Лазерная абляция

Абляция (от латинского ablatio - отнятие) – физико- химический процесс удаления вещества с поверхности или из объема твердого тела. Лазерная абляция – удаление (испарение) вещества с поверхности твердого тела (иногда жидкости) при воздействии на него лазерного излучения

Получение материалов и структур:

углеродные нанотрубки (при обработке лазерным лучом графита или смеси графита с металлическим катализатором (Co, Nb, Pt, Ni, Cu). В первом случае получаются многослойные, а во втором – однослойные структуры)

кремниевые наношнуры

тонкие пленки YBa2Cu3O7, многослойные

полупроводниковые структуры (метод получения –

импульсное лазерное напыление, pulsed laser deposition)

Лазерная абляция

Получение кремниевых наношнуров

температура синтеза 1200 °С диаметр 3 – 50 нм

Fe катализатор

механизм роста «пар-жидкость- твёрдое тело»

Ионная имплантация

Ионная имплантация

Внедрение ионов одного материала в пленку (подложку) другого материала с помощью ионной имплантации. Имплантированные атомы неравномерно распределены по толщине пленки – их концентрация максимальна на глубине, соответствующей проецированному пробегу ионов с выбранной энергией. Последующая термообработка имплантированных образцов производится для формирования кристаллитов. Применение ионной имплантации обеспечивает создание квантовых точек в виде нанокристаллитов и квантовых пленок в виде наноразмерных слоев.

Ионная имплантация

Получение преципитатов-FeSi2 в кремнии

Ионная имплантация

Получение преципитатов -FeSi2 в кремнии

Два типа преципитатов -FeSi2: первый тип - небольшие

образования круглой формы с диаметром около 15 – 30 нм и напряженными параметрами решётки, которые находились в приповерхностной области толщиной 150 – 250 нм. Второй тип – дискообразные преципитаты намного бóльших по размеру без искажений параметров решеток с диаметром 100 – 200 нм и толщиной 20 – 30 нм. Они находились на глубине 500 нм от поверхности.