Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Нелинейные металлоксидные полупроводники

..pdf
Скачиваний:
5
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
10.11 Mб
Скачать

вышает 0,5 нс, что позволяет использовать МОВ в режиме работы с еще более короткими импульсами, чем напри­ мер, при атмосферных разрядах. Такие импульсы возника­ ют, в частности, при взаимодействии у-радиации с около­ земной атмосферой. Распространение у-излучения в ат­ мосфере приводит к образованию высокоэнергетических комптоновских электронов и ионизированных атомных остовов и как следствие, — мощному импульсу электромаг­ нитного поля с длительностью фронта примерно 10 нс и амплитудой 105 В/м, экспоненциально спадающему за время около 1 мкс. Варистор, предназначенный для погло­ щения таких пульсаций должен обладать следующими ха­

рактеристиками:

пороговым

напряжением

100

В, вре­

менем

задержки

менее 1

нс, временем

выключения

ме­

нее 0,1

мкс при возможной

скорости возрастания

тока

до

8 А/нс. При этом собственные вносимые потери должны быть меньше 0,4 дБ на частоте около 0,1 ГГц [71]. Попыт­ ки применить для этих целей переключатели на основе толстых гибридных поли- и монокристаллических пленок оксидов ниобия не были особенно удачны, так как пере­ ключение в них сопровождалось структурными превраще­ ниями и изменением стехиометрических соотношений, вследствие диссипации мощности, что приводило к механи­ ческому разрушению пленки.

Применение цинкоксидного варистора в виде пластины со стороной 0,25 мм толщиной 0,1 мм, смонтированного в корпусе СВЧ-устройства позволило достичь времени за­ держки менее 0,5 нс при собственной емкости устройства 4,4 пФ и уровне потерь 0,1 дБ. При этом собственно время, за которое инициируется проводящее состояние варистора измерить еще не удалось, поэтому достигнутое быстродей­ ствие не является пределом. Таким образом переход ва­ ристора в проводящее состояние выглядит как практиче­ ски безынерционный чисто электронный процесс, что обус­ ловливает перспективность применения варисторов в полу­ проводниковой электронике и вычислительной технике.

32. Пробой варисторов

Основной причиной отказов варисторов, ограничиваю­ щей срок их службы, является пробой под действием элек­ трического поля и температуры. В результате ВАХ в ста­ тическом режиме теряет симметричность, приобретает «диодный» вид (см. рис. 49). Пробой может не сопровож­ даться разрушением прибора и заключается в образовании проводящего канала через тот потенциальный барьер на

поверхности кристаллита, который при данной полярности определяет обратную ветвь ВАХ. Пробой даже небольшо­ го числа межкристаллитных барьеров приводит к необра­ тимому возрастанию удельной электрической проводимости и снижению порогового напряжения (так называемая «де­ градация» варистора).

Пробой в МОВ связан с диссипацией мощности, рас­ сеиваемой при джоулевом разогреве, и, как и термическая нестабильность (см. § 16, гл. 3), приводит к S -образной ВАХ. Вместе с тем пробой в МОВ имеет свои специфиче­ ские особенности. Известно, что при термической неста­ бильности малейший разогрев прибора приводит к воз­ растанию тока и, следовательно, к дальнейшему разогреву и к дальнейшему возрастанию тока и т. д., т. е. процесс определяется крутизной температурной зависимости элек­ тропроводности. Напротив, в МОВ при напряжениях выше

порогового U > U C проводимость практически не

зависит

от температуры [этим и объясняется очень малый

темпе­

ратурный коэффициент классификационного тока и клас­ сификационного напряжения (см. § 30)]. Другой особен­ ностью является крайне резкая зависимость удельной элек­ трической проводимости от напряженности поля. Дегра­ дация и пробой МОВ тесно связаны с нестационарными явлениями электропроводности, отмеченными выше (§13), и, видимо, объясняются дрейфом примесей и дефектов, т. е. ионной электропроводностью в межкристаллитном перехо­ де, приводящей к разрушению поверхностных состояний й связанных с ними потенциальных барьеров. Под действи­ ем температуры этот процесс интенсифицируется вследст­ вие роста подвижности ионов — носителей заряда.

