Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Методическое пособие 565

.pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
30.04.2022
Размер:
2.42 Mб
Скачать

#далее на готовую структуру наносится пассивирующая пленка из нитрида кремния (толщина пленки 0,15 мкм от наивысшей точки структуры)

deposit nitride thickness=0.15 max

#команда создает тетраэдрическую сетку для дальнейшего расчета в

Victory Device (victory(conformal)) и сохраняет готовую структуру в файл export victory(conformal) structure="tft1_0.str"

#Далее для построенной структуры моделируются выходные и передаточные вольт-амперные характеристики – моделирование проводится в модуле Victory Device; для ускорения процесса проводятся вычисления с использованием распределенной арифметики (80 бит)

go victorydevice simflags="-80"

#настройки сетки структуры берутся из созданного выше файла tft1_0.str; метод hybrid говорит о том, что результирующий поток через поверхность с параллельными границами равен нулю (метод улучшает сходимость вычислений); команда prism позволяет распознавать (где это возможно) призматические элементы; команда delaunay определяет так называемые состояния Делоне (ни одна из точек набора S не попадает внутрь ни одной из описанных вокруг полученных треугольников окружностей) и использует метод «ящика», при котором вокруг требуемого узла формируется пространство соединением центров описанных окружностей окружающих элементов; verbose определяет уровень детализации сетки

mesh inf="tft1_0.str" hybridx prism delaunay verbose=2

#команда interface позволяет настроить параметры границ областей прибора; в данном случае указано, что настройки относятся к границе полупровод-

ник-диэлектрик (s.i); плотность заряда в окисле на границе с полупроводником постоянна и равна 3×1010 см-2

interface s.i qf=3e10

#команда contact определяет физические настройки электродов; если для какого-либо электрода данный параметр не задан, электрод по умолчанию станет омическим; в данном случае определена работа выхода электрода затвора

(4,3 эВ)

contact name=gate workf=4.3

#команда material позволяет определять свойства выбранных материалов

#для нитрида кремния задается диэлектрическая проницаемость (ε = 6)

#для кремния ширина запрещенной зоны при 300 К задана как 1,75 эВ, плотность состояний в зоне проводимости при 300 К равна 1×1021 см-3; плотность состояний в валентной зоне при 300 К равна 1×1021 см-3; диэлектрическая

проницаемость кремния ε = 11,8; время жизни электронов при рекомбинации Шоккли-Рида-Холла taun0 равно 2×10-8 с, дырок - 2×10-8 с

#

подвижность электронов в кремнии составляет 0,5 см2/В×с;

дырок – 0,01 см2/В×с;

#

в настройках подвижности задаются параметры скорости насыщения для

электронов и дырок (vsat = 2×106 см/с)

30

material material=nitride permit=6.0

material material=silicon eg300=1.75 nc300=1e21 nv300=1e21 permit=11.8\ taun0=2e-8 taup=2e-8

material material=silicon mun=0.5 mup=0.01 mobility vsatn=2e6 vsatp=2e6

#команда defects настраивает моделирование дефектов в запрещенной зоне; параметр cont обеспечивает обратную совместимость с редактором Atlas;

#дальнейшие настройки касаются акцептор-подобных ловушек: nta задает относительную плотность (см-3×эВ-1) состояний на границе зоны проводимости в хвосте экспоненциального расщепления акцептор-подобных ловушек; wta задает характерную энергию расщепления (эВ) для экспоненциального расщеп-

ления хвоста зоны для акцептор-подобных ловушек; nga задает относительную плотность акцептор-подобных ловушек (см-3×эВ-1) для пика Гауссового распределения; wga задает характерную энергию распада акцептор-подобных ловушек в Гауссовом распределении; sigtae определяет сечение захвата электронов

на экспоненциальном хвосте распределения акцептор-подобных ловушек или акцептор-подобные ловушки, возникшие под воздействием радиации (см2); sigtah задает сечение захвата дырок на экспоненциальном хвосте распределе-

ния акцептор-подобных ловушек или акцептор-подобные ловушки, возникшие под воздействием радиации (см2); siggae определяет сечение захвата электронов в Гауссовом распределении для акцептор-подобных ловушек (см2); siggah зада-

ет сечение захвата дырок в Гауссовом распределении для акцептор-подобных ловушек (см2); numa задает число энергетических уровней, используемых для моделирования акцепторных дефектов; numd задает число энергетических уровней, используемых для моделирования донорных дефектов;

defect cont nta=5e19 wta=0.06 nga=2.75e16 ega=0.85 wga=0.5 \ sigtae=1e-17 sigtah=1e-15 siggae=1e-17 siggah=1e-15 \ numa=12 numd=0

