- •Введение
- •1. Физические основы работы приборов твердотельной электроники
- •1.1. Зонная структура полупроводников
- •1.2. Собственные и примесные полупроводники
- •1.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках. Концентрация носителей заряда и положение уровня Ферми
- •1.4. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •1.5. Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •1.6. Определение положения уровня Ферми
- •1.7. Проводимость полупроводников
- •1.8. Токи в полупроводниках
- •1.9. Неравновесные носители. Генерация и рекомбинация носителей
- •1.10. Уравнение непрерывности
- •1.11. Электрические поля в кристаллах
- •2. Контактные явления
- •2.1. Разновидности электрических переходов и контактов
- •2.2. Электронно-дырочный переход
- •Равновесия
- •2.2.2. Контактная разность потенциалов
- •2.2.3. Ширина p-n-перехода
- •2.2.4. Прямое включение р-n-перехода
- •2.2.5. Уровень инжекции
- •2.2.6. Обратное включение р-n-перехода
- •2.2.7. Теоретическая вольт-амперная характеристика
- •2.2.8. Вольт-амперная характеристика реального
- •2.2.9. Вольт-амперная характеристика р-п-перехода в полулогарифмических координатах
- •2.2.10. Пробой р-п-перехода
- •2.2.11. Емкость p-n-перехода
- •2.2.12. Переходные процессы в p-n-переходах
- •2.2.13. Частотные свойства p-n-перехода
- •2.2.14. Эквивалентные схемы р-п-перехода
- •2.2.15. Влияние температуры на свойства
- •2.3. Разновидности электрических переходов
- •2.3.1. Гетеропереходы
- •2.3.2. Контакт полупроводников с одним типом электропроводности
- •2.3.3. Контакт металл – полупроводник. Барьер Шоттки
- •2.3.4. Омические контакты
- •2.3.5. Явления на поверхности полупроводников
- •3.2. Область пространственного заряда в равновесных условиях
- •3.3. Приповерхностная область пространственного заряда
- •3.4. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в идеальной
- •3.5. Вольт-фарадные характеристики идеальной
- •3.5.1. Емкость области пространственного заряда
- •3.5.2. Емкость мдп-структур
- •3.6. Компоненты заряда в реальном диоксиде кремния и их влияние на вфх мдп-структуры
- •3.7. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в реальной
- •3.8. Определение параметров мдп-структур на основе анализа c-V характеристик
- •4. Полупроводниковые диоды
- •4.1. Методы изготовления полупроводниковых диодов
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Варикапы
- •4.4. Стабилитроны
- •4.5. Туннельный и обращенный диоды
- •4.6. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •4.7. Импульсные диоды
- •5. Биполярные транзисторы
- •5.1. Структура и основные режимы работы
- •5.2. Схемы включения транзистора
- •5.3. Основные физические процессы в биполярных транзисторах
- •5.4. Модуляция сопротивления базы
- •5.5. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •Как четырехполюсник
- •5.6. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •5.7. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общей базой
- •5.8. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общим эмиттером
- •5.9. Малосигнальные параметры биполярного транзистора
- •5.9.1. Система z-параметров
- •5.9.2. Система y-параметров
- •5.9.3. Система h-параметров
- •5.10. Частотные и импульсные свойства транзисторов
- •6. Тиристоры
- •6.1. Структура и принцип действия
- •6.2. Основные параметры тиристоров
- •6.3. Феноменологическое описание вах динистора
- •6.4. Способы включения и выключения тиристоров
- •7. Полевые транзисторы и приборы с зарядовой связью
- •7.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •7.3. Эффект смещения подложки
- •7.4. Эквивалентная схема мдп‑транзистора
- •7.5. Подпороговые характеристики мдп-транзистора
- •7.6. Приборы с зарядовой связью
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
2.2.11. Емкость p-n-перехода
Любая система, в которой при изменении потенциала меняется электрический заряд Q, обладает емкостью. Величина емкости С определяется соотношением .
Для p-n-перехода можно выделить два типа зарядов: заряд в области пространственного заряда ионизованных доноров и акцепторов QB и заряд инжектированных носителей в базу из эмиттера Qp. При различных смещениях на p-n-переходе при расчете емкости будет доминировать тот или иной заряд. В связи с этим для емкости p-n-перехода выделяют барьерную емкость CB и диффузионную емкость CD.
Барьерная емкость CB – это емкость p-n-перехода при обратном смещении VG < 0, обусловленная изменением заряда ионизованных доноров в области пространственного заряда.
. (2.61)
Величина заряда ионизованных доноров и акцепторов QB на единицу площади для несимметричного p-n-перехода равна
(2.62)
Дифференцируя выражение (2.6 2), получаем
. (2.63)
Из уравнения (2.63) следует, что барьерная емкость CB представляет собой емкость плоского конденсатора, расстояние между обкладками которого равно ширине области пространственного заряда W. Поскольку ширина ОПЗ зависит от приложенного напряжения VG, то и барьерная емкость также зависит от приложенного напряжения. Численные оценки величины барьерной емкости показывают, что ее значение составляет десятки или сотни пикофарад.
Барьерную емкость резкого p-n-перехода можно записать в виде
. (2.64)
В общем случае зависимость зарядной емкости от приложенного к p-n-переходу обратного напряжения выражается формулой
. (2.65)
где С0 – емкость p-n-перехода при Uобр = 0; – коэффициент, зависящий от типа p-n-перехода (для резких p-n-переходов = 1/2, а для плавных = 1/3).
Зарядная емкость увеличивается с ростом NА и NД, а также с уменьшением обратного напряжения.
Диффузионная емкость CD – это емкость p‑n-перехода при прямом смещении VG > 0, обусловленная изменением заряда инжектированных носителей в базу из эмиттера Qp.
, (2.66)
Заряд инжектированных носителей, например дырок в п-области, определяется как
. (2.67)
Тогда диффузионная емкость, обусловленная изменением общего заряда неравновесных дырок в п-области, определится по формуле
. (2.68)
Аналогично диффузионная емкости, обусловленная инжекцией электронов в р-область,
. (2.69)
Общая диффузионная емкость
. (2.70)
Полная емкость p-n-перехода определяется суммой зарядной и диффузионной емкостей:
. (2.71)
Зависимость емкости p-n-перехода от напряжения называется вольт-фарадной характеристикой (рис. 2.24). При отрицательных напряжениях и в окрестности нуля преобладает барьерная емкость, при больших положительных – диффузионная.
Зависимость барьерной емкости СB от приложенного обратного напряжения VG используется для приборной реализации. Полупроводниковый диод, реализующий эту зависимость, называется варикапом.
Рис. 2.24. Зависимость емкостей p-n-перехода от напряжения.