Количественное описание основано на рассмотрении ба­ ланса мощности, рассеиваемой в межкристаллитном пере­ ходном слое. Если считать, что S-образная ВАХ рис. 49 имеет чисто термическую природу, уравнение теплопровод­

ности имеет вид:

 

С ——= аЕ2-f- аДТ,

(112)

dx

 

где С — теплоемкость; а — теплопроводность;

Д — диффе­

ренциальный оператор Лапласа.

 

Первое слагаемое в правой части представляет собой джоулев разогрев. В однородном стационарном случае, считая теплоотвод несущественным, уравнение (112) мож­ но записать как

С(Тт- Т 0)= а(Т > Е )Е \

(113)

где Тт— температура проводящего канала; То—температу­

ра окружающей среды.

С помощью (113) по экспериментальным S-образным ВАХ можно рассчитать температуру проводящего канала Тт, отвечающую напряжению перегиба Uc («температуру

пробоя»). И эксперимент и расчетные оценки показали, что 7’m*s=1750C и практически не зависит от исходной тем­ пературы в рабочем диапазоне —40-г—|-85°С [67].

• Лри термическом пробое (термической нестабильности) пороговое напряжение Uc монотонно снижается с темпе­

ратурой окружающей среды. Эта модель игнорирует поле­ вую зависимость проводимости, и токовый разогрев про­ водящего канала может быть рассчитан также из выраже­ ния (41).

Для МОВ, однако, более обоснованной представляется электротермическая модель, дополнительно учитывающая в (112) рост удельной электрической проводимости с на­ пряженностью поля. Если, например, нелинейная ВАХ на участке, предшествующем S-образной аномалии, отвечает

уравнению Френкеля, то в выражение

(112) проводимость

войдет в виде

 

О(Е) = а0 ехр ( ------.).

(114)

Очевидно, что разогрев межкристаллитного слоя в элек­ тротермической модели больше, нежели в простом терми­ ческом механизме пробоя, так как составляет [сравните с (41)]

Т

— Т

 

T* k

(115)

о

1 ivr

1 тп

 

.(£)

 

 

 

 

 

где ф (£)=ф о—Дф(£) — потенциальный барьер, сниженный электрическим полем на Дф.

Пороговое напряжение 0 Сс электротермической модели

пробоя зависит от температуры окружающей среды тем слабее, чем резче выражена нелинейность ВАХ.

В настоящее время нет возможности раздельно оценить влияние электронного и теплового механизмов на появле­ ние S-образности ВАХ варисторов из-за отсутствия соот­ ветствующих экспериментальных данных. Заметим только, что с физической точки зрения тепловой механизм форми­ рования S-образной ВАХ является достаточным, но не всегда необходимым, и может быть обусловлен одними лишь конструктивными особенностями прибора, приводя­ щими, например, к ухудшению теплоотвода.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В металлоксидных полупроводниках существует и широко приме­ няется специфический механизм неомических явлений, обусловленный поверхностными потенциальными барьерами. Химическая природа этих барьеров до конца не ясна, но, по-видимому, образующие их поверх­ ностные состояния возникают вследствие взаимодействия поверхностно­ активных центров — ионных дефектов и примесей с хемосорбированным кислородом.

Теоретические модели, хотя и не дали однозначного ответа на во­ прос о механизме нелинейных явлений, продемонстрировали большие потенциальные возможности симметрично-барьерных структур с различ­ ным спектром поверхностных состояний. Можно ожидать, что в бли­ жайшие годы будут сформулированы способы оптимального легирова­ ния поверхности кристаллита, что стимулирует разработку новых не­ линейных элементов.

В области технологии следует отметить попытки получить нелиней­ ный элемент методами полупроводниковой технологии (диффузионный и пленочный варисторы), что позволило бы технологически совместить варисторы с традиционной технологией с полупроводниковыми прибо­ рами. С этой задачей в значительной степени связаны перспективы дальнейшего расширенного применения нелинейных металлоксидных по­ лупроводников в электронике.