#дальнейшие настройки касаются донор-подобных ловушек: ntd (см-3×эВ-1) определяет относительную плотность состояний на границе валентной зоны на хвосте экспоненциального расщепления донор-подобных состояний; wtd определяет характерную энергию расщепления (эВ) для экспоненциального хвоста распределения донор-подобных состояний; … (см. выше аналогично параметрам для акцепторов)

defect cont ntd=1e20 wtd=0.11 ngd=1e17 egd=0.85 wgd=0.5 \ sigtde=1e-15 sigtdh=1e-19 siggde=1e-15 siggdh=1e-19 \ numd=12 numa=0

#команда intdefects подключает моделирование дефектов на границе запрещенной зоны и задает параметры модели; данная модель обычно используется для моделирования тонкопленочных транзисторов; s.i показывает, что моделирование будет происходить на всех границах полупроводник-диэлектрик; egd определяет энергию, соответствующую пику Гауссового распределения для донор-подобных состояний (отсчитывается от границы валентной зоны); (рас-

31

шифровки остальных команд рассмотрены выше для акцептор-подобных дефектов)

intdefect s.i cont nta=0 ntd=1e0 wtd=0.065 ngd=7e11*0.17 \ egd=1.25 wgd=0.2 sigtde=1e-16 sigtdh=1e-16 \ siggde=1e-15 siggdh=1e-15 numa=0 numd=24

#команда models определяет, какие физические механизмы и модели будут задействованы при моделировании; bbt.kla выбирает туннелирование «зоназона» с использованием значений Клаассена;

models bbt.kl e.field.derivs

#команда method определяет численные методы, которые будут использоваться для расчета выражений, и устанавливает параметры для этих методов; maxtraps определяет максимальное количество подходов для расчета каждого уменьшения смещения для более точной сходимости расчета; pam.gmres указывает на то, что линейные расчеты будут получены с использованием метода распараллеленных GMRES (gmres - линейные вычисления, получаемые с использованием метода обобщения минимального остатка); norm.scaling.local указывает на то, что нормы правила правой стороны приведены к безразмерному виду и масштабируются по значению конкретной ячейки моделирования (обычно используется при 3D моделировании)

method maxtrap=4 pam.gmres norm.scaling.local

#команда output позволяет задавать переменные, которые будут сохраняться в выходной файл структуры; в данном случае сохраняется u.bbt (компонента, ответственная за туннелирование зона-зона, взятая из величины рекомбинации);

output u.bbt

#команда solve указывает модулю Victory Device на начало расчета в заданных параметрах

#initial устанавливает все значения напряжения в 0 В; если этот параметр не задан для первой точки смещения напряжения (или другого расчетного параметра), параметр solve initial задается неявно; параметр solve initial всегда осуществляет расчет в режиме приложения нулевых смещений без приложения внешних воздействий; в результате обеспечивается хорошее начальное приближение расчетов

#параметр previous говорит о том, что в новом расчете в первом приближении будут использованы параметры первого приближения из более раннего расчета

solve init solve previous

#первый расчет проводится при напряжении на стоке 0,1 В

#команда save выполняет 2 функции: 1) выводит всю информацию с узловых точек в выходной файл структуры (всегда сохраняются границы областей, электроды, сетка и степень легирования), если параметр используется вместе с параметром solve, вся информация по электрическому моделированию в дан-

32

ном блоке решения сохраняется также; 2) выводит плотность и степень ионизации для ловушек и дефектов в log-файл

#vstep определяет приращение смещения в блоке измерения

#name идентифицирует электрод, к которому прикладывается воздействие, по его имени

#outfile определяет название файла структуры, в котором сохраняются выходные данные

#vfinal – конечная величина смещения напряжения в данном блоке расчета solve vdrain=0.1

save outfile=tft1_1.str solve vdrain=1

solve vstep=1 vfinal=5 name=drain previous save outfile=tft1_2.str

solve vstep=1 vfinal=10 name=drain previous save outfile=tft1_3.str

solve vstep=1 vfinal=15 name=drain previous save outfile=tft1_4.str

solve vstep=1 vfinal=20 name=drain previous save outfile=tft1_5.str

#load подгружает предыдущий расчет из файла в качестве начального приближения для последующей точки смещения

#infile указывает на имя файла структуры, который будет использован в качестве входного

#master указывает на то, что входной файл выполнен в формате Silvaco SDB ASCII; данный флаг в Victory Device используется для совместимости с

Atlas

#log указывает файл, куда будут сохраняться все внешние характеристики при расчете; расчеты на постоянном токе, на переменном токе или передаточные характеристики, построенные в параметре solve, далее сохраняются в log- файле; если log-файл вовремя сохранения информации уже был открыт, открытый файл закроется, а новый будет открыт

