнических задач и расчета электронных схем с учетом статистического разброса параметров компонентов.

Рис. 3.32. Эквивалентная схема п—р—п-траизистора, используемая в программе ПАЭС-1.

Недостатком модели является то, что она не учиты­ вает ряд важных эффектов: зависимость коэффициен­ тов р от тока, модуляцию толщины базы, зависимость параметров от температуры. Относительная точность модели при расчете статических характеристик ИС (токовые ключи, элементы ДТЛ, ТТЛ и др.) составляет 10—20%', а переходных процессов 10—30% [72, 73].

В модели транзистора, используемой в программе ПАЭС-1 [74] (рис. 3.32), ток через р—/t-переходы пред­ ставлен в виде суммы двух составляющих —диффузион­ ной (показатель при экспоненте л^=Г) и рекомбина­

ционной

(/Я|=2), что позволяет повысить точность

аппроксимации вольт-амперной характеристики в диа-

пазоне температур:

 

 

 

 

(3.106)

 

 

г

) '

 

 

(3.107)

*0 =

*«, + V .

Ъ = -у (Г ° + Т)-

 

Токи генераторов описываются выражением

 

 

 

(З Л 0 8 >

где ^ = т|£0 +

— коэффициент передачи тока неоснов­

ных носителей

через базу,

зависящий от температуры;

— поправочный коэффициент, учитывающий долю

„ре­

комбинационного“ тока (0<>^<1).

В модели используется кусочно-линейная аппрокси­ мация коэффициентов передачи тока от напряжения на р—л-первходах:

7)29

*413 (UK Uix)

при UK<^U1К)

при UlK<(JK<iUtK,

Uzк-- C/lK

 

Чоэ

 

При UZK^ UK^ U»K,

 

 

k“41*

 

при UK^ U ZK,

T)lK

 

при U9<^Ul9tt

Чгк9.— ?]iK

при U i9< U 9< U * a ,

Uz9

^19 (f/9-i/.s)+^«K

^OK—•

 

при Ut9*^U9 <^19,

Uz9— 1/29(^9 — ^*») -f" 7i2K

T]*K

 

при U9^ U i3.

С опротивление

базы моделируется тремя

компонентами

Гбэ, /“б б и Гб к,

учитывающими м одуляцию

проводимости

базы:

т

(го + 1) (То + У^£д) *

 

(я* + 1) (Ко + Тэ/эд + КкЛсд) '

(3.109)

где у%“ коэффициент, определяющий степень модуляции

проводимости базы в области, прилегающей к соответ­ ствующему переходу (уэ=0,1—2,0; 7к=Ю—20); уо— начальная проводимость базы; т — коэффициент, зави­ сящий от конфигурации транзистора.

Практика моделирования транзисторных схем пока­ зывает, что в ряде случаев сопротивлением /*бб можно пренебречь. Тогда вместо эквивалентной схемы рис. 3.32 можно использовать схему, содержащую только сопро­ тивления гоо и гс к. Это соответствует случаю, когда т—*’оо в выражениях (3.109).

Сопротивление коллектора зависит от температуры Гкк==гко+КгТ. Емкости р - п -переходов являются сум­ мой барьерной, диффузионной емкостей и емкости вы-

водов и металлизации С, = С6 ^ + СЕ;д|1ф + Свь

при £/t > 0,

Внутренний потенциал перехода U^ и постоянная вре­

мени

линейно зависят от температуры С/д = £/20£-Ь

+ K UzT, ^ = ^ + к хт

 

Таким образом, модель транзистора описывается

следующей системой параметров:

 

параметры 'ВАХ переходов /'эо, /"эо, /'ко, /"ко;

Т)1э,

параметры коэффициентов передачи тока через базу

Лзэ, U [K, U2к, С/зк, Кэ, Т|1к, Т|ак> Т|зк, U i0, U2э, -Уав, Ик*»

 

параметры сопротивлений базы и коллектора уо, Уэ>

у«»

параметры емкостей р — я-переходов Соэ» и * * ' 9э» C QK$

UZOk, вк» Тэ0» Тко» с вэ» СВКи температурные коэффициенты /Сг, KUz, Кх*>- Методика измерения перечисленных

параметров приведена'в [70, 75].

Кдостоинствам модели относятся высокая точность

ивозможность расчета характеристик в диапазоне тем­ ператур. Расчеты ИС типа ТТЛ, ДТЛ, токовых ключей

идругие показали, что статические характеристики мо­ делируются с точностью 5—10%, а переходные 7—15%

[73].

Недостатком модели является большое количество формальных параметров, требующих специальных из­ мерений.

Причем, часть из этих параметров, например

у»*

m, подбирается, как правило, эмпирически, что

зат­

рудняет работу с моделью.

 

Процесс определения параметров моделей компонен­ тов при проектировании полупроводниковых ИС имеет свою специфику. Как правило, невозможно измерить параметры модели на выводах каждого транзистора ИС. Измерения проводятся на специальных тестовых образцах с заданной топологией. Компоненты ИС могут иметь самую различную конфигурацию, поэтому необ­ ходимы модели, которые позволяют по результатам измерений на тестовых образцах с заданной конфигу­ рацией осуществить пересчет параметров модели для транзисторов с произвольной топологией.

Модели рис. 3.31 и 3.32 получены .на основе одномер­ ного приближения и не учитывают реальной двумерной структуры транзисторов, изготовленных по планарной технологии. Как следствие, параметры этих моделей слабо связаны с .параметрами физической структуры и топологии прибора, поэтому их использование для про­ ектирования полупроводниковых ИС может оказаться малоэффективным.

Из отечественных моделей для проектирования не­ линейных полупроводниковых ИС наиболее подходит

двумерная модель Голубева Кремлева (рис. 3.33).

*> Ширина запрещенной зоны фсо и ее температурный коэффи­ циент являются табличными величинами и в систему парамет­

ров не включены. Их значения приведены в § 3.2.

Соседние файлы в папке книги