Несмотря на значительные успехи последних лет, возможности оксидных полупроводников еще далеко не исчерпаны, и это позволяет надеяться на дальнейший быстрый прогресс в разработке и применении нелинейных элементов.

b — постоянная нелинейности (гл. 2 ) С — электрическая емкость

D n — коэффициент диффузии электронов d — средний размер кристаллита

Е— напряженность электрического поля

&^ — энергия дна зоны проводимости, потолка валентной

зоны, примесного уровня и уровня Ферми

 

.8 8 — ширина запрещенной зоны

 

е — заряд электрона, 1,6-Ю 19 Кл

 

h — постоянная Планка, 1,05* 10~ 34 Дж*с (^*=/*/271)

 

h — классификационный ток

 

/ в — плотность тока насыщения

 

k — постоянная Больцмана, 1,38*10-23 Дж/К

 

L — длина экранирования Дебая

 

М — коэффициент умножения носителей

 

т * — эффективная масса носителей заряда

 

Nd, N a — концентрация донорных и акцепторных центров

 

Ne — эффективная

плотность состояний в зоне проводимости

 

Ns — плотность поверхностных состояний

 

Т — абсолютная температура

пере­

U — напряжение;

Uc— пороговое напряжение (напряжение

гиба

ВАХ);

U« — классификационное (варисторное)

напря­

жение

 

 

 

Q — электрический заряд

 

W — термодинамическая работа выхода

 

а — коэффициент

дифференциальной термо-ЭДС (гл. 2), коэффи­

циент

ударной ионизации (гл. 3), коэффициент термического

расширения

(гл. 4), показатель нелинейности (гл. 5)

 

Р— коэффициент нелинейности ВАХ

у— постоянная в уравнении Пула

€о — диэлектрическая постоянная, 8,85-10-12 Ф/м Вг — относительная диэлектрическая проницаемость

я— постоянная Френкеля

р— удельное сопротивление

<т — удельная электрическая проводимость р — подвижность носителей заряда <р — высота потенциального барьера

1 . Валеев X. С., Машкович М. Д. Нелинейные полупроводники на

основе

ZnO—Ti02. — ЖТФ, 1957,

т. 27, вып. 8 , с. 1649— 1651.

2.

Косман М. С., Петцольд Э.

Г. О возможности изготовления сим­

метричных варисторов из окиси цинка с примесыо окиси висмута.—

Ученые записки ЛГПИ им. А. И. Герцена, 1961, т. 207,

с. 191— 196.

3. Taylor W. Е., Odell

W. H., Fan H. J. Grain boundary barriers in

germanium. — Phys. Rev.,

1952, vol. 8 8 , p. 867—875.

 

4. Гольдман И. Б., Ждан А. Г. Электропроводность полупроводни­

ков с межгранульными

барьерами.— ФТП, 1976,

т. 10, вып. 10,

с.1839—1845.

5.Kohl D., Moorman H., Heiland G. Correlated behaviour of hall

mobility and work junction in the case of accumulation layers of ZnOcrystals. — Surf. Sci., 1978, vol. 73, p. 160—162.

6 . Van Ordorp C., Kanerva N. K. J. Voltage-current characteristics and capacitance on heterojunctions. — Sol. State Electron., 1967, vol. 10,

p.401—408.

7.Квасков В. Б., Валеев X. С. Неомические явления в окиси цин­

ка.— Известия

АН СССР. Серия Неорганические

материалы, 1976,

т. 12, вып. 11, с. 2090—2092.

позисторного

эффекта

8 . Квасков

В. Б., Валеев X. С. О модели

в проводящем

титанате

бария. — Известия АН

СССР. Серия

физиче­

ская, 1975, т. 39,

N26 ,

с. 1327—1331.

 

 

 

 

9. Mallick G. Тм Emtage P. R. Current-voltage characteristics of se­

miconducting barium-titanate-ceramic. — J. Appl.

Phys.,

1968,

vol. 39,

p. 3088—3094.

 

H. Г.,

Валеев X. С., Машкович

M.

Д. Нелинейные

10. Дроздов

полупроводники на основе окислов цинка и

титана с добавками. — Тру­

ды ГИЭКИ. — М.: Энергия, 1960, вып. 4, с.

64—69.