#outfile определяет имя log-файла

#off завершает внесение информации в открытый log-файл load infile=tft1_1.str master

log outfile=tft1_1_rev.log

solve vgate=0 vstep=-1 vfinal=-30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_2.str master log outfile=tft1_2_rev.log

solve vgate=0 vstep=-1 vfinal=-30 name=gate previous log off

#

33

load infile=tft1_3.str master log outfile=tft1_3_rev.log

solve vgate=0 vstep=-1 vfinal=-30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_4.str master log outfile=tft1_4_rev.log

solve vgate=0 vstep=-1 vfinal=-30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_5.str master log outfile=tft1_5_rev.log

solve vgate=0 vstep=-1 vfinal=-30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_1.str master log outfile=tft1_1_fwd.log

solve vgate=0 vstep=1 vfinal=30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_2.str master log outfile=tft1_2_fwd.log

solve vgate=0 vstep=1 vfinal=30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_3.str master log outfile=tft1_3_fwd.log

solve vgate=0 vstep=1 vfinal=30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_4.str master log outfile=tft1_4_fwd.log

solve vgate=0 vstep=1 vfinal=30 name=gate previous log off

#

load infile=tft1_5.str master log outfile=tft1_5_fwd.log

solve vgate=0 vstep=1 vfinal=30 name=gate previous log off

#

# Расчет выходной вольт-амперной характеристики с использованием ранее полученных данных для напряжений сток-исток и затвор-исток

#

34

solve init solve vgate=0

save outfile=tft1_6.str solve vgate=5

save outfile=tft1_7.str solve vgate=10

save outfile=tft1_8.str solve vgate=15

save outfile=tft1_9.str solve vgate=20

save outfile=tft1_10.str solve vgate=25

save outfile=tft1_11.str solve vgate=30

save outfile=tft1_12.str

#

load infile=tft1_6.str master log outfile=tft1_6.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_7.str master log outfile=tft1_7.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_8.str master log outfile=tft1_8.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_9.str master log outfile=tft1_9.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_10.str master log outfile=tft1_10.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_11.str master log outfile=tft1_11.log

35

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_12.str master log outfile=tft1_12.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

# Расчет обратной ветви (смена положения истока и стока); команды аналогичны рассмотренным выше

go victorydevice simflags="-80 -P 10"

#

mesh infile="tft1_0_noSD.str" hybridx prism delaunay verbose=2

#

electrode name=source region=1 electrode name=drain region=2

#

interface s.i qf=3e10

#

contact name=gate workf=4.3

#

material material=nitride permit=6.0

material material=silicon eg300=1.75 nc300=1e21 nv300=1e21 \ permit=11.8 taun0=2e-8 taup=2e-8

material material=silicon mun=0.5 mup=0.01 mobility vsatn=2e6 vsatp=2e6

#

defect cont nta=5e19 wta=0.06 nga=2.75e16 ega=0.85 wga=0.5 \ sigtae=1e-17 sigtah=1e-15 siggae=1e-17 siggah=1e-15 \ numa=12 numd=0

#

defect cont ntd=1e20 wtd=0.11 ngd=1e17 egd=0.85 wgd=0.5 \ sigtde=1e-15 sigtdh=1e-19 siggde=1e-15 siggdh=1e-19 numd=12 \ numa=0

#

intdefect s.i cont nta=0 ntd=1e0 wtd=0.065 ngd=7e11*0.17 \ egd=1.25 wgd=0.2 sigtde=1e-16 sigtdh=1e-16 \ siggde=1e-15 siggdh=1e-15 numa=0 numd=24

#

models bbt.kl e.field.derivs

#

method maxtrap=4 pam.gmres norm.scaling.local

#

36

output u.bbt

#

solve init solve vgate=0

save outfile=tft1_13.str solve vgate=10

save outfile=tft1_14.str solve vgate=20

save outfile=tft1_15.str solve vgate=30

save outfile=tft1_16.str

#

load infile=tft1_13.str master log outfile=tft1_13.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_14.str master log outfile=tft1_14.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_15.str master log outfile=tft1_15.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

#

load infile=tft1_16.str master log outfile=tft1_16.log

solve vdrain=0 vstep=0.5 vfinal=25 name=drain log off

# tonyplot определяет переход к модулю построения графиков

(рис. 18 – 20)

#overlay накладывает построенные кривые одна на другую

tonyplot -overlay tft1_1_fwd.log tft1_2_fwd.log tft1_3_fwd.log tft1_4_fwd.log

tft1_5_fwd.log tft1_1_rev.log tft1_2_rev.log tft1_3_rev.log tft1_4_rev.log tft1_5_rev.log -set tft1_0.set

37

Рис. 18. Прямая и обратная ветви ВАХ тонкопленочного транзистора

tonyplot -overlay tft1_6.log tft1_7.log tft1_8.log tft1_9.log tft1_10.log tft1_11.log tft1_12.log -set tft1_1.set

Рис. 19. Семейство прямых ветвей выходной характеристики тонкопленочного транзистора

tonyplot -overlay tft1_13.log tft1_6.log tft1_14.log tft1_8.log tft1_15.log tft1_10.log tft1_16.log tft1_12.log -set tft1_2.set

38

Рис. 20. Семейство прямых ветвей выходной характеристики тонкопленочного транзистора при изменении положения стока и истока

#tonyplot3d определяет построение структуры в 3D режиме (рис. 21) tonyplot3d tft1_0.str -set tft1_3.set

39