11.Нелинейные свойства полупроводниковой керамики на основе окиси цинка/ Б. И. Воронков, Г. А. Геращенко, Л. Ф. Запорожец,

Ю.Д. Кобцев. — Полупроводниковая техника и микроэлектроника, 1973, вып. 13, с. 44—49.

12.Matsuura М., Masuyama Т. Negative resistance effect of zinc

oxide ceramics. — Jap. J. Appl. Phys., 1975, vol. 14, № 6 , p. 889—890.

13.Валеев X. С., Князев В. A.f Дроздов H. Г. Нелинейные полу­

проводниковые сопротивления на основе окислов цинка, кремния и оло­ ва. Электричество, 1964, N24, с. 72—76.

14.Влияние процессов стеклообразования и кристаллизации на вольт-амперные характеристики полупроводниковой керамики ZnO—

Sn02 с добавками/ А. Я. Якунин, Б. К. Черный, А, М. Чакк, А. Б. Глот. — Известия АН СССР. Серия Неорганические материалы, 1976,

т.1 2 , № 5, с. 955—956.

15.Пат. 46-19474, 47-45793, 48-14357, 48-5836, 48-5839 (Япония). Нелинейный резистор, полученный методом спекания.

16.Пат. 2026011 (ФРГ). Нелинейный резистор.

17.Mukae K-, Tsuda К., Nagasawa I. Non-ohmic properties of ZnO-

rare

earth metal oxide-CoaO^ceramics. — Jap.

J.

Appl. Phys.,

1977r

vol. 16, № 8 , p. 1361— 1368.

 

 

oxide ceramics. — Jap. J. AppL

18.

Matsuoka M. Properties of zinc

Phys.,

 

1971, vol. 10, p. 736—746.

 

 

resistor/

M.

Matsuurav

19.

Пат.

252519 США. Voltage-dependent

N. Nishi, M. Matsuoka, T. Masayama.

 

 

 

 

 

 

 

 

20.

Iga A., Matsuoka M., Masayama T. Effect of heat-theatment on

current

creep

phenomena in non-ohmic

ZnO-ceramics. — Jap.

J.

AppL

Phys., 1976, vol. 15, p. 1847—1848.

 

 

 

 

 

 

 

 

21.

Shoata N., Joshida J. Effect of glass on non-ohmic properties of

ZnO-ceramic

varistors. — Jap.

J. Appl.

Phys.,

1977, vol.

16,

1 2

-p. 2299—2300.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

22.

Eda K., Iga A., Matsuoka M. Current creep in non-ohmic ZnO-

ceramics. — Jap. J. Appl. Phys.,

1979,

vol. 18, iN° 5,

p. 997—998.

 

23.

Пат.

1764818 (ФРГ). Keramischer Varistor

und

ein

Verfahrerc

zu dessen Herstellung/ T.. Nitta, H. Tàki, K. Nagase, S. Hayakawa.

 

24.

Low

voltage ZnO varistor:

device process

and

defect

model/"

F. A. Selim, T. K. Gupta, P. L. Hower,

W. G. Garison. — J. Appl. Phys..

1981,

vol. 51,

No 1, p. 765—768.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

25.Levinson L., Philipp H. R. Ac properties of 'metal — oxide varis­ tors.— J. Appl. Phys., 1976, vol. 47, № 3, p. 1117—1122.

26.Matsuura M.f Jamaoki H. Dielectric dispersion and equivalent:

circuit in non-ohmic ZnO-ceramics. — Jap. J. Appl. Phys., 1977, vol. 16,. Ns 7, p. 1261— 1262.

27.Караченцев А. Я., Поташев 10. H. Электрические свойства оксидноцинковых варисторов объемного типа. — Электронная техника.. Сер. Радиодетали и радиокомпоненты, 1973, вып. 4, с. 37—43.

28.Lou L. F. Semiconducting properties of ZnO-grain boundary —

ZnO-junctions in ceramic

varistors. — Appl. Phys.

Lett., 1980,

vol. 36;

No. 7, p. 570—572.

 

 

 

 

 

 

29.

Levinson L. M.f Philipp H. R. The physics of metall oxide va­

ristors.— J. Appl. Phys.,-

1975, vol. 46, N° 3, p. 1332—1341.

цинка.—

30.

Верещагин

И.

К.

О

лавинных процессах

в окиси

В кн.: Пробой диэлектриков

и полупроводников. — М. — Л.: Энергия,.

1964, с. 327—328.

 

 

 

 

 

 

31.

Hartke J. Z. The three-dimensional Poole-Frenkel effect.— J. AppL

Phys.,

1968, vol. 36,

p. 4871—4875.

 

 

32.Hill R. M. Poole-Frenkel conduction in amorphous solids. — Phil.. Mag., 1971, vol. 23, p. 59—83.

33.Горбачев В. В., Квасков В. Б. Расчет потенциальной ямы экра­

нированного точечного дефекта с помощью

эффекта Френкеля — Пу­

ла. — Известия вузов. Физика, 1979, № 2, с.

108—110.

34.Arnett P. С., Klein N. Poole-Frenkel conduction an the neutraî trap. — J. Appl. Phys., 1975, vol. 46, j№ 3 , p. 1399—1400.

35.Nisoshi P.f Masaki A., Mitsuhiro <X, Noriyuki K. Glassvaristor.— Nat. Techn. Rept. 1978, vol. 24, № 1 , p. 15—22.

36.Тимашев С. Ф. О температурных зависимостях эффекта пере­

ключения.— ФТП, 1977, т. 11, вып. 7, с. 1437— 1438.

37. Электрические свойства и применение халькогенидиых стекло­ образных полупроводников/ В. Б. Квасков, Н. В. Пароль, Н. А. Иофис,. В. В. Горбачев. — М.: ЦНИИ Электроника, 1981. — 58 с.

38. Einzinger R.

Mikrokontakt-Messungen

an

ZnO-Varistoren.—

Вег. Dt. Keram. Ges.,

1975, Bd 52, Mb 7.

 

 

39. Morris W. G. Physical properties of the electrical barriers in va­

ristors.— J. Vac. Sci. Technol., 1976, vol. 13, №

4,

p. 926—931.

40.Emtage P. R. Physics of zinc-oxide varistors. — J. Appl. Phys., 1977, vol. 48, № 10, p. 4372—4384.

41.Clarke D. R. The microstructural location of the intergranular

anetal-oxide phase in zinc-oxide varistor. — J. Appl. Phys., 1978, vol. 49, J№ 4, p. 2407—2411.

42. Eda K-, Matsuoka M. Thermally stimulated current in non-ohmic

.ZnO-ceramics.— Jap. J. Appl. Phys., 1977, vol. 16, № 1, p. 195—196.

43. Lee J. J., O’Brien J., Cooper M. S. Sekond break-down characte­ ristics of metal-oxide varistors. — J. Appl. Phys., 1977, vol. 48, iNs 3, ;p. 1252— 1257.

44.Волков H. Г., Ляпидевский В. К. Расчет потенциальной ямы электронной ловушки с помощью термополевого эффекта Френкеля.— ФТТ, 1972, т. 14, с. 1337— 1341.

45.Levin J. D. Theory of varistor electronic properties. — CRC Cri­

tical Rev. in Sol. St. Sci.,

1975, vol. 5, p. 597—608.

46.

Pike G. E., Seager С. H. The dc voltage dependence of semicon­

ductors

grain

boundary

resistance. — J. Appl. Phys., 1979, vol. 50,

p. 3414—3422.

 

 

47.

Hower P. L., Gupta T. K. A barrier model for ZnO-varistors.—

J. Appl.

Phys.,

1979, vol. 50, № 7, p. 4847—4855.

48. Blernaskoni J., Strassler S., Knecht B., Klein H. P., Menth A .— :Zinc-oxide based varistors a possible mechanism. — Sol. State Commun., 1977, vol. 21, p. 867—868.

tion

49.

Mahan G. D., Levinson L. M., Philipp

H. R. Theory

of conduc­

in

ZnO-varistors. — J. Appl. Phys., 1979,

vol. 50, № 4,

p. 2799—

2812.

 

 

 

 

на

50.

Горбачев В. В., Квасков В. Б. Нестехиометрия хромита ланта­

и потенциальные барьеры в поликристалле. — Известия

АН СССР.

Серия Неорганические материалы, 1978, т. 14, №

10, с. 1855— 1859.

 

51.

Глот А. Б., Черный Б. Км Якунин А. Я.

Инжекционные токи

в керамических полупроводниках на основе ZnO—Sn02. — Известия АН

СССР. Серия Неорганические материалы, 1977, т. 13, № 9, с. 1627— 1629.

52.Einzinger R. Dotierungseffekte in Metall-oxyd-Varistoren. — Ber Dt. Keram. Ges., 1978, Bd 55, № 6 , S. 329.

53.Eda K. Transient conduction phenomena in non-ohmic zinc oxide •ceramics. — J. Appl. Phys., 1979, vol. 50, № 6 , p. 4436—4442.

54.Eda K., Matsuoka M. Current oscillation phenomena in non-

ohmic ZnO-ceramics. — Jap. J. Appl. Phys., 1979, vol. 18, № 5,

p.999—1000.

55.Hausman A., Schallenberger B. Interstitial exygen in zinc exide •single crystals. — Z. Physik, 1978, Bd 31, S. 269—273.

56.Валеев X. С., Квасков В. Б. Термическое расширение окислов висмута, кадмия и цинка. — Изв. ÂH СССР. Серия Неорганические материалы, 1973, т. 9, № 4, с. 714, 715.

57. Wong J. Microstructure and phase transformation in highly nonohmic metal-oxide varistor ceramic.— J. Appl. Phys., 1975, vol. 46, № 4, -p. 1653— 1659.

58.

Graciet M.f Salmon R.f Le

Flom G., Hagenmuller P. Evolution

ot role des constituants chimiques

an cours du processus de fabrication

•des varistances a base d’oxide de

zinc. — Rev.

de Phys., Appl., 1978,

vol. 13,

p. 67—74.

 

 

 

59.

Inada M. Crystall

phases

in non-ohmic

ZnO-ceramic. — Jap. J.

Appl. Phys., 1978, № 1, p.

1—10.

 

 

in

60.

Philipp

H. R., Levinson L. M. Tunneling of photoexcited carriers*

metal oxide

varistors. — J. Appl. Phys., 1975, vol. 46, № 7, p. 3206—

3207.

Nagai

M.t Yanagida H. Semiconducting barium titanate films

by

61.

a modified

doctor blade method. — Ceramurgia Int., 1976, vol. 2 ,

3, p. 145—151.

62.Harnden J. D.t Martzloff F. D., Morris W. G., Golden F. G. Me­

tal-oxide varistor — a

new way to supress

transient. — Electronics, 1972,.

vol. 45, p. 91—96.

 

 

63. Кобцев Ю. Д., Воронков Б. И., Запорожец Л. Ф. Нелинейные

резисторы

большой

площади. — Вестник

Киевского политехническога

института,

1973, № 10, с. 14— 17.

 

64.Керамические резисторы с высоким коэффициентом нелинейно­ сти на основе окиси цинка/ Б. К- Авдеенко, А. И. Бронфман, А. Я. Ка­ раченцев и др. — Электричество, 1976, № 9, с. 61—63.

65.Lee J. J., Cooper М. S. High-energy solid state electrical surges

arrestor. —- IEEE

Trans.

Parts, Hybr.

Pack.,

1977,

vol.

13,

iN® 4r

p. 413—419.

 

 

 

D. E. Varistor-controlled

liquid-crystal

displays.—

6 6 . Castleberry

IEEE Trans, on Electron. Devices, 1979,

vol. 26, N° 8 , p. 1123—1128.

67. Brückner W., Moldenhauer W., Hinz D.

Thermal breakdown in

ZnO-varistor

ceramics. — Phys. Stat. Sol.

(a),

1980,

vol. 59,

p. 713—718.

6 8 . J. Bernaskoni, H. P. Klein, B. Knecht,

S. Strassler. Inkestigation

of various

models

for

metall-oxide-varistors.— J.

of

Electronic

Mate­

rials, 1976, v. 5, N° 5, p. 473—493.

 

 

properties

of ZnO-va-

69. Knecht

B.,

 

Klein H.-P. Preparation and

ristors. — Ber.

Dt

Keram. Ges, 1978, Bd. 55, l№

6 ,

S. 326—328.

 

70.Александров В. В., Пружинина В. И, Электрические характе­ ристики оксидно-цинковых резисторов РНС-60. — Электротехника. 1979, N° 7, с. 29—32.

71.Philipp Н. R., Levinson L. М. ZnO-varistor for protection against nuclear electromagnetic pulses. — Journal of applied physics. 1981, v. 52,

2, p. 1083—1090.

Оглавление

Предисловие

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

В ведение................................................................................

 

4

Г л а в а

п е р в а я .

 

Контактные и поверхностные явления в ок­

сидных

полупроводниках

 

 

 

 

 

 

 

8

Г. Барьер

Шоттки .

 

 

 

 

 

 

(бикристалл)

8

2. Контакт

полупроводник — полупроводник

12

3.

р-п

переход

 

.

 

.

 

.

 

 

 

 

14

4. Поверхностные состояния в оксидах

 

 

 

16

5. Физические модели межкристаллитной границы

 

19

Г л а в а

в т о р а я .

 

Электрические свойства металлоксидных по­

23

лупроводников ..............................

 

 

 

 

 

6. Барьерные эффекты электропроводности в оксидах в сла­

23

 

бых

электрических полях

. . .

 

.

 

7. Вольт-амперные характеристики оксида цинка и полупро­

28

 

водникового титаната 'бария . . . .

 

 

8. Бинарные оксидные системы на основе ZnO

 

33

3. Линеаризация ВАХ в

бинарных

системах . . . .

 

34

.10. Бинарные

системы

с

отрицательным

дифференциальным

35

 

сопротивлением

.

 

 

 

 

 

.

 

11. Трехкомпонентные оксидные системы на основе ZnO . .

37

12. Многокомпонентные

оксидные

системы

на основе

ZnO

41

13. Явления нестационарной электропроводности в варисторах

44

14. Поверхностно-барьерные

варисторы

. . . .

 

47

15. Диэлектрические свойства цинкоксидных варисторов

 

50

Г л а в а

т р е т ь я .

 

Природа неомических явлений в металлоксид-

4

ных

полупроводниках .

в

 

 

 

 

.

5

16. Неомические

явления

поликристалличеоких полупро­

54

 

водниках

 

 

. . .

 

 

 

 

.

 

 

 

17. Структура переходного слоя *в варисторах

 

67

18.

Физические

модели

варисторного

эффекта .

 

71

19. Поверхностные состояния и их влияние на степень не­

84

 

линейности

 

ВАХ

.

 

 

 

 

.

 

 

20. Электрическая неустойчивость и осцилляции тока в ва­

88

 

ристорах .

 

 

эффект

в

поляронных

 

полупроводниках

21. Варисторный

 

93

Г л а в а

 

ч е т в е р т а я . Физико-химические свойства и технология

100

варисторов .

 

 

. . . . .

 

 

 

 

22. Физико-химические свойства оксидов .

 

 

100

23. Химический и фазовый состав нелинейных цинкоксидных

105

 

полупроводников .

 

 

. . . .

 

 

24. Микроструктура цинкоксидных

варисторов

 

115

25. Технология

металлоксидных варисторов

 

 

118

26. Пленочные

 

варисторы

 

 

 

 

 

 

 

122

Г л а в а

 

пя т а я .

Технические

характеристики

и

применение

ме­

125

таллоксидных варисторов .

 

 

 

 

 

 

27.

Технические

 

характеристики варисторов . . .

 

125

28. Варисторы с малым коэффициентом нелинейности..

 

129

29. Варисторы с большим коэффициентом нелинейности

 

132

30. Металлоксидные варисторы некоторых зарубежных марок

135

31.

Применение

 

металлоксидных

варисторов

 

141

32.

Пробой

варисторов

 

 

 

 

 

 

 

 

151

З а к л ю ч е н и е

 

 

 

. . .

 

 

 

 

 

 

 

 

154

Список

условных

обозначений

 

 

 

 

 

 

 

155

Список

литературы

